JPH05104095A - 汚染水の滅菌システム - Google Patents
汚染水の滅菌システムInfo
- Publication number
- JPH05104095A JPH05104095A JP3267821A JP26782191A JPH05104095A JP H05104095 A JPH05104095 A JP H05104095A JP 3267821 A JP3267821 A JP 3267821A JP 26782191 A JP26782191 A JP 26782191A JP H05104095 A JPH05104095 A JP H05104095A
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- Japan
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- contaminated water
- water
- hydrogen ion
- injecting
- ion concentration
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 汚染水に対する滅菌性が高い滅菌システムを
提起すること。 【構成】 滅菌処理を施すべき汚染水２の循環経路３
と、この循環経路３に設けられた汚染水中の酸素の脱気
手段５と、汚染水へのオゾンの注入手段６と、汚染水へ
の紫外線の照射手段７と、汚染水の水素イオン濃度を約
５から約７の間に調整すべく炭酸ガスを注入する手段８
と、水素イオン濃度が約５から約６．５の間に調整され
た次亜鉛素酸水溶液を汚染水に注入する手段９とを有す
ること。
提起すること。 【構成】 滅菌処理を施すべき汚染水２の循環経路３
と、この循環経路３に設けられた汚染水中の酸素の脱気
手段５と、汚染水へのオゾンの注入手段６と、汚染水へ
の紫外線の照射手段７と、汚染水の水素イオン濃度を約
５から約７の間に調整すべく炭酸ガスを注入する手段８
と、水素イオン濃度が約５から約６．５の間に調整され
た次亜鉛素酸水溶液を汚染水に注入する手段９とを有す
ること。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、汚染水の滅菌システ
ムに関するものである。
ムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、食品類の製造業者などが食品
の洗浄槽に溜めた水道水で例えばうどん・こんにゃく・
豆腐等を洗う際、洗浄槽内の水道水は一回毎に使い捨て
にしていた。これは、洗浄槽内の水道水を反復使用する
と、食品類の表面から脱落し水中に溶け出した有機物を
栄養分として洗浄槽内に雑菌が繁殖し食品の衛生管理上
不適当となるからである。
の洗浄槽に溜めた水道水で例えばうどん・こんにゃく・
豆腐等を洗う際、洗浄槽内の水道水は一回毎に使い捨て
にしていた。これは、洗浄槽内の水道水を反復使用する
と、食品類の表面から脱落し水中に溶け出した有機物を
栄養分として洗浄槽内に雑菌が繁殖し食品の衛生管理上
不適当となるからである。
【０００３】また、温泉や公衆浴場等では一定時間毎に
そのお湯を順次新しいお湯と入れ替えている。これも、
複数人が入浴しつつ或る程度の時間が経過するとお湯の
中で増殖した大腸菌の数が非常に多くなって不清潔とな
るからである。ところで、雑菌等が繁殖した洗浄槽内の
水道水や大腸菌が増殖した温泉のお湯等（以下、滅菌す
べき液体類を併せて汚染水という）を滅菌するための手
段として、汚染水中の酸素の脱気、オゾンの注入、紫外
線の照射等が知られているが、これらの手段による汚染
水に対する滅菌性は満足できるものではなかった。
そのお湯を順次新しいお湯と入れ替えている。これも、
複数人が入浴しつつ或る程度の時間が経過するとお湯の
中で増殖した大腸菌の数が非常に多くなって不清潔とな
るからである。ところで、雑菌等が繁殖した洗浄槽内の
水道水や大腸菌が増殖した温泉のお湯等（以下、滅菌す
べき液体類を併せて汚染水という）を滅菌するための手
段として、汚染水中の酸素の脱気、オゾンの注入、紫外
線の照射等が知られているが、これらの手段による汚染
水に対する滅菌性は満足できるものではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この発明で
は、汚染水に対する滅菌性が高い滅菌システムを提起す
ることを課題とする。
は、汚染水に対する滅菌性が高い滅菌システムを提起す
ることを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、この発明では次のような技術的手段を講じている。
即ちこの発明の汚染水の滅菌システムでは、滅菌処理を
施すべき汚染水２の循環経路３と、この循環経路３に設
けられた汚染水中の酸素の脱気手段５と、汚染水へのオ
ゾンの注入手段６と、汚染水への紫外線の照射手段７
と、汚染水の水素イオン濃度を約５から約７の間に調整
すべく炭酸ガスを注入する手段８と、水素イオン濃度が
約５から約６．５の間に調整された次亜鉛素酸水溶液を
汚染水に注入する手段９とを有することとした。
に、この発明では次のような技術的手段を講じている。
即ちこの発明の汚染水の滅菌システムでは、滅菌処理を
施すべき汚染水２の循環経路３と、この循環経路３に設
けられた汚染水中の酸素の脱気手段５と、汚染水へのオ
ゾンの注入手段６と、汚染水への紫外線の照射手段７
と、汚染水の水素イオン濃度を約５から約７の間に調整
すべく炭酸ガスを注入する手段８と、水素イオン濃度が
約５から約６．５の間に調整された次亜鉛素酸水溶液を
汚染水に注入する手段９とを有することとした。
【０００６】
【作用】上記の手段を採用した結果、この発明は以下の
ような作用を有する。この発明の汚染水の滅菌システム
では、汚染水２の循環経路３に設けられた汚染水中の酸
素の脱気手段５により汚染水中の雑菌を窒息させ、汚染
水２に殺菌活性の高いオゾンを注入し、汚染水２へ紫外
線を照射する。
ような作用を有する。この発明の汚染水の滅菌システム
では、汚染水２の循環経路３に設けられた汚染水中の酸
素の脱気手段５により汚染水中の雑菌を窒息させ、汚染
水２に殺菌活性の高いオゾンを注入し、汚染水２へ紫外
線を照射する。
【０００７】更に、炭酸ガスを注入することにより汚染
水２の水素イオン濃度を次亜鉛素酸の殺菌活性を高くし
うる約５から約７の間に調整し、水素イオン濃度が約５
から約６．５の間に調整され殺菌活性の高い次亜鉛素酸
水溶液を汚染水２に注入することによってより雑菌に対
する殺菌性を高めることができる。
水２の水素イオン濃度を次亜鉛素酸の殺菌活性を高くし
うる約５から約７の間に調整し、水素イオン濃度が約５
から約６．５の間に調整され殺菌活性の高い次亜鉛素酸
水溶液を汚染水２に注入することによってより雑菌に対
する殺菌性を高めることができる。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の汚染水の滅菌システムを実
施例として示した図面に従って説明する。図１は、漢方
生薬が配合された薬湯温泉の薬湯槽中の薬湯の滅菌シス
テムのフローチャートを示したものである。
施例として示した図面に従って説明する。図１は、漢方
生薬が配合された薬湯温泉の薬湯槽中の薬湯の滅菌シス
テムのフローチャートを示したものである。
【０００９】１は入浴すべき薬湯槽で、この薬湯２０す
なわち上記手段の欄に記載の滅菌処理を施すべき汚染水
２の槽には汚染水２の循環経路３が取付けられている。
滅菌処理を施すべき汚染水２は循環ポンプ４により前記
経路３中を循環されており、この循環経路３には汚染水
中の酸素の脱気手段５、汚染水へのオゾンの注入手段
６、汚染水への紫外線の照射手段７、汚染水の水素イオ
ン濃度を約５から約７の間に調整すべく炭酸ガスを注入
する手段８、水素イオン濃度が約５から約６．５の間に
調整された次亜鉛素酸水溶液を汚染水に注入する手段９
とが設けられている。これら各手段の内容は、次の如く
である。
なわち上記手段の欄に記載の滅菌処理を施すべき汚染水
２の槽には汚染水２の循環経路３が取付けられている。
滅菌処理を施すべき汚染水２は循環ポンプ４により前記
経路３中を循環されており、この循環経路３には汚染水
中の酸素の脱気手段５、汚染水へのオゾンの注入手段
６、汚染水への紫外線の照射手段７、汚染水の水素イオ
ン濃度を約５から約７の間に調整すべく炭酸ガスを注入
する手段８、水素イオン濃度が約５から約６．５の間に
調整された次亜鉛素酸水溶液を汚染水に注入する手段９
とが設けられている。これら各手段の内容は、次の如く
である。
【００１０】汚染水中の酸素の脱気手段５により汚染水
２の雑菌を窒息させる。この実施例では減圧脱気装置５
０を用いて酸素の残留濃度を３ｐｐｍ以下に抑えるよう
に設定している。汚染水へのオゾンの注入手段６によ
り、汚染水２に殺菌活性の高いオゾンを注入する。この
実施例では、オゾンを毎分３０．６ｍｇの割合いで注入
した。
２の雑菌を窒息させる。この実施例では減圧脱気装置５
０を用いて酸素の残留濃度を３ｐｐｍ以下に抑えるよう
に設定している。汚染水へのオゾンの注入手段６によ
り、汚染水２に殺菌活性の高いオゾンを注入する。この
実施例では、オゾンを毎分３０．６ｍｇの割合いで注入
した。
【００１１】汚染水への紫外線の照射手段７により、汚
染水２に紫外線を照射する。この実施例では紫外線殺菌
装置７０を用い、紫外線を照射するように設定してい
る。汚染水の水素イオン濃度を約５から約７の間に調整
すべく炭酸ガスを注入する手段８により、汚染水の水素
イオン濃度を次亜鉛素酸の殺菌活性を高くしうる約５か
ら約７の間に調整するとともにオゾンを追い出す。
染水２に紫外線を照射する。この実施例では紫外線殺菌
装置７０を用い、紫外線を照射するように設定してい
る。汚染水の水素イオン濃度を約５から約７の間に調整
すべく炭酸ガスを注入する手段８により、汚染水の水素
イオン濃度を次亜鉛素酸の殺菌活性を高くしうる約５か
ら約７の間に調整するとともにオゾンを追い出す。
【００１２】また、水素イオン濃度が約５から約６．５
の間に調整され殺菌活性の高い次亜鉛素酸水溶液を汚染
水２に注入することによってより雑菌に対する殺菌性を
高めることができる。この次亜鉛素酸は、塩化ナトリウ
ムと塩酸とを電気分解し、水素イオン濃度を約５．５に
調整して得た。薬湯温泉の薬湯槽１に上記の滅菌システ
ムを取付けて、この薬湯槽１の薬湯２０中の大腸菌の数
の経時変化を実際に測定した。この測定は１４時間（午
前９時から午後１１時まで）にわたって行なった。
の間に調整され殺菌活性の高い次亜鉛素酸水溶液を汚染
水２に注入することによってより雑菌に対する殺菌性を
高めることができる。この次亜鉛素酸は、塩化ナトリウ
ムと塩酸とを電気分解し、水素イオン濃度を約５．５に
調整して得た。薬湯温泉の薬湯槽１に上記の滅菌システ
ムを取付けて、この薬湯槽１の薬湯２０中の大腸菌の数
の経時変化を実際に測定した。この測定は１４時間（午
前９時から午後１１時まで）にわたって行なった。
【００１３】滅菌システムは午前９時に始動した。薬湯
槽１の温度は約３９度から約４１度に設定するとともに
試験を行っている最中も複数人が入浴を適宜おこなっ
た。滅菌システムの循環経路３へは毎時５ｍ3 の割合い
で循環ポンプ４により薬湯槽１中のお湯を循環させた。
ここで、循環経路３中の薬湯２０中の酸素の残留濃度を
３ｐｐｍ以下に抑えるように減圧脱気するとともにオゾ
ンを毎分３０．ｍｇの割合いで注入した。
槽１の温度は約３９度から約４１度に設定するとともに
試験を行っている最中も複数人が入浴を適宜おこなっ
た。滅菌システムの循環経路３へは毎時５ｍ3 の割合い
で循環ポンプ４により薬湯槽１中のお湯を循環させた。
ここで、循環経路３中の薬湯２０中の酸素の残留濃度を
３ｐｐｍ以下に抑えるように減圧脱気するとともにオゾ
ンを毎分３０．ｍｇの割合いで注入した。
【００１４】また、循環経路３において午前９時から午
後１時までは炭酸ガスを毎分７リットルの割合で、同様
に午後１時から午後１１時までは炭酸ガスを毎時１０リ
ットルの割合いで注入した。これにより午前１０時から
午後１時までの薬湯２０の水素イオン濃度は約６．５程
度、午後１時から午後１１時までの薬湯２０の水素イオ
ン濃度は約５．８程度であった。
後１時までは炭酸ガスを毎分７リットルの割合で、同様
に午後１時から午後１１時までは炭酸ガスを毎時１０リ
ットルの割合いで注入した。これにより午前１０時から
午後１時までの薬湯２０の水素イオン濃度は約６．５程
度、午後１時から午後１１時までの薬湯２０の水素イオ
ン濃度は約５．８程度であった。
【００１５】さらに、次亜鉛素酸水溶液の濃度は約５０
ｐｐｍ、その水素イオン濃度は約５．５に調整した。こ
の次亜鉛素酸水溶液は、毎分９００ｃｃの割合いで循環
経路３中の薬湯２０に注入した。薬湯２０中の大腸菌の
数の経時変化の測定は２時間に１回づつ薬湯槽１からサ
ンプルを取水することにより行った。分析方法は、デス
オキシコーレート寒天法によった。結果を図２に示す。
ここで、図２のグラフの縦軸はサンプルの薬湯１００ｍ
ｌ中の大腸菌の個数を、横軸は時間の経過を示す。
ｐｐｍ、その水素イオン濃度は約５．５に調整した。こ
の次亜鉛素酸水溶液は、毎分９００ｃｃの割合いで循環
経路３中の薬湯２０に注入した。薬湯２０中の大腸菌の
数の経時変化の測定は２時間に１回づつ薬湯槽１からサ
ンプルを取水することにより行った。分析方法は、デス
オキシコーレート寒天法によった。結果を図２に示す。
ここで、図２のグラフの縦軸はサンプルの薬湯１００ｍ
ｌ中の大腸菌の個数を、横軸は時間の経過を示す。
【００１６】この測定結果により、滅菌システムを始動
すると時間の経過とともに大腸菌の数が減り始め、試験
開始当初は１５０個／１００ｍｌもあったものが、午後
１時（１３時）を越えると殆ど０個〜３個／１００ｍｌ
にまで減っており、この滅菌システムは非常に優れた滅
菌効果を有することが明らかになった。また、このよう
に温泉等にこの発明の汚染水の滅菌システムを用いる場
合の他に、洗浄槽に溜めた水道水で食品類を洗う際に
は、滅菌システムの循環経路３の最初に濾過装置を設置
し、食品類の表面から脱落した有機物を先ず分離してか
ら滅菌処理を行なう方が好ましい。
すると時間の経過とともに大腸菌の数が減り始め、試験
開始当初は１５０個／１００ｍｌもあったものが、午後
１時（１３時）を越えると殆ど０個〜３個／１００ｍｌ
にまで減っており、この滅菌システムは非常に優れた滅
菌効果を有することが明らかになった。また、このよう
に温泉等にこの発明の汚染水の滅菌システムを用いる場
合の他に、洗浄槽に溜めた水道水で食品類を洗う際に
は、滅菌システムの循環経路３の最初に濾過装置を設置
し、食品類の表面から脱落した有機物を先ず分離してか
ら滅菌処理を行なう方が好ましい。
【００１７】更に、水泳プール等にもこの発明に係る汚
染水の滅菌システムを好適に利用できることは言うもで
もない。この発明に係る汚染水の滅菌システムによる
と、従来は使い捨てにしていた水の再利用が可能である
ので水資源の節約に繋がるとともに環境汚染問題にも一
役買うことができる。
染水の滅菌システムを好適に利用できることは言うもで
もない。この発明に係る汚染水の滅菌システムによる
と、従来は使い捨てにしていた水の再利用が可能である
ので水資源の節約に繋がるとともに環境汚染問題にも一
役買うことができる。
【００１８】
【発明の効果】この発明は上述のような構成を有するも
のであり、より雑菌に対する殺菌性を高めることができ
るので、汚染水２に対する滅菌性が高い滅菌システムを
提供することが出来る。
のであり、より雑菌に対する殺菌性を高めることができ
るので、汚染水２に対する滅菌性が高い滅菌システムを
提供することが出来る。
【図１】この発明の汚染水の滅菌システムの一実施例の
フローチャートを示した図。
フローチャートを示した図。
【図２】図１の実施例の滅菌システムによる大腸菌の数
の経時変化の測定結果を示したグラフ。
の経時変化の測定結果を示したグラフ。
２ 汚染水 ３ 循環経路 ５ 酸素の脱気手段 ６ オゾンの注入手段 ７ 紫外線の照射手段 ８ 炭酸ガスを注入する手段 ９ 次亜鉛素酸水溶液を汚染水に注入する手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/78 9045−4Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】 滅菌処理を施すべき汚染水２の循環経路
３と、 この循環経路３に設けられた汚染水中の酸素の脱気手段
５と、汚染水へのオゾンの注入手段６と、汚染水への紫
外線の照射手段７と、汚染水の水素イオン濃度を約５か
ら約７の間に調整すべく炭酸ガスを注入する手段８と、
水素イオン濃度が約５から約６．５の間に調整された次
亜鉛素酸水溶液を汚染水に注入する手段９とを有するこ
とを特徴とする汚染水の滅菌システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3267821A JPH05104095A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | 汚染水の滅菌システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3267821A JPH05104095A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | 汚染水の滅菌システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05104095A true JPH05104095A (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=17450078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3267821A Pending JPH05104095A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | 汚染水の滅菌システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05104095A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776482A (ja) * | 1993-09-08 | 1995-03-20 | Tomoki Takashima | エスカレータベルト洗浄装置 |
| EP0701972A1 (de) * | 1994-09-17 | 1996-03-20 | Ricoh Kyosan Inc. | Verfahren zur Reinigung von industriellem Abwasser |
| EP0811578A2 (de) * | 1996-06-06 | 1997-12-10 | Ricoh Kyosan Inc. | Vorrichtung zur Entkeimung eines Fluides |
| CN103241827A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-08-14 | 哈尔滨工业大学 | 一种同时去除溶解性有机物和氨氮的水处理方法 |
-
1991
- 1991-10-16 JP JP3267821A patent/JPH05104095A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776482A (ja) * | 1993-09-08 | 1995-03-20 | Tomoki Takashima | エスカレータベルト洗浄装置 |
| EP0701972A1 (de) * | 1994-09-17 | 1996-03-20 | Ricoh Kyosan Inc. | Verfahren zur Reinigung von industriellem Abwasser |
| EP0811578A2 (de) * | 1996-06-06 | 1997-12-10 | Ricoh Kyosan Inc. | Vorrichtung zur Entkeimung eines Fluides |
| EP0811578A3 (de) * | 1996-06-06 | 1998-09-23 | Ricoh Kyosan Inc. | Vorrichtung zur Entkeimung eines Fluides |
| CN103241827A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-08-14 | 哈尔滨工业大学 | 一种同时去除溶解性有机物和氨氮的水处理方法 |
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