JPH05115858A - エアー洗浄機 - Google Patents

エアー洗浄機

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Publication number
JPH05115858A
JPH05115858A JP3133487A JP13348791A JPH05115858A JP H05115858 A JPH05115858 A JP H05115858A JP 3133487 A JP3133487 A JP 3133487A JP 13348791 A JP13348791 A JP 13348791A JP H05115858 A JPH05115858 A JP H05115858A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
fine particles
cleaning chamber
cleaned
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP3133487A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Sotodani
哲夫 外谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Orion Machinery Co Ltd
Original Assignee
Orion Machinery Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Orion Machinery Co Ltd filed Critical Orion Machinery Co Ltd
Priority to JP3133487A priority Critical patent/JPH05115858A/ja
Publication of JPH05115858A publication Critical patent/JPH05115858A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被洗浄物に付着している微粒子の要因である
湿気及び静電気を除去することにより、微粒子をエアー
により洗浄する。 【構成】 ケーシングで覆われた室内を仕切板を介して
恒温空気供給室とエアー洗浄室と2室に区画し、それぞ
れの室を連通させると共に恒温空気供給室内に空気循環
用のファン及び空気加熱手段を設置した装置において、
前記エアー洗浄室の上流側にフィルターを装着すると共
にエアー洗浄室の下流側にスノコ等の空気透過性載置手
段を装着し、さらにエアー洗浄室内に圧縮空気噴出ノズ
ル及び空気中にイオンを放出して正電荷を除去する除電
装置とを設置し、恒温空気供給室を区画するケーシング
にあけられた排気口及び吸気口に該口を開閉するダンパ
ーとを装着したエアー洗浄機。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医療関係(液体窒素、
液体酸素の供給),半導体産業の製造又は空気の供給等
に使用されるバルブの最終仕上げ用のエアー洗浄機に関
するものである。
【0004】エアーバルブ等に付着している微粒子の要
因としては、次のようなものがあるといわれている。 湿気による表面張力の作用により付着する場合。 被洗浄物が帯びている電荷により付着する場合。 被洗浄物の表面の粗さにより付着する場合。
【0005】
【従来技術】従来のこの種の洗浄方法としては、風速20
〜25m/sec.程度のパンカールーバーから吹き出させるエ
アーブロー方式や、フィルターで除塵した圧縮空気を4
〜6kg/cm2で吹き出させる方式がとられている。これら
の方法により、被洗浄物の表面の粗さにより付着してい
る微粒子を除去している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の方式では物体に表面張力で付着している微粒子及
び静電気により付着している微粒子については充分に除
去することができないといった不都合がある。そこで本
発明はかかる従来技術の欠点に鑑みなされたもので表面
張力や静電気により付着している微粒子をも除去するこ
とのできるエアー洗浄機を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、ケー
シングで覆われた室内を仕切板を介して恒温空気供給室
とエアー洗浄室と2室に区画し、それぞれの室を連通さ
せると共に恒温空気供給室内に空気循環用のファン及び
空気加熱手段を設置すると共に、前記エアー洗浄室の上
流側に装着されたフィルターと、エアー洗浄室の下流側
に装着されたスノコ等の空気透過性載置手段と、エアー
洗浄室内に設置された圧縮空気噴出ノズル及び空気中に
イオンを放出して正電荷を除去する除電装置と、恒温空
気供給室を区画するケーシングにあけられた排気口及び
吸気口を装着したダンパーとを有するエアー洗浄機によ
り本目的を達成する。
【0008】
【作用】本発明にかかる装置では、空気透過性載置手段
上に被洗浄物を載置し、装置を作動させる。すると循環
ファンにより吹き出された空気は、加熱手段により加熱
され、さらに洗浄室の上流側に設置されたフィルターに
より除湿、除塵されて洗浄室内に流入する。洗浄室内で
は、被洗浄物に向けて圧縮空気噴出ノズルから乾燥され
た圧縮空気が噴出される結果、被洗浄物の湿気による微
粒子の付着力が弱められ、洗浄室中に散乱する。また洗
浄室内では、除電装置も作動している関係から、空気中
に負電荷が供給され、被洗浄物に帯電している正電荷が
除去され、静電化による微粒子の付着力が弱まり、空気
中に微粒子が散乱する。空気中に散乱した微粒子は、空
気透過性載置手段を通過して恒温空気供給室内に導かれ
る。恒温空気供給室内に導かれた微粒子を含んだ空気は
一部排出口を介して外部に排出され、また一方で吸気口
から外気が室内に導入される。
【0009】外気が導入された空気は再び、加熱手段に
より加熱され相対湿度の低い空気となってフィルターを
介して洗浄室に導かれる。
【0010】
【実施例】以下に本発明を図面に示された1実施例に従
って詳細に説明する。1は、装置を覆うケーシングであ
り、該ケーシング1内は仕切板2,3により仕切られて
おり、恒温空気供給室4と洗浄室5とに区画されてい
る。恒温空気供給室4内には、空気循環用のファン6
と、洗浄室5内に設置された温度センサー7、該温度セ
ンサー7からの検出温度に基づき電気ヒータ8に所定の
電力を供給する温度コントローラー9及び電気ヒータ8
とからなる加熱手段が設置されている。
【0011】恒温空気供給室4と洗浄室5との連通口
は、上流側(図の上)は、微生物をも除去する機能を有
する0.5ミクロン程度のヘパフィルターからなる高性能
フィルター10が装着されており、また下流側はスノコ
状の空気透過性載置手段12が装着されており、該空気
透過性載置手段12上に被洗浄物が載置される。洗浄室
5内には、空気中にイオンを放出するための除電装置1
4(パルスDCシステム イオナイザー(北川工業株式
会社))が装着されており、また圧縮空気供給手段、電
磁弁16、フィルター18を介して供給される高温乾燥
空気を噴出するための圧縮空気噴出ノズル20も装着さ
れている。ここで、除電装置14は、洗浄室5内のイオ
ン量を検知するセンサー手段22からの検知結果に基づ
き制御装置24が除電装置14の作動がON-OFFされる。
また圧縮空気噴出ノズル20は、空気透過性載置手段1
2上に被洗浄物が載置されている時に電磁弁が開放され
て圧縮空気が噴出されるようになっている。
【0012】26は、ケーシング1の側壁にあけた吸気
口28の内側に装着されたダンパーであり、30は同じ
くケーシング1の側壁にあけた排気口32の外側に設置
されたダンパーである。吸気口28には、外気の空気を
清浄するためのフィルター34が設置されている。尚、
本実施例にかかる装置では、空気循環用のファン6によ
り吸気口28から空気を吸引して室内に空気を循環する
ように構成しているので、室内は常に陽圧に保たれてお
り、その結果排気口30から微粒子を含んだ空気が排出
されるようになっている。
【0013】以上述べた構成において、本実施例にかか
る装置では洗浄室5内の温度を常温から80℃内の温度
に設定した状態で作動させると、温度センサー7により
温度を検出しながら温度コントローラー9が作動して電
気ヒータ8をON-OFFしながら温度調節する。その結果、
洗浄室5内は、一定の温度に保たれ、空気循環用のファ
ン6の作用により空気は、恒温空気供給室4→洗浄室5
→恒温空気供給室4と循環する。
【0014】空気は循環する際に、まず洗浄室5の上流
側に設置された高性能フィルター10により、塵や湿気
が除去され空気透過性載置手段12上に載置されたバル
ブ32に向けて吹き付けられる。また、洗浄室5内には
圧縮空気噴出ノズル20から乾燥空気が、被洗浄物32
に対して吹き付けられる関係から洗浄物に付着している
湿気が取り除かれ、表面張力による付着力が減殺され
る。さらに室5内には、除電装置14からイオンが放出
されるので、被洗浄物に帯電している正電荷を相殺除去
することができ、静電気による付着力が減殺される。
尚、本実施例にかかる装置では、センサー手段22によ
り空気中のイオン濃度を検出し、制御装置24が洗浄室
5内に過剰なイオンが放出されないように構成されてい
る関係から、被洗浄物が負電荷に帯電することはない。
【0015】以上のようにして、洗浄室5内に配置され
た被洗浄物の付着力の要因となる湿気及び正電荷が除去
されているので、空気の吹き付け作用により被洗浄物に
付着した微粒子は空気中に飛散され、空気透過性載置手
段12を介して恒温空気供給室4内に導かれる。恒温空
気供給室4内に入った空気は、本装置内が陽圧となるよ
うに維持されている関係から、一部の微粒子を含んだ空
気は、排気口30を介して外へ排出される。また、空気
循環用のファン6の吸引作用により、ダンパー26が開
放されフィルター34、吸気口28を介して室4内に外
気が導入される。
【0016】
【効果】以上述べたように本発明にかかるエアー洗浄装
置では、被洗浄物への微粒子の付着要因である湿気と静
電気とを除去すると共に、洗浄室内に清浄空気を供給す
ることにより付着した微粒子を除去するように構成した
ので、従来の装置では不可能であった微粒子の除去が可
能となり、衛生的なバルブ等の製品を供給することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる装置の実施例を示す縦断面図で
ある。
【図2】図1のI−I断面図である。
【符号の説明】
1 ケーシング 2,3 仕切板 4 恒温空気供給室 5 洗浄室 6 ファン 7 温度センサー 8 電気ヒータ 9 温度コントローラー 10 高性能フィルター 12 空気透過性載置手段 14 除電手段 16 電磁弁 18 フィルター 20 圧縮空気噴出ノズル 22 センサー手段 24 制御装置 26,30 ダンパー 28 吸気口 32 排気口

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ケーシングで覆われた室内を仕切板を介
    して恒温空気供給室とエアー洗浄室と2室に区画し、そ
    れぞれの室を連通させると共に恒温空気供給室内に空気
    循環用のファン及び空気加熱手段を設置すると共に、前
    記エアー洗浄室の上流側に装着されたフィルターと、エ
    アー洗浄室の下流側に装着されたスノコ等の空気透過性
    載置手段と、エアー洗浄室内に設置された圧縮空気噴出
    ノズル及び空気中にイオンを放出して正電荷を除去する
    除電装置と、恒温空気供給室を区画するケーシングにあ
    けられた排気口及び吸気口に装着されたダンパーとを有
    するエアー洗浄機。
  2. 【請求項2】 前記圧縮空気噴出ノズルが、エアー洗浄
    室内に被洗浄物を置いたときに噴出するように構成され
    ている請求項1記載のエアー洗浄機。
  3. 【請求項3】 吸気口にエアーフィルターが装着されて
    いる請求項1記載のエアー洗浄機。
JP3133487A 1991-05-09 1991-05-09 エアー洗浄機 Pending JPH05115858A (ja)

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JP3133487A JPH05115858A (ja) 1991-05-09 1991-05-09 エアー洗浄機

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JP3133487A Pending JPH05115858A (ja) 1991-05-09 1991-05-09 エアー洗浄機

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6647998B2 (en) * 2001-06-20 2003-11-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. Electrostatic charge-free solvent-type dryer for semiconductor wafers
WO2011091650A1 (zh) * 2010-01-29 2011-08-04 东莞宏威数码机械有限公司 激光刻线除尘设备及除尘方法
CN103116177A (zh) * 2013-02-06 2013-05-22 北京邦鑫伟业技术开发有限公司 正比计数器清洗装置及清洗方法
CN113275316A (zh) * 2021-05-07 2021-08-20 广东电网有限责任公司广州供电局 清洁设备

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