JPH05107263A - 半導体加速度センサ及びその製造方法 - Google Patents

半導体加速度センサ及びその製造方法

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JPH05107263A
JPH05107263A JP3296253A JP29625391A JPH05107263A JP H05107263 A JPH05107263 A JP H05107263A JP 3296253 A JP3296253 A JP 3296253A JP 29625391 A JP29625391 A JP 29625391A JP H05107263 A JPH05107263 A JP H05107263A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acceleration sensor
package
semiconductor acceleration
shock absorbing
semiconductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP3296253A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Tomioka
昌則 冨岡
Motohide Miyoshi
基秀 三好
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH05107263A publication Critical patent/JPH05107263A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P15/00Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
    • G01P15/02Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
    • G01P15/08Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
    • G01P2015/0805Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
    • G01P2015/0822Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass
    • G01P2015/0825Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass
    • G01P2015/0828Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass the mass being of the paddle type being suspended at one of its longitudinal ends

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  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体加速度センサの耐衝撃性を向上させ
る。 【構成】 半導体加速度センサの金属パッケージ7の周
囲に衝撃吸収用のパッケージ8を設けることにより、パ
ッケージ自体に衝撃緩衝機能を付加する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体加速度センサの
構造、及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5は従来の半導体加速度センサの構造
を示す断面図である。図において、1は台座、2はシリ
コンなど半導体でできたカンチレバービーム、3は前記
カンチレバービーム2の先端に取付けられた重り、4は
前記カンチレバービーム2に設けたゲージ抵抗、5は外
部リード、6は前記ゲージ抵抗4と外部リード5を電気
的に接続するワイヤ、7は金属パッケージである。
【0003】次に動作について説明する。従来の半導体
加速度センサは上記のような構造をしており、重り3の
質量をm,重り3の重心にかかる加速度をaとすると、
重り3の重心には、f=maの力が加わることになる。
次いで、カンチレバービーム2のバネ定数をkとし、変
位をxとすると、ma=kxとなり、カンチレバービー
ム2は加速度aに応じて変位xの位置で釣り合う。そし
てこのxの変位により、カンチレバービーム2に歪みが
生じ、この歪みが生じる位置にゲージ抵抗4を設ける
と、半導体のピエゾ抵抗効果により加速度aに応じてゲ
ージ抵抗の値が変化する。これを前記ワイヤ6と前記外
部リード5を通してパッケージ7の外部に取り出し、加
速度を検出する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体加速度セ
ンサは以上のように構成されているので、衝撃等により
カンチレバービーム2が破損しやすく、もろいという問
題点があった。
【0005】本発明は上記のような問題点を解消するた
めになされたもので、耐衝撃性を向上させることを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体加速
度センサは、耐衝撃性向上のため、センサのパッケージ
を2重構造とし、パッケージ自体に衝撃吸収作用をもた
せたものである。
【0007】
【作用】この発明における半導体加速度センサは、金属
パッケージの周囲にさらに衝撃吸収用のパッケージング
を行い、衝撃をパッケージ自体で吸収させることによ
り、カンチレバービームに直接破壊的な衝撃が加わるの
を防止する。
【0008】
【実施例】
実施例1.以下、この発明の実施例を図を用いて説明す
る。図1は本発明における半導体加速度センサの構造を
示す断面図である。尚従来技術と同一部分については同
一符号により示すものとする。8は金属パッケージ7の
周囲に設けた衝撃吸収用のパッケージである。
【0009】次に動作について説明する。重り3の質量
をm,重り3の重心にかかる加速度をaとすると重り3
の重心には、f=maの力が加わることになる。次いで
カンチレバービーム2のバネ定数をkとし、変位をxと
すると、ma=kxとなりカンチレバービーム2は加速
度aに応じて変位xの位置でつりあう。このxの変位に
より、カンチレバービーム2に歪みが生じる。この歪み
が生じる位置にゲージ抵抗4を設けると半導体のピエゾ
抵抗効果により加速度aに応じてゲージ抵抗の値が変化
する。これを前記ワイヤ6と前記外部リード5を通して
パッケージ7の外部に取り出し加速度を検出する。ここ
において、外部から衝撃が加わったとき、衝撃は一旦パ
ッケージ8により吸収され、カンチレバービーム2には
直接衝撃が伝わらないため、本加速度センサの破損を防
止できる。
【0010】実施例2.次に衝撃吸収用パッケージの製
造方法について説明する。図2は衝撃吸収用パッケージ
の製造方法を示すための断面図である。図において、1
1は従来例における半導体加速度センサ、12は金型、
13は前記金型12の一部で前記半導体加速度センサ1
1を固定するためのスペーサ部、14はシリコンゴム等
の衝撃吸収材である。
【0011】本実施例においては、衝撃吸収用パッケー
ジは、金型12内に半導体加速度センサ11を固定し、
その隙間にシリコンゴム14等を流し込み、ゴムが固ま
ったところで金型から加速度センサを取り出して製造す
る。
【0012】実施例3.衝撃吸収用パッケージは、図3
に示すように製造することも可能である。図において、
11は従来例における半導体加速度センサ、15はプラ
スチック等による外部パッケージ、16は外部パッケー
ジ15の一部で、半導体加速度センサ11を固定するた
めのスペーサ部、14はシリコンゴム等の衝撃吸収材で
ある。
【0013】本実施例においては、衝撃吸収用パッケー
ジは、外部パッケージ15内に半導体加速度センサ11
を固定し、その隙間にシリコンゴム14等を流し込み、
ゴムを固めて製造する。
【0014】実施例4.また衝撃吸収用パッケージは、
図4に示すように製造することも可能である。図におい
て、11は従来例における半導体加速度センサ、15は
プラスチック等による外部パッケージ、17は前記半導
体加速度センサ11を固定するためのマット、14はシ
リコンゴム等の衝撃吸収材である。
【0015】本実施例においては、衝撃吸収用パッケー
ジは、外部パッケージ15内にスポンジ等によるマット
17を敷き、その上に半導体加速度センサ11を固定
し、その隙間にシリコンゴム14等を流し込み、ゴムを
固めて製造する。
【0016】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、半導体
加速度センサのパッケージの周囲にさらに衝撃吸収用の
パッケージを設けることにより、半導体加速度センサの
耐衝撃性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における半導体加速度センサの構造を示
す断面図である。
【図2】実施例2による衝撃吸収用パッケージの製造方
法を示すための断面図である。
【図3】実施例3による衝撃吸収用パッケージの製造方
法を示すための断面図である。
【図4】実施例4による衝撃吸収用パッケージの製造方
法を示すための断面図である。
【図5】従来の半導体加速度センサの構造を示す断面図
である。
【符号の説明】
1 台座 2 カンチレバービーム 3 重り 4 ゲージ抵抗 5 外部リード 6 ワイヤ 7 パッケージ 8 衝撃吸収用パッケージ 11 半導体加速度センサ 12 金型 13,16 スペーサ 14 シリコンゴム 15 外部パッケージ 17 マット

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ゲージ抵抗が設けられたカンチレバービ
    ームの先端に重りを取付けると共に他端に台座を取付
    け、装置全体を金属パッケージにより覆うことにより構
    成される半導体加速度センサにおいて、上記金属パッケ
    ージの周囲に衝撃吸収用のパッケージを一体に設けたこ
    とを特徴とする半導体加速度センサ。
  2. 【請求項2】 ゲージ抵抗が設けられたカンチレバービ
    ームの先端に重りを取付けると共に他端に台座を取付
    け、装置全体を金属パッケージにより覆うことにより構
    成される半導体加速度センサにおいて、半導体加速度セ
    ンサを固定するためのスペーサ部が設けられた金型内に
    半導体加速度センサを固定し、上記半導体加速度センサ
    と金型の隙間に衝撃吸収材ムを流し込むことにより、金
    属パッケージの周囲に衝撃吸収用のパッケージを被覆す
    ることを特徴とする半導体加速度センサの製造方法。
  3. 【請求項3】 ゲージ抵抗が設けられたカンチレバービ
    ームの先端に重りを取付けると共に他端に台座を取付
    け、装置全体を金属パッケージにより覆うことにより構
    成される半導体加速度センサにおいて、半導体加速度セ
    ンサを固定するためのスペーサ部が内部に設けられた外
    部パッケージ内に半導体加速度センサを固定し、上記半
    導体加速度センサと金型の隙間に衝撃吸収材を流し込む
    ことにより、金属パッケージの周囲に衝撃吸収用のパッ
    ケージを被覆することを特徴とする半導体加速度センサ
    の製造方法。
  4. 【請求項4】 ゲージ抵抗が設けられたカンチレバービ
    ームの先端に重りを取付けると共に他端に台座を取付
    け、装置全体を金属パッケージにより覆うことにより構
    成される半導体加速度センサにおいて、外部パッケージ
    内にマットを敷き、その上に半導体加速度センサを固定
    し、上記外部パッケージと半導体加速度センサとの隙間
    に衝撃吸収材を流し込むことにより、金属パッケージの
    周囲に衝撃吸収用パッケージを被覆することを特徴とす
    る半導体加速度センサの製造方法。
JP3296253A 1991-10-15 1991-10-15 半導体加速度センサ及びその製造方法 Pending JPH05107263A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023080A1 (de) * 1994-02-28 1995-08-31 Siemens Aktiengesellschaft Sensoreinheit zum steuern eines insassenschutzsystems eines kraftfahrzeugs
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