JPH051059A - ベンゾピラン誘導体 - Google Patents

ベンゾピラン誘導体

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JPH051059A
JPH051059A JP18462191A JP18462191A JPH051059A JP H051059 A JPH051059 A JP H051059A JP 18462191 A JP18462191 A JP 18462191A JP 18462191 A JP18462191 A JP 18462191A JP H051059 A JPH051059 A JP H051059A
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JP
Japan
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tetrazolyl
cyano
pyran
benzo
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Pending
Application number
JP18462191A
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English (en)
Inventor
Katsuyuki Otsuka
克之 大塚
Nobuo Ishiyama
信雄 石山
Toshihiro Koyama
俊浩 小山
Michiko Nagahara
美知子 永原
Masahiro Fujii
政博 藤井
Kunio Kimura
国雄 木村
Taiji Asano
泰司 浅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaken Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Kaken Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】一般式(I)で示されるベンゾピラン誘導体。 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基、シクロアル
キル基、低級アルコキシアルキル基、(置換)フェニル
基、ベンジル基、ピリジル基、チェニル基、ピリジルメ
チル基、チエニルメチル基等を;Rは水素原子を;R
は水酸基、低級アルコキシ等を;RおよびRは水
素原子あるいはC1〜4−アルキル基を;Yは水素原
子、シアノ基、ニトロ基、ベンゾイルアミノ基、ピリジ
ンカルボニルアミノ基、メチルスルホニルアミノ基、チ
アゾリル基、テトラゾリル基等を、意味する〕 【効果】一般式(I)で示される新規なベンゾピラン誘
導体は、消化性潰瘍の攻撃因子である胃酸の分泌を抑制
するだけでなく防禦因子をも増強する活性を有し、消化
性潰瘍の治療に好適に利用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なベンゾピラン誘導
体に関する。
【0002】
【従来の技術】消化性潰瘍の発生機序は、胃酸、ペプシ
ンなどの攻撃因子と胃粘液、粘膜血流などの防御因子の
不均衡により発症するとされ、とくに胃酸の関与が重要
であるとされている。したがって、攻撃因子、とくに強
力な胃酸分泌の抑制剤であるヒスタミンH2 受容体遮断
薬が今日広く使用されているのが現状である。しかし、
ヒスタミンH2 受容体遮断薬は使用を中断したのちにお
こる潰瘍の再燃・再発が問題とされ、これは強力な酸分
泌抑制による胃粘膜などの防御因子の減弱が主因と考え
られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、攻撃因子お
よび防御因子の両面にバランスよく作用し、加えてカリ
ウムチャンネル活性化作用を併せ持つ、消化性潰瘍の治
療に有効な新規化合物を提供することを目的としてい
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ね、カリウムチャンネル活性化
作用を有する新規な種々のベンゾピラン誘導体を合成
し、これらの抗潰瘍作用について検討したところ、下記
一般式(I) で示されるベンゾピラン誘導体に抗潰瘍作用
を見出し、本発明を完成するにいたった。
【0005】本発明のベンゾピラン誘導体は一般式(I)
【0006】
【化2】
【0007】(式中、R1 は水素原子、アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、ヒドロキシアルキ
ル基、低級アルコキシアルキル基、ジアルキルアミノ
基、低級アルキルカルボニルアミノ基、低級アルコキシ
カルボニルアルキル基、置換されていてもよいフェニル
基、アラルキル基、複素環基または複素環アルキル基、
2 は水素原子、R3 は水酸基、低級アルコキシ基、低
級アルキルカルボニルオキシ基、低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基、低級アルキルカルボニルアミノ基である
か、またはR2 とR3 はたがいに連結して結合を形成
し、R4 およびR5 はそれぞれ水素原子あるいはC1
4のアルキル基、Yは水素原子、シアノ基、ハロゲン
基、ニトロ基、アミノ基、カルボベンゾキシアミノ基、
置換されていてもよいフェニルカルボニルアミノ基、ピ
リジンカルボニルアミノ基、低級アルキルスルホニルア
ミノ基、チアゾリニル基、テトラゾリル基、または置換
されていてもよいトリアジニル基を意味する)で示され
る化合物である。
【0008】
【実施例】本発明のベンゾピラン誘導体を表わす一般式
(I) において、R1 中のアルキル基としては直鎖状、分
岐状または環状の炭素数1〜8の低級アルキル基が好ま
しく、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、n-ブ
チル基、sec-ブチル基、tert- ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などがあげられる。
【0009】R1 中の低級アルケニル基としては、炭素
数1〜6のアルケニル基が好ましく、たとえばアリル
基、メタリル基、クロチル基、1-メチルアリル基、プレ
ニル基、3-ペンテニル基、3-メチル-3- ブテニル基、な
どがあげられる。
【0010】R1 中の低級アルキニル基としては、炭素
数1〜6のアルキニル基が好ましく、たとえばプロパル
ギル基、1-メチルプロパルギル基、2-ブチニル基、1-メ
チルブチニル基、2-ブチニル基、2-ペンチニル基、3-ペ
ンチニル基などがあげられる。
【0011】R1 中のヒドロキシアルキル基としては、
炭素数1〜4の低級アルキル基に水酸基が置換されたヒ
ドロキシ低級アルキル基が好ましく、たとえばヒドロキ
シメチル基、2-ヒドロキシエチル基、3-ヒドロキシプロ
ピル基、4-ヒドロキシブチル基などがあげられる。
【0012】R1 中の低級アルコキシアルキル基として
は、炭素数1〜4の低級アルキル基に炭素数1〜2の低
級アルコキシ基が置換された低級アルコキシ低級アルキ
ル基が好ましく、たとえば2-メトキシエチル基、2-エト
キシエチル基、3-メトキシプロピル基、4-メトキシブチ
ル基などがあげられる。
【0013】R1 中のジアルキルアミノ基としては、炭
素数1〜4の低級アルキル基をアミノ基に置換したジア
ルキルアミノ基が好ましい。
【0014】R1 中の低級アルキルカルボニルアミノ基
としては、炭素数1〜4の低級アルキル基をカルボニル
アミノ基に置換した低級アルキルカルボニルアミノ基が
好ましい。
【0015】R1 中の低級アルコキシカルボニルアルキ
ル基としては、炭素数1〜4の低級アルコキシ基および
炭素数1〜4の低級アルキル基が置換された低級アルコ
キシカルボニルアルキル基が好ましい。
【0016】R1 中の置換されていてもよいフェニル基
としては、フェニル基のほかに、低級アルキル基、ハロ
ゲン、低級アルコキシ基などで置換された置換フェニル
基があげられる。
【0017】R1 中のアラルキル基としては、炭素数1
〜4のアルキル鎖を有するアラルキル基が好ましく、た
とえばベンジル基、フェネチル基などがあげられる。
【0018】R1 中の複素環基、複素環アルキル基とし
ては、たとえばピリジル基、チエニル基、フリル基、ピ
ラジニル基、ピリジルメチル基、チエニルメチル基、フ
リルメチル基などがあげられる。
【0019】R3 中の低級アルコキシ基としてはメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基などがあげられる。
【0020】R3 中の低級アルコキシカルボニルオキシ
基としてはメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカル
ボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキシ基などが
あげられる。
【0021】R3 中の低級アルキルカルボニルオキシ基
としてはアセトオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、
プロピルカルボニルオキシ基などがあげられる。
【0022】R3 中の低級アルキルカルボニルアミノ基
としてはアセトアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、
プロピルカルボニルアミノ基などがあげられる。
【0023】R4 およびR5 中の低級アルキル基として
はメチル基、エチル基、プロピル基、n-ブチル基などが
あげられる。
【0024】Y中の置換されていてもよいフェニルカル
ボニルアミノ基としては低級アルキル基、ハロゲン、低
級アルコキシ基などで置換された置換フェニルカルボニ
ルアミノ基があげられる。
【0025】一般式(I) の化合物の好ましいものとし
て、以下の化合物が例示される。
【0026】(1) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル
- トランス-4-(1-テトラゾリール)-2H- ベンゾ[b] ピ
ラン-3- オール (2) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(2-テトラゾリール)-2H- ベンゾ[b] ピラン-3- オー
ル (3) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-メチル- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン-3
- オール (4) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (5) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-エチル- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン-3
- オール (6) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-エチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (7) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-プロピル-1- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラ
ン-3- オール (8) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-プロピル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラ
ン-3- オール (9) 6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-ブチル-1- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (10)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-ブチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (11)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-イソブチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピ
ラン-3- オール (12)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-ヘキシル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラ
ン-3- オール (13)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-シクロプロピル-1-テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (14)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-シクロプロピル-2-テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (15)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-シクロペンチル-2-テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (16)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-シクロヘキシル-2-テトラゾリール)-2H- ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (17)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-アリル-2- テトラゾリール)-2H- ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (18)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-プロパルギル-2- テトラゾリール)-2H- ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (19)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- ヒドロキシエチル)-2- テトラゾリール]-2H-
ベンゾ[b] ピラン-3- オール (20)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- メトキシエチル)-2- テトラゾリール]-2H- ベ
ンゾ[b] ピラン-3- オール (21)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2-N,N- ジメチルアミノエチル)- テトラゾリー
ル]-2H- ベンゾ[b] ピラン-3- オール (22)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-ベンジル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラ
ン-3- オール (23)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-フェネチル-2- テトラゾリール)-2H- ベンゾ[b] ピ
ラン-3- オール (24)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-フェニル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラ
ン-3- オール (25)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(3,4- ジメトキシフェニル)-2- テトラゾリール]-
2H- ベンゾ[b] ピラン-3- オール (26)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(4- クロロフェニル)-2- テトラゾリール]-2H- ベ
ンゾ[b] ピラン-3- オール (27)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(4- フルオロフェニル)-2- テトラゾリール]-2H-
ベンゾ[b] ピラン-3- オール (28)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- ピリジル)-2-テトラゾリール]-2H- ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (29)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(3- ピリジル)-2-テトラゾリール]-2H- ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (30)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(4- ピリジル)-2-テトラゾリール]-2H- ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (31)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- チエニル)-2-テトラゾリール]-2H- ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (32)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- ピリジルメチル)-2- テトラゾリール]-2H- ベ
ンゾ[b] ピラン-3- オール (33)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(3- ピリジルメチル)-2- テトラゾリール]-2H- ベ
ンゾ[b] ピラン-3- オール (34)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- チエニルメチル)-2- テトラゾリール]-2H- ベ
ンゾ[b] ピラン-3- オール (35)6-シアノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-[5-(2- ピラジニル)-2- テトラゾリール]-2H- ベンゾ
[b] ピラン-3- オール (36)3,4 ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-(5-メチ
ル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b]ピラン-3- オー
ル (37)3,4 ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-(5-シク
ロプロピル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (38)6-アミノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (39)6-アミノ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-シクロプロピル-2-テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (40)6-ニトロ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン
-3- オール (41)6-ニトロ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4
-(5-シクロプロピル-2-テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b]
ピラン-3- オール (42)6-シアノ-2,2- ジメチル-4-(5-メチル-1- テトラゾ
リール)-2H-ベンゾ[b]ピラン (43)6-シアノ-2,2- ジメチル-4-(5-メチル-2- テトラゾ
リール)-2H-ベンゾ[b]ピラン (44)6-シアノ-2,2- ジメチル-4-(5-シクロプロピル-2-
テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン 前記一般式(1) で表される化合物は、分子内に不斉炭素
が存在するものもあるが、本発明のベンゾピラン誘導体
はこれら光学異性体、またはそれらの混合物を包含する
ものである。
【0027】前記一般式(I) で表される本発明のベンゾ
ピラン誘導体は、たとえばつぎのようにして製造するこ
とができる。
【0028】製造法1(一般式(I) においてR3 が水酸
基の化合物の製造法) 一般式(II):
【0029】
【化3】
【0030】で表される化合物と、一般式(III) :
【0031】
【化4】
【0032】(式中、R1 、R4 、R5 およびYは前記
と同じ)で表される化合物を下記の反応式で示されるよ
うに付加させることによってえられる。
【0033】
【化5】
【0034】この反応は、適当な不活性溶媒、たとえば
メタノール、エタノール、プロパノール、ベンゼン、ト
ルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシドなどの溶媒を用いて20〜150 ℃の温度
で30分〜24時間反応させることにより行われる。
【0035】製造法2(一般式(I) においてR2 とR3
が互いに連結して結合を形成している化合物の製造法) 一般式(Ia):
【0036】
【化6】
【0037】(式中、R1 、R4 、R5 およびYはそれ
ぞれ前記と同じ)で示される化合物を以下のように脱水
処理することによりえることができる。
【0038】
【化7】
【0039】すなわち、一般式(Ia)の化合物に一般式(I
V)のR6 SO2 X(式中、R6 はアルキル基または置換
されていてもよいアリール基を意味し、Xはハロゲン原
子を意味する)を反応させる第一段階は、ピリジン、キ
ノリン、トリエチルアミンなどの溶媒中で、-10 〜50℃
の温度で30分〜12時間反応させることにより行なわれ
る。ここで、一般式(IV)にて示される具体的な化合物と
してはメタンスルホニルクロラロイド、メタンスルホニ
ルブロマイド、p-トルエンスルホニルクロライド、p-ト
ルエンスルホニルブロマイドなどがあげられる。
【0040】ついでえられた一般式(V) の化合物をピリ
ジン、キノリン、トリエチルアミンなどの溶媒中、ある
いはジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル、ベンゼン、トルエンなどの溶媒中で、一
般式(IV)のR7 OM(式中、R7 はアルキル基、Mはア
ルカリ金属を意味する)で処理することにより、目的と
する一般式(Ib)の化合物がえられる。この第2段階の反
応は、0〜100 ℃の温度で30分〜24時間、反応させるこ
とにより行なわれる。ここで、一般式(VI)中のR7 で示
されるアルキル基としては、たとえばメチル基、エチル
基、プロピル基、tert- プチル基などが好ましい。一般
式(VI)で示される具体的な化合物としてはカリウムtert
- ブチラート、カリウムエチラート、カリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラートなど
があげられる。
【0041】製造法3(一般式(I) においてR3 が低級
アルコキシ、低級アルコキシカルボニルオキシ、低級ア
ルキルカルボニルオキシである化合物の製造法) ピリジン、キノリン、トリエチルアミンなどの溶媒中、
あるいはアセトニトリル、アセトン、ベンゼン、トルエ
ン、ジメチルホルムアミドなどの溶媒中、一般式(Ia)で
示される化合物に炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、カリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラートなどを加えて、
低級アルキル酸無水物、低級アルキルハロゲン化物、ハ
ロゲン炭酸低級アルキルなどと、-10 〜150℃の温度で3
0分〜12時間、反応させることによりえることができ
る。
【0042】えられる一般式(I) の化合物は、消化性潰
瘍の攻撃因子である胃酸の分泌を抑制するだけでなく防
御因子をも増強するすぐれた特徴を有し、消化性潰瘍治
療に好適に利用することができる。
【0043】本発明の一般式(I) で示されるベンゾピラ
ン誘導体はそれ自体単独で抗潰瘍剤として投与してもよ
いが、公知の製剤手法を利用して各種の剤型にして用い
ることができる。たとえば、本発明の抗潰瘍剤は、錠
剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、シロップ剤などの経口
剤、注射剤、坐剤などの非経口剤として用いることがで
きる。
【0044】投与量は患者の症状、年齢、体重、治療効
果、投与方法、投与期間により異なるが、通常経口投与
のばあい、成人1日当り10〜2000mgの投与範囲で投与す
るのが好適である。
【0045】つぎに実施例をあげて本発明の化合物およ
び製造法をさらに詳しく説明するが、本発明はかかる実
施例のみに限定されるものではない。
【0046】実施例1 6-シアノ-3,4- ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-
(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ-[b]- ピラ
ン-3- オール 3,4-エポキシ-3,4- ジヒドロ-6- シアノ-2H-ベンゾピラ
ン10.05gをジメチルホルムアミド75mlに溶かし、これに
5-メチルテトラゾール5.0gを加えて、120 ℃で45分間反
応を行った。
【0047】反応混合物を氷水に注ぎ、生じた析出物を
瀘取し、これをシリカゲルカラムクロマトグラフ(クロ
ロホルム1:酢酸エチル1)にかけて、最も極性でない
成分をえ、これを酢酸エチルで再結晶して4.2gの標題化
合物を結晶としてえた。えられた化合物の融点およびN
MRの測定結果を以下に示す。
【0048】融 点:214.5 〜216.5 ℃ NMR(DMSO-d6 )δ:1.31(s,3H),1.50(s,3H),
2.51(s,3H),4.24(dd,1H ),6.05(d,1H),6.14
(d,1H),6.91(d,1H),7.04(d,1H),7.65(dd,1H
) 実施例2 6-シアノ-3,4- ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-
(5-メチル-1- テトラゾリール)-2H-ベンゾ-[b]- ピラ
ン-3- オール 実施例1におけるシリカゲルカラムクロマトグラフィー
でえられた比較的極性の成分を酢酸エチルで再結晶し
て、1.5gの標題化合物を結晶としてえた。えられた化合
物の融点およびNMRの測定結晶を以下に示す。
【0049】融 点:261.0 〜263.0 ℃ NMR(DMSO-d6 )δ:1.30(s,3H),1.47(s,3H),
2.67(s,3H),3.96(dd,1H ),5.63(d,1H),6.12
(d,1H),7.04(d,1H),7.23(d,1H),7.64(dd,1H
) 以下同様にして一般式(I) において、R3 が水酸基、R
4 およびR5 がメチル基である各種ベンゾピラン誘導体
を製造し、えられた実施例3〜29の化合物の融点および
NMR分析結果を表1に示す。
【0050】
【表1】
【0051】
【表2】
【0052】
【表3】
【0053】
【表4】
【0054】実施例30 6-シアノ-2,2- ジメチル-4-(5-メチル-2- テトラゾリー
ル)-2H-ベンゾ[b] ピラン 6-シアノ-3,4- ジヒドロ-2,2- ジメチル-4-(5-メチル-2
- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン-3- オール
(実施例1でえられた化合物)7.48g をピリジン60mlに
溶かし、メタンスルホニルクロリド6.0gを加えて室温で
18時間撹拌し、その後80℃で4時間反応を行った。反応
混合物を氷水に注ぎ、生じた析出物を瀘取し、これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフ(クロロホルム)にて精
製した。これを酢酸エチルとn-ヘキサン(1:3)で再
結晶して4.53g の標題化合物を結晶としてえた。
【0055】えられた化合物の融点およびNMR の測定結
果を以下に示す。
【0056】融 点:109 〜111 ℃ NMR(DMSO-d6 )δ:1.59(s,6H),2.61(s,3H),
6.63(s,1H),7.11(d,1H),7.60(d,1H),7.76(d
d,1H ) 以下同様にして一般式(I) において、R2 とR3 が互い
に連結して結合を形成し、R4 およびR5 がメチル基で
ある各種ベンゾピラン誘導体を製造し、えられた実施例
31〜38の化合物の融点およびNMR分析結果を表2に示
す。
【0057】
【表5】
【0058】実施例39 6-シアノ-3- メトキシ-3,4- ジヒドロ-2,2-ジメチル-
トランス-4-(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ
[b] ピラン 6-シアノ-3,4- ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-
(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン-
3- オール(実施例1でえられた化合物)4.0gをアセト
ニトリル70mlに溶かし、炭酸カリウム3.8g、ついでヨウ
化メチル4.0gを加えて室温で1.0 時間撹拌し、その後反
応混合物を70℃で20時間反応を行った。反応混合物を減
圧濃縮後、クロロホルムにて抽出した。この抽出物をシ
リカゲルカラムクロマト(クロロホルム)にて精製し
た。これを酢酸エチルとn-ヘキサン(1:3)で再結晶
して1.33g の標題化合物を結晶としてえた。えられた化
合物の融点およびNMRの測定結果を以下に示す。
【0059】融 点:151 〜153 ℃ NMR(DMSO-d6 )δ:1.30(s,3H),1.52(s,3H),
2.52(s,3H),3.04(s,3H),4.05(d,1H),6.21(d,
1H),7.03(d,1H),7.07(d,1H),7.96(s,1H) 実施例40 6-シアノ-3- エトキシカルボニルオキシ-3,4- ジヒドロ
-2,2- ジメチル- トランス-4-(5-メチル-2- テトラゾリ
ール)-2H-ベンゾ[b] ピラン 6-シアノ-3,4- ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-
(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン-
3- オール(実施例1でえられた化合物)3.0gをピリジ
ン40mlに溶かし、クロロ炭酸エチル4.57g を加えて室温
で18時間撹拌し、その後、反応混合物を氷水に注ぎ、生
じた析出物を瀘取し、これをシリカゲルカラムクロマト
(酢酸エチル:クロロホルム=1:1)にて精製した。
これを酢酸エチルとn-ヘキサン(1:3) で再結晶して1.53
g の標題化合物を結晶としてえた。
【0060】えられた化合物の融点およびNMRの測定
結果を以下に示す。
【0061】融 点:155 〜156 ℃ NMR(DMSO-d6 )δ:1.15(t,3H),1.38(s,3H),
1.41(s,3H),2.47(s,3H),4.44(q,2H),5.28(d,
1H),6.55(d,1H),7.14(d,1H),7.27(s,1H),7.
76(dd,1H ) 実施例41 6-シアノ-3- アセトキシ-3,4ジヒドロ-2,2- ジメチル-
トランス-4-(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ
[b] ピラン 6-シアノ-3,4- ジヒドロ-2,2- ジメチル- トランス-4-
(5-メチル-2- テトラゾリール)-2H-ベンゾ[b] ピラン-
3- オール(実施例1でえられた化合物)3.0gをピリジ
ン120ml に溶かし、氷冷下、無水酢酸22mlを加え、その
後、室温で15時間反応を行なった。反応混合液を氷水に
注ぎ、生じた析出物を瀘取した。これをエタノールと水
(1:1)で再結晶して3.2gの標題化合物を結晶として
えた。えられた化合物の融点およびNMRの測定結果を
以下に示す。
【0062】融 点:151 〜153 ℃ NMR(DMSO-d6 )δ:1.37(s,3H),1.39(s,3H),
1.99(s,3H),2.46(s,3H),5.44(d,1H),6.46(d,
1H),7.14(d,1H),7.25(d,1H),7.73(dd,1H ), 一般式(I) で表される化合物の抗潰瘍作用について、攻
撃因子が発症の主因とする幽門結紮潰瘍試験、粘膜粘液
などの防御因子が発症の主因とする塩酸・エタノール潰
瘍試験そして発症に攻撃と防御の両因子が関与している
とする水浸拘束ストレス潰瘍試験およびインドメタシン
潰瘍試験を行なった。
【0063】これらの試験方法および結果を以下に示
す。
【0064】試験例1 幽門結紮潰瘍試験 48時間絶食したウイスター系雄性ラット(体重230 〜25
0g)を常法にしたがってエーテル麻酔下に幽門部を結紮
した。14時間後に動物をエーテル致死せしめ、胃を取り
出し、前胃部に発生した潰瘍の面積を測定し、1匹当り
の潰瘍面積の合計を次の6段階に分類し潰瘍係数とした
(表3)。
【0065】
【表6】
【0066】被験化合物として、実施例の化合物と比較
化合物としてのシメチジンを用い、0.5 %メチルセルロ
ース液にて懸濁し、幽門結紮直後に十二指腸内にそれぞ
れ100mg/kg体重の割合で投与した。また、コントロール
群として薬液の溶媒のみを体重100g当り0.25mlの割合で
投与した。えられた結果を潰瘍形成抑制率として下記の
式より計算した。
【0067】
【数1】
【0068】結果を表4に示す。
【0069】表4より本発明の化合物は、幽門結紮潰瘍
に対して強い抗潰瘍作用を示すことがわかる。
【0070】
【表7】
【0071】試験例2 塩酸・エタノール潰瘍試験 24時間絶食・絶水したウイスター系雄性ラット(体重22
0 〜240g)に、150mM塩酸・70%エタノール液5ml/kg
体重を経口投与した。1時間後に動物を頸椎脱臼により
致死せしめ、胃を取り出し、腺胃部に発生した潰瘍の長
さを測定し、その総和を潰瘍係数(nm)とした。被験化
合物として、本発明の化合物と比較化合物としてのシメ
チジンを用い、0.5 %メチルセルロース液にて懸濁し、
それぞれ30mg/kg 体重の割合で塩酸・エタノール投与30
分前に経口投与した。また、コントロール群として薬液
のみを体重100g当り 0.5mlの割合で塩酸・エタノール投
与30分前に経口投与した。えられた結果は、幽門結紮潰
瘍試験と同様の式より潰瘍形成抑制率を求めた。
【0072】表5より本発明の化合物は、塩酸・エタノ
ール潰瘍に対し強い抗潰瘍作用を示すことがわかる。
【0073】
【表8】
【0074】試験例3 水浸拘束ストレス潰瘍試験 18時間絶食したddY系雄性マウス(体重20〜25g )を
ストレスケージに入れ、23℃の水槽内に胸部まで浸し、
ストレスを負荷した。7時間後に動物を頸椎脱臼により
致死せしめ、胃を取り出し、腺胃部に発生した潰瘍の長
さを測定し、その総和を潰瘍係数(nm)とした。比較化
合物としてシメチジンを用い、0.5 %メチルセルロース
液にて懸濁し、それぞれ30mg/kg および100mg/kg体重の
割合でストレス負荷15分前に経口投与し、それぞれ被験
化合物投与群とした。また、コントロール群として薬液
の溶媒のみを体重10g 当り0.1ml の割合でストレス負荷
15分前に経口投与した。えられた結果は、幽門結紮潰瘍
試験と同様の式より潰瘍形成抑制率を求めた。
【0075】結果を表6に示す。
【0076】表6より、本発明の化合物は、水浸拘束ス
トレス潰瘍に対し強い抗潰瘍作用を示すことがわかる。
【0077】
【表9】
【0078】試験例4 インドメタシン潰瘍試験 24時間絶食したウイスター系雄性ラット(体重220 〜24
0g)に、インドメタシン20ml/kg 体重を皮下投与した。
7時間後に動物を頸椎脱臼により致死せしめ、胃を取り
出し、腺胃部に発生した潰瘍の長さを測定し、その総和
を潰瘍係数(nm)とした。被験化合物として、本発明の
化合物と比較化合物としてのシメチジンを用い、0.5 %
メチルセルロース液にて懸濁し、それぞれ30mg/kg 体重
の割合でインドメタシン投与30分前に経口投与した。ま
た、コントロール群として薬液の溶媒のみを体重100g当
り0.5ml の割合でインドメタシン投与30分前に経口投与
した。えられた結果は、幽門結紮潰瘍試験と同様の式よ
り潰瘍形成抑制率を求めた。
【0079】表7より本発明の化合物は、インドメタシ
ン潰瘍に対し強い抗潰瘍作用を示すことがわかる。
【0080】
【表10】
【0081】製剤例1 下記の処方にしたがって、1錠当り有効成分100mg を含
有する錠剤を調製した。
【0082】 (成 分) (mg) 実施例1の化合物 100 結晶セルロース 50 カルボキシメチルセルロースカルシウム 10 ラウリル硫酸ナトリウム 1 メチルセルロース 3 ステアリン酸カルシウム 4 製剤例2 下記の処方にしたがって、1錠当り有効成分100mg を含
有する200mg の混合成分をカプセルに充填してカプセル
剤を調製した。
【0083】 (成 分) (mg) 実施例1の化合物 100 ラクトース 50 コーンスターチ 40 結晶セルロース 8 ステアリン酸カルシウム 2
【0084】
【発明の効果】本発明の一般式(I) で示されるベンゾピ
ラン誘導体は文献未記載の新規化合物であり、すぐれた
抗潰瘍作用を有する。
【0085】また、本発明の化合物は潰瘍の発症主因が
胃酸などの幽門結紮潰瘍、潰瘍の発症主因が粘膜血流・
粘膜などの防御因子に起因する塩酸・エタノール潰瘍、
そして、発症に攻撃と防御の両因子が関与しているとす
る水浸拘束ストレス潰瘍試験、およびインドメタシン潰
瘍試験において、強い抗潰瘍作用を示すことから、潰瘍
の発症主因の両因子に作用することが明らかとなり、急
性、慢性の胃、十二指腸潰瘍および胃炎に対し、その予
防および治療用医薬として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 405/14 8829−4C 409/14 8829−4C 417/14 9051−4C (72)発明者 永原 美知子 京都市山科区四ノ宮南河原町14 科研製薬 株式会社中央研究所(京都)内 (72)発明者 藤井 政博 京都市山科区四ノ宮南河原町14 科研製薬 株式会社中央研究所(京都)内 (72)発明者 木村 国雄 京都市山科区四ノ宮南河原町14 科研製薬 株式会社中央研究所(京都)内 (72)発明者 浅野 泰司 京都市山科区四ノ宮南河原町14 科研製薬 株式会社中央研究所(京都)内

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 一般式(I) : 【化1】 (式中、R1 は水素原子、アルキル基、低級アルケニル
    基、低級アルキニル基、ヒドロキシアルキル基、低級ア
    ルコキシアルキル基、ジアルキルアミノ基、低級アルキ
    ルカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアル
    キル基、置換されていてもよいフェニル基、アラルキル
    基、複素環基または複素環アルキル基、R2 は水素原
    子、R3 は水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキルカ
    ルボニルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ
    基、低級アルキルカルボニルアミノ基であるか、または
    2 とR3 はたがいに連結して結合を形成し、R4 およ
    びR5 はそれぞれ水素原子あるいはC1 〜C4 のアルキ
    ル基、Yは水素原子、シアノ基、ハロゲン基、ニトロ
    基、アミノ基、カルボベンゾキシアミノ基、置換されて
    いてもよいフェニルカルボニルアミノ基、ピリジンカル
    ボニルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、チ
    アゾリニル基、テトラゾリル基、または置換されていて
    もよいトリアジニル基を意味する)で示される化合物。
JP18462191A 1990-07-25 1991-07-24 ベンゾピラン誘導体 Pending JPH051059A (ja)

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JP19684290 1990-07-25
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6150362A (en) * 1997-12-12 2000-11-21 Henkin; Jack Triazine angiogenesis inhibitors

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