JPH0510688A - 冶金用容器内におけるクラストの塊状集積の防止方法及び装置 - Google Patents
冶金用容器内におけるクラストの塊状集積の防止方法及び装置Info
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- JPH0510688A JPH0510688A JP3295582A JP29558291A JPH0510688A JP H0510688 A JPH0510688 A JP H0510688A JP 3295582 A JP3295582 A JP 3295582A JP 29558291 A JP29558291 A JP 29558291A JP H0510688 A JPH0510688 A JP H0510688A
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C5/00—Manufacture of carbon-steel, e.g. plain mild steel, medium carbon steel or cast steel or stainless steel
- C21C5/28—Manufacture of steel in the converter
- C21C5/42—Constructional features of converters
- C21C5/46—Details or accessories
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/10—Devices for withdrawing samples in the liquid or fluent state
- G01N1/12—Dippers; Dredgers
- G01N1/125—Dippers; Dredgers adapted for sampling molten metals
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- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 冶金用容器のランス用通路内でのクラストの
塊状集積を防止することができ、容器内容物の物性の測
定ないしサンプリングを容易ならしめるクラストの塊状
集積の防止方法ないし防止装置を提供することを目的と
する。 【構成】 測定用及び(又は)サンプリング用のプローブ
２を搬送するランス３用に設けられたランス用通路１内
におけるクラストの塊状集積の防止方法ないしその装置
であって、冶金用容器５内で進行している冶金プロセス
の期間中、及びランス用通路１を通して冶金用容器５内
に導入されたランス３によって測定及び(又は)サンプリ
ングが実施されている期間中に、冶金用容器５内に保持
された溶融浴に対して不活性であるガス又はエアが外部
からランス通路１内に注入され、上記ガスが、溶融浴と
対向しているランス用通路１の開口部１６にガスベール
３３を生成することを特徴とする。
塊状集積を防止することができ、容器内容物の物性の測
定ないしサンプリングを容易ならしめるクラストの塊状
集積の防止方法ないし防止装置を提供することを目的と
する。 【構成】 測定用及び(又は)サンプリング用のプローブ
２を搬送するランス３用に設けられたランス用通路１内
におけるクラストの塊状集積の防止方法ないしその装置
であって、冶金用容器５内で進行している冶金プロセス
の期間中、及びランス用通路１を通して冶金用容器５内
に導入されたランス３によって測定及び(又は)サンプリ
ングが実施されている期間中に、冶金用容器５内に保持
された溶融浴に対して不活性であるガス又はエアが外部
からランス通路１内に注入され、上記ガスが、溶融浴と
対向しているランス用通路１の開口部１６にガスベール
３３を生成することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、測定用及び(又は)サン
プリング用のプローブを搬送するランスのために設けら
れた、冶金用容器の壁部を貫通するランス用通路内にお
ける、クラスト、とくにスラグクラストの塊状集積の防
止方法、さらには上記方法を実現するための装置に関す
るものである。
プリング用のプローブを搬送するランスのために設けら
れた、冶金用容器の壁部を貫通するランス用通路内にお
ける、クラスト、とくにスラグクラストの塊状集積の防
止方法、さらには上記方法を実現するための装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】炉口近傍において転炉に、該転炉の壁部
を該壁部の上部３分の１以内の部分で貫通するランス用
通路を設けたものは従来より知られている(ヨーロッパ
特許ＥＰ−Ａ１ ０ ０７９ ２９０号参照)。測定用
またはサンプリング用のプローブを備えたランスは、上
記ランス用通路を通して導入されまたは除去されること
ができるようになっている。このようなセパレート型の
ランス用通路は、転炉の炉口をランス用通路として用い
るのが困難であるような場合に好適である。
を該壁部の上部３分の１以内の部分で貫通するランス用
通路を設けたものは従来より知られている(ヨーロッパ
特許ＥＰ−Ａ１ ０ ０７９ ２９０号参照)。測定用
またはサンプリング用のプローブを備えたランスは、上
記ランス用通路を通して導入されまたは除去されること
ができるようになっている。このようなセパレート型の
ランス用通路は、転炉の炉口をランス用通路として用い
るのが困難であるような場合に好適である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら実際に
は、このタイプのランス用通路は、その内部で、スラグ
が転炉の耐火性ライニングとともに非常に安定な化合物
を生成しつつ塊状集積するので、再三合体・閉塞するこ
とが判明している。このような塊状集積物の除去は、ラ
ンス用通路を穴あけすることによって実施するほかはな
いが、このようにすると、冶金用容器の裏張り(lining)
にしばしば損傷を生じさせ、かつ非常な時間の浪費とな
る。また、測定はできるだけ迅速に実施されなければな
らないので、測定の実施に先だつランス用通路の清掃が
むずかしい場合には、上記手法はとくに不利となる。
は、このタイプのランス用通路は、その内部で、スラグ
が転炉の耐火性ライニングとともに非常に安定な化合物
を生成しつつ塊状集積するので、再三合体・閉塞するこ
とが判明している。このような塊状集積物の除去は、ラ
ンス用通路を穴あけすることによって実施するほかはな
いが、このようにすると、冶金用容器の裏張り(lining)
にしばしば損傷を生じさせ、かつ非常な時間の浪費とな
る。また、測定はできるだけ迅速に実施されなければな
らないので、測定の実施に先だつランス用通路の清掃が
むずかしい場合には、上記手法はとくに不利となる。
【０００４】本発明は、このような不具合と困難さとを
解消するためになされたものであって、ランス用通路で
のクラストの合体ないし塊状集積を防止することがで
き、吹練工程中においても、常時支障なく測定またはサ
ンプリングの実施を可能にする、前記のような種類の方
法、及び該方法を実現するための装置を提供することを
目的とする。
解消するためになされたものであって、ランス用通路で
のクラストの合体ないし塊状集積を防止することがで
き、吹練工程中においても、常時支障なく測定またはサ
ンプリングの実施を可能にする、前記のような種類の方
法、及び該方法を実現するための装置を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記目
的は以下のようにして達成される。すなわち、冶金用容
器内で進行している冶金プロセス期間中において、及び
ランス用通路を通して冶金用容器内に導入されたランス
によって測定及び(又は)サンプリングが実施されている
期間中において、冶金用容器内に保持されている溶融浴
(melt bath)に対して不活性であるガス、あるいはエア
が外部からランス用通路内に注入され、上記ガスが、溶
融浴と対向しているランス用通路の開口部にガスベール
を生成する。
的は以下のようにして達成される。すなわち、冶金用容
器内で進行している冶金プロセス期間中において、及び
ランス用通路を通して冶金用容器内に導入されたランス
によって測定及び(又は)サンプリングが実施されている
期間中において、冶金用容器内に保持されている溶融浴
(melt bath)に対して不活性であるガス、あるいはエア
が外部からランス用通路内に注入され、上記ガスが、溶
融浴と対向しているランス用通路の開口部にガスベール
を生成する。
【０００６】本発明にかかる方法は、イナートガスまた
はエアが吹練工程中にランス用通路内に注入される、塩
基性酸素製鋼転炉内での鋼の製造においてとくに有効に
用いられると考えられる。好ましくは、４Ｎm3／minよ
り少ない流量の窒素がイナートガスとして注入される。
はエアが吹練工程中にランス用通路内に注入される、塩
基性酸素製鋼転炉内での鋼の製造においてとくに有効に
用いられると考えられる。好ましくは、４Ｎm3／minよ
り少ない流量の窒素がイナートガスとして注入される。
【０００７】壁部を貫通するランス用通路を含んでいる
冶金用容器を備えた、上記方法を実現するための装置は
以下のような特徴をもつ。すなわち、ランス用通路の横
断面に適合するような横断面を有する略釣り鐘型のガス
案内手段が、ランス用通路内に挿入可能となっており、
かつイナートガスまたはエア用のガス供給部に接続され
ている。ここで、上記ガス案内手段は、その開放端がラ
ンス用通路の内側開口部に向けられており、かつ測定用
及び(又は)サンプリング用のプローブを搬送するランス
が移動できるようになった軸線方向の貫通孔を有してい
る。
冶金用容器を備えた、上記方法を実現するための装置は
以下のような特徴をもつ。すなわち、ランス用通路の横
断面に適合するような横断面を有する略釣り鐘型のガス
案内手段が、ランス用通路内に挿入可能となっており、
かつイナートガスまたはエア用のガス供給部に接続され
ている。ここで、上記ガス案内手段は、その開放端がラ
ンス用通路の内側開口部に向けられており、かつ測定用
及び(又は)サンプリング用のプローブを搬送するランス
が移動できるようになった軸線方向の貫通孔を有してい
る。
【０００８】ランスの導入を迅速化するために、管状の
ランスガイドが、外側からランス用通路内に突出しかつ
ランス用通路に対して移動可能な状態で、略釣り鐘型の
ガス案内手段とランス用通路との間に位置するように好
ましく適応させられる。
ランスガイドが、外側からランス用通路内に突出しかつ
ランス用通路に対して移動可能な状態で、略釣り鐘型の
ガス案内手段とランス用通路との間に位置するように好
ましく適応させられる。
【０００９】好ましい実施態様は、以下のような特徴を
もつ。すなわち、略釣り鐘型のガス案内手段が、ランス
を導入するための軸線方向の貫通孔を構成しかつ所定の
周間距離を隔てて外側チューブによって囲まれる内側チ
ューブを含んでおり、中間チューブが、外側チューブと
内側チューブとの間に挿入されており、外側チューブ
が、該外側チューブと内側チューブとの間の環状の空間
部を閉止する環形の底板によって内側チューブに結合さ
れており、かつ中間チューブの端部が、底板の上方に所
定の距離だけ離間しており、もどり止めリングが、中間
チューブと内側チューブとの間の環状の空間部を閉止す
るとともに、底板から所定の距離だけ離間して配置され
るようにして、中間チューブと内側チューブとの間に設
けられており、半径方向に向けられた数個のガス通路
が、中間チューブと外側チューブとの間であり、かつ高
さ方向に関して底板ともどり止めリングとの間となる位
置に設けられており、さらに、外側チューブが、底板か
ら所定の距離だけ離間した位置で外側チューブに強固に
付設された略釣り鐘型のスリーブによって囲まれてお
り、これによって外側チューブとスリーブとの間にもう
１つの環状のガス流通空間部が形成され、このガス流通
空間部内にガス通路が入り込み、かつガス流通空間部が
底板を含む端部に向かって外向きに開口していることを
特徴とする。
もつ。すなわち、略釣り鐘型のガス案内手段が、ランス
を導入するための軸線方向の貫通孔を構成しかつ所定の
周間距離を隔てて外側チューブによって囲まれる内側チ
ューブを含んでおり、中間チューブが、外側チューブと
内側チューブとの間に挿入されており、外側チューブ
が、該外側チューブと内側チューブとの間の環状の空間
部を閉止する環形の底板によって内側チューブに結合さ
れており、かつ中間チューブの端部が、底板の上方に所
定の距離だけ離間しており、もどり止めリングが、中間
チューブと内側チューブとの間の環状の空間部を閉止す
るとともに、底板から所定の距離だけ離間して配置され
るようにして、中間チューブと内側チューブとの間に設
けられており、半径方向に向けられた数個のガス通路
が、中間チューブと外側チューブとの間であり、かつ高
さ方向に関して底板ともどり止めリングとの間となる位
置に設けられており、さらに、外側チューブが、底板か
ら所定の距離だけ離間した位置で外側チューブに強固に
付設された略釣り鐘型のスリーブによって囲まれてお
り、これによって外側チューブとスリーブとの間にもう
１つの環状のガス流通空間部が形成され、このガス流通
空間部内にガス通路が入り込み、かつガス流通空間部が
底板を含む端部に向かって外向きに開口していることを
特徴とする。
【００１０】
【実施例】以下では、添付の図面に示された実施例によ
り、本発明をさらに詳細に説明する。図１から明らかな
ように、測定用及び(又は)サンプリング用のプローブ２
を備えたランス３を導入しかつ除去するためのランス用
通路１は、炉口６近傍において製鋼用転炉５の壁部４を
貫通している。製鋼用転炉５の壁部４は鋼鉄製の外殻７
を含んでおり、該外殻７の内側には永久裏付８が取り付
けられている。永久裏付８は耐火性の裏張り９によって
被覆されている。ランス用通路１近傍において、耐火性
材料からなる中空のシリンダ部材１０が設けられ、該シ
リンダ部材１０はモノリス状の裏張り材料１１によっ
て、煉瓦積層体中に固定されている。
り、本発明をさらに詳細に説明する。図１から明らかな
ように、測定用及び(又は)サンプリング用のプローブ２
を備えたランス３を導入しかつ除去するためのランス用
通路１は、炉口６近傍において製鋼用転炉５の壁部４を
貫通している。製鋼用転炉５の壁部４は鋼鉄製の外殻７
を含んでおり、該外殻７の内側には永久裏付８が取り付
けられている。永久裏付８は耐火性の裏張り９によって
被覆されている。ランス用通路１近傍において、耐火性
材料からなる中空のシリンダ部材１０が設けられ、該シ
リンダ部材１０はモノリス状の裏張り材料１１によっ
て、煉瓦積層体中に固定されている。
【００１１】ランス用通路１近傍において、転炉５の壁
部４は、フランジ状に突出しているエンドプレート１３
を有する鋼鉄製のソケット１２を含んでいる。中空のシ
リンダ部材１０は、エンドプレート１３の前面にできる
だけ近接するようにして、ソケット１２内に突出してい
る。エンドプレート１３には穴部１４がランス用通路１
と軸線を共有するようにして設けられ、該穴部１４を通
して管状のランスガイド１５が、図１から明らかなよう
に、中空のシリンダ部材１０の内側に挿入されることが
できるようになっている。管状のランスガイド１５の前
端部は、上記シリンダ部材１０の内側開口部１６から、
ランス用通路１の全長のおよそ３分の１の距離を隔てた
位置に配置されている。
部４は、フランジ状に突出しているエンドプレート１３
を有する鋼鉄製のソケット１２を含んでいる。中空のシ
リンダ部材１０は、エンドプレート１３の前面にできる
だけ近接するようにして、ソケット１２内に突出してい
る。エンドプレート１３には穴部１４がランス用通路１
と軸線を共有するようにして設けられ、該穴部１４を通
して管状のランスガイド１５が、図１から明らかなよう
に、中空のシリンダ部材１０の内側に挿入されることが
できるようになっている。管状のランスガイド１５の前
端部は、上記シリンダ部材１０の内側開口部１６から、
ランス用通路１の全長のおよそ３分の１の距離を隔てた
位置に配置されている。
【００１２】ランス用通路１の横断面及びランスガイド
１５の横断面に適合するような横断面を備えた略釣り鐘
型のガス案内手段１７は、ランスガイド１５内に挿入で
きるようになっている。ガス案内手段１７の構造は、図
２及び図３中に詳細に示されている。ガス案内手段１７
は、ランス３を案内するための内側チューブ１９によっ
て形成された軸線方向の貫通孔１８を含み、該貫通孔１
８は、測定及び(又は)サンプリングを実施するために役
立てられる。
１５の横断面に適合するような横断面を備えた略釣り鐘
型のガス案内手段１７は、ランスガイド１５内に挿入で
きるようになっている。ガス案内手段１７の構造は、図
２及び図３中に詳細に示されている。ガス案内手段１７
は、ランス３を案内するための内側チューブ１９によっ
て形成された軸線方向の貫通孔１８を含み、該貫通孔１
８は、測定及び(又は)サンプリングを実施するために役
立てられる。
【００１３】上記内側チューブ１９は、所定の周間距離
２０を隔てつつ外側チューブ２１によって囲まれてお
り、かつ環形の底板２２によって前端部で外側チューブ
２１に強固に結合されている。内側チューブ１９と外側
チューブ２１との間には、中間チューブ２３が挿入さ
れ、該中間チューブ２３の端部は底板２２から上方に所
定の距離だけ離間した位置に配置されている。
２０を隔てつつ外側チューブ２１によって囲まれてお
り、かつ環形の底板２２によって前端部で外側チューブ
２１に強固に結合されている。内側チューブ１９と外側
チューブ２１との間には、中間チューブ２３が挿入さ
れ、該中間チューブ２３の端部は底板２２から上方に所
定の距離だけ離間した位置に配置されている。
【００１４】もどり止めリング２５が、中間チューブ２
３と内側チューブ１９との間に、両チューブ１９,２３
間の空間部を上方に閉止するようにして溶接されてい
る。上記もどり止めリング２５は、底板２２から所定の
距離だけ離間した位置に配置されている。中間チューブ
２３を外側チューブ２１に結び付ける半径方向に向けら
れた数個のガス通路２６が、底板２２の上方でかつもど
り止めリング２５の下方となる位置において、夫々異な
る高さの位置に設けられている。
３と内側チューブ１９との間に、両チューブ１９,２３
間の空間部を上方に閉止するようにして溶接されてい
る。上記もどり止めリング２５は、底板２２から所定の
距離だけ離間した位置に配置されている。中間チューブ
２３を外側チューブ２１に結び付ける半径方向に向けら
れた数個のガス通路２６が、底板２２の上方でかつもど
り止めリング２５の下方となる位置において、夫々異な
る高さの位置に設けられている。
【００１５】略釣り鐘型のスリーブ２７が、外側チュー
ブ２１との間に環状のガス流通空間部２８を形成するよ
うにして、もどり止めリング２５とほぼ同じ高さの位置
で外側チューブ２１に付設されている。上記ガス流通空
間部２８は、下方に向かって、すなわち底板２２の方向
に向かって開放される一方、これと反対方向にはスリー
ブ２７のくびれ部２９によって閉止されている。ここ
で、スリーブ２７はくびれ部２９を介して外側チューブ
２１に溶接されている。上記スリーブ２７は、半径方向
に向けられているすべてのガス通路２６を覆っている。
ブ２１との間に環状のガス流通空間部２８を形成するよ
うにして、もどり止めリング２５とほぼ同じ高さの位置
で外側チューブ２１に付設されている。上記ガス流通空
間部２８は、下方に向かって、すなわち底板２２の方向
に向かって開放される一方、これと反対方向にはスリー
ブ２７のくびれ部２９によって閉止されている。ここ
で、スリーブ２７はくびれ部２９を介して外側チューブ
２１に溶接されている。上記スリーブ２７は、半径方向
に向けられているすべてのガス通路２６を覆っている。
【００１６】上記装置は、以下で説明するように機能す
る。例えば窒素のようなイナートガス、あるいは圧縮さ
れたエアが、中間チューブ２３と外側チューブ２１とに
よって形成された環状のガス流通空間部３０を通して、
４Ｎm3／minより少ない流量で注入される。このガスの
流れは、底板２２近傍において流れ方向を変えられ、内
側チューブ１９と中間チューブ２３との間に形成された
環状の空間部３２内に流れ込む。ここから、上記ガス
は、半径方向に向けられたガス通路２６を経由して、略
釣り鐘型のスリーブ２７と外側チューブ２１との間に設
けられた環状のガス流通空間部２８内に到達し、さらに
このガス流通空間部２８を通って転炉内部に向かって流
れる。ここにおいて、ガスベール３３がランス用通路１
の内側開口部１６内の容器に形成され、スラグの塊状集
積が確実に防止される。
る。例えば窒素のようなイナートガス、あるいは圧縮さ
れたエアが、中間チューブ２３と外側チューブ２１とに
よって形成された環状のガス流通空間部３０を通して、
４Ｎm3／minより少ない流量で注入される。このガスの
流れは、底板２２近傍において流れ方向を変えられ、内
側チューブ１９と中間チューブ２３との間に形成された
環状の空間部３２内に流れ込む。ここから、上記ガス
は、半径方向に向けられたガス通路２６を経由して、略
釣り鐘型のスリーブ２７と外側チューブ２１との間に設
けられた環状のガス流通空間部２８内に到達し、さらに
このガス流通空間部２８を通って転炉内部に向かって流
れる。ここにおいて、ガスベール３３がランス用通路１
の内側開口部１６内の容器に形成され、スラグの塊状集
積が確実に防止される。
【００１７】測定用及び(又は)サンプリング用のプロー
ブ２を備えたランス３は、吹練工程中において転炉５内
に導入されることができ、このときイナートガスのガス
ベール３３が保持され、ランス用通路１に形成されるど
のような塊状集積物によっても測定あるいはサンプリン
グが妨げられることはない。
ブ２を備えたランス３は、吹練工程中において転炉５内
に導入されることができ、このときイナートガスのガス
ベール３３が保持され、ランス用通路１に形成されるど
のような塊状集積物によっても測定あるいはサンプリン
グが妨げられることはない。
【００１８】ランス用通路１の内側開口部１６に生成さ
れるガスベール３３によって、ランス用通路１の煩わし
い清掃から免れられる。これに加えて、ランス用通路１
を閉止するためのスットパ設備を省略することが可能と
なる。さらに、ガスベール３３は、ガス消費量が非常に
少ないのにもかかわらず、待機位置(stand−by positi
on)に置かれたランス３に対して強いプローブ冷却作用
を及ぼし、これによって測定用プローブ２と該測定用プ
ローブ２を搬送するランス３との間の良好な接触が常時
維持され、これによって測定誤差の発生が防止される。
れるガスベール３３によって、ランス用通路１の煩わし
い清掃から免れられる。これに加えて、ランス用通路１
を閉止するためのスットパ設備を省略することが可能と
なる。さらに、ガスベール３３は、ガス消費量が非常に
少ないのにもかかわらず、待機位置(stand−by positi
on)に置かれたランス３に対して強いプローブ冷却作用
を及ぼし、これによって測定用プローブ２と該測定用プ
ローブ２を搬送するランス３との間の良好な接触が常時
維持され、これによって測定誤差の発生が防止される。
【００１９】
【発明の作用・効果】本発明によれば、ランス用通路内
にイナートガスないしエアのガスベールが生成され、こ
のガスベールによってスラグクラストの塊状集積が防止
されるので、冶金用容器内の溶融浴の物性の測定あるい
はサンプリングが容易となり、かつその精度が高められ
る。
にイナートガスないしエアのガスベールが生成され、こ
のガスベールによってスラグクラストの塊状集積が防止
されるので、冶金用容器内の溶融浴の物性の測定あるい
はサンプリングが容易となり、かつその精度が高められ
る。
【図１】 製鋼用転炉の一部断面説明図であって、その
断面が製鋼用転炉の回転軸を通るように設定された図で
ある。
断面が製鋼用転炉の回転軸を通るように設定された図で
ある。
【図２】 本発明にかかる装置の、図１に比べて拡大さ
れた縦断面説明図である。
れた縦断面説明図である。
【図３】 図２に示す装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線断面説明
図である。
図である。
１…ランス用通路
３…ランス
４…壁部
５…冶金用容器
１５…ランスガイド
１６…内側開口部
１７…ガス案内手段
１８…貫通孔
１９…内側チューブ
２１…外側チューブ
２２…底板
２３…中間チューブ
２５…もどり止めリング
２６…ガス通路
２７…スリーブ
２８…ガス流通空間部
３３…ガスベール
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ヴイルフリート・ピルクルバウアー
オーストリア、アー−4491ニーダーノイキ
ルヒエン、シユミツトベルク13番
(72)発明者 ノルベルト・ラーマゼーダー
オーストリア、アー−4020リンツ、ロベル
ト−シユトルツシユトラーセ14番
(72)発明者 ヨハネス・スタインズ
オーストリア、アー−4210ガルノイキルヒ
エン、タネンヴエーク15番
Claims (6)
- 【請求項１】 測定用及び(又は)サンプリング用のプロ
ーブ(２)を搬送するランス(３)用に設けられた、冶金用
容器(５)の壁部(４)を貫通するランス用通路(１)内にお
ける、クラストとくにスラグクラストの塊状集積の防止
方法であって、 冶金用容器(５)内で進行している冶金プロセスの期間
中、及びランス用通路(１)を通して冶金用容器(５)内に
導入されたランス(３)によって測定及び(又は)サンプリ
ングが実施されている期間中に、冶金用容器(５)内に保
持された溶融浴に対して不活性であるガス又はエアが外
部からランス通路(１)内に注入され、上記ガスが、溶融
浴と対向しているランス用通路(１)の開口部(１６)にガ
スベール(３３)を生成することを特徴とする冶金用容器
内におけるクラストの塊状集積の防止方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載された冶金用容器内にお
けるクラストの塊状集積の防止方法において、塩基性酸
素製鋼転炉(５)内での鋼の製造中におけるスラグの堆積
を防止するために、イナートガス又はエアが吹練工程中
にランス用通路(１)内に注入されることを特徴とする冶
金用容器内におけるクラストの塊状集積の防止方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載された冶金用容器内にお
けるクラストの塊状集積の防止方法において、上記イナ
ートガスとして、窒素が４Ｎm3／minより少ない流量で
注入されることを特徴とする冶金容器内におけるクラス
トの塊状集積の防止方法。 - 【請求項４】 壁部(４)を貫通するランス用通路(１)を
含んでいる冶金用容器(５)を備えた、請求項１〜請求項
３の１つまたは複数に記載された方法を実現するための
装置であって、 ランス用通路(１)の横断面と適合するような横断面を有
する略釣り鐘型のガス案内手段(１７)が、ランス用通路
(１)内に挿入可能となっているとともにイナートガス又
はエア用のガス供給部に接続され、該ガス案内手段(１
７)の開口端がランス用通路(１)の内側開口部(１６)に
向けられており、かつガス案内手段(１７)が軸線方向の
貫通孔(１８)を有し、該貫通孔(１８)を通して測定用及
び(又は)サンプリング用のプローブ(２)を搬送するラン
ス(３)が移動可能となっていることを特徴とする冶金用
容器内におけるクラストの塊状集積の防止装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載された冶金用容器内にお
けるクラストの塊状集積の防止装置において、 管状のランスガイド(１５)が、外側からランス用通路
(１)内に突出しかつランス用通路(１)に対して移動可能
な状態で、略釣り鐘型のガス案内手段(１７)とランス用
通路(１)との間に位置するように適応させられているこ
とを特徴とする冶金用容器内におけるクラストの塊状集
積の防止装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載された冶金用容器内にお
けるクラストの塊状集積の防止装置において、 略釣り鐘型のガス案内手段(１７)が、ランス(３)を導入
するための軸線方向の貫通孔(１８)を構成するとともに
所定の周間距離(２０)を隔てて外側チューブ(２１)によ
って囲まれる内側チューブ(１９)を含んでおり、 中間チューブ(２３)が、外側チューブ(２１)と内側チュ
ーブ(１９)との間に挿入されており、 外側チューブ(２１)が、該外側チューブ(２１)と内側チ
ューブ(１９)との間の環状の空間部(３０,３２)を閉止
している環形の底板(２２)によって内側チューブ(１９)
に結合されており、かつ中間チューブ(２３)の端部が、
底板(２２)に対して所定の距離だけ上方に離間してお
り、 もどり止めリング(２５)が、２つのチューブ(１９,２
３)間の環状の空間部(３２)を閉止するようにして、中
間チューブ(２３)と内側チューブ(１９)との間に設けら
れており、かつ該もどり止めリング(２５)が底板(２２)
から所定の距離だけ離間して配置されており、 半径方向に向けられた数個のガス通路(２６)が、中間チ
ューブ(２３)と外側チューブ(２１)との間であり、かつ
高さ方向に関して底板(２２)ともどり止めリング(２５)
との間となる位置に設けられており、 さらに、外側チューブ(２１)が、底板(２２)から所定の
距離だけ離間した位置で外側チューブ(２１)に強固に付
設された略釣り鐘型のスリーブ(２７)によって囲まれて
おり、これによって外側チューブ(２１)とスリーブ(２
７)との間にもう１つの環状のガス流通空間部(２８)が
形成され、該ガス流通空間部(２８)内にガス通路(２６)
が入り込み、かつガス流通空間部(２８)が底板(２２)を
含んでいる端部方向に外向きに開口していることを特徴
とする冶金用容器内におけるクラストの塊状集積の防止
装置。
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