JPH11670A - 浴槽水の衛生状態の維持方法 - Google Patents
浴槽水の衛生状態の維持方法Info
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- JPH11670A JPH11670A JP9171255A JP17125597A JPH11670A JP H11670 A JPH11670 A JP H11670A JP 9171255 A JP9171255 A JP 9171255A JP 17125597 A JP17125597 A JP 17125597A JP H11670 A JPH11670 A JP H11670A
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- bathtub
- bath
- bathtub water
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Abstract
(57)【要約】
【課題】浴槽水の衛生状態を維持しながら、浴槽水の濁
度を一定以下に保つことができる浴槽水の衛生状態の維
持方法を提供すること。 【解決手段】循環ポンプ２を稼動させて浴槽３内の浴槽
水４を吸い込み、ろ過筒６で浄化した後に、再び浴槽３
内に吹き出して浴槽水４を循環させる浴槽水循環温浴器
を使用した浴槽水の衛生状態維持方法において、上記浴
槽水４に洗浄剤を添加する際、上記ろ過筒６への浴槽水
４の循環を一旦停止させ、浴槽水４中の塩素濃度を0.5
〜1.5 ｐｐｍとした後に、上記ろ過筒６への浴槽水４の
循環を再開させるようにした。
度を一定以下に保つことができる浴槽水の衛生状態の維
持方法を提供すること。 【解決手段】循環ポンプ２を稼動させて浴槽３内の浴槽
水４を吸い込み、ろ過筒６で浄化した後に、再び浴槽３
内に吹き出して浴槽水４を循環させる浴槽水循環温浴器
を使用した浴槽水の衛生状態維持方法において、上記浴
槽水４に洗浄剤を添加する際、上記ろ過筒６への浴槽水
４の循環を一旦停止させ、浴槽水４中の塩素濃度を0.5
〜1.5 ｐｐｍとした後に、上記ろ過筒６への浴槽水４の
循環を再開させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽水の衛生状態
を維持する方法に関する。
を維持する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】浴槽水循環温浴器を使用して浴槽水を循
環、浄化、保温するいわゆる２４時間風呂に於いて、殺
菌手段としては紫外線照射、オゾン発生、電解、薬剤添
加等が知られているが、浴槽水の衛生状態を良好に維持
することが不十分であった。
環、浄化、保温するいわゆる２４時間風呂に於いて、殺
菌手段としては紫外線照射、オゾン発生、電解、薬剤添
加等が知られているが、浴槽水の衛生状態を良好に維持
することが不十分であった。
【０００３】上述の温浴器は冷却塔、加湿器など他の機
器とは異なり、２４時間風呂においては衛生状態を維持
すると同時に入浴による汚れを除去（浄化）し、浴槽水
の濁度（透明度）を一定以下に保つことが要求されるも
のである。
器とは異なり、２４時間風呂においては衛生状態を維持
すると同時に入浴による汚れを除去（浄化）し、浴槽水
の濁度（透明度）を一定以下に保つことが要求されるも
のである。
【０００４】一般に、浴槽水循環温浴器の浄化は機械的
なろ過を行いながら、ろ過石等にバイオフィルムを生成
させ、微生物によるいわゆる生物浄化が用いられてい
る。すなわち浴槽水循環温浴器内にあるろ過筒において
は微生物がある程度必要であるが、人間と接する浴槽水
においては、存在する微生物は少ない方が好ましい。
なろ過を行いながら、ろ過石等にバイオフィルムを生成
させ、微生物によるいわゆる生物浄化が用いられてい
る。すなわち浴槽水循環温浴器内にあるろ過筒において
は微生物がある程度必要であるが、人間と接する浴槽水
においては、存在する微生物は少ない方が好ましい。
【０００５】衛生状態を維持する方法として塩素剤添加
が有効な方法であるが、薬剤添加に関しては実開平０４
−１０６６１０号公報に、殺菌効果を有する浴用剤の投
入時にはろ過筒内の有用な微生物が死滅又は減少して浄
化不良にならないようにろ過筒をバイパスし、ろ過筒以
外を浄化する浄化装置が開示されている。また、特開平
２−２８４６１０号公報には薬剤を殺菌剤ポンプにより
フィルタの内部でろ過材の１次側に直接投入し、ろ過材
中の雑菌を殺菌する風呂用循環装置が開示されている。
が有効な方法であるが、薬剤添加に関しては実開平０４
−１０６６１０号公報に、殺菌効果を有する浴用剤の投
入時にはろ過筒内の有用な微生物が死滅又は減少して浄
化不良にならないようにろ過筒をバイパスし、ろ過筒以
外を浄化する浄化装置が開示されている。また、特開平
２−２８４６１０号公報には薬剤を殺菌剤ポンプにより
フィルタの内部でろ過材の１次側に直接投入し、ろ過材
中の雑菌を殺菌する風呂用循環装置が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
浄化装置では、ろ過筒をバイパスして薬品を投入するた
め、ろ過筒中の微生物は繁殖を続け、結果としてろ過筒
内の微生物は浴槽へと混入することになる。また、上述
の風呂用循環装置では、薬剤を殺菌剤ポンプによりフィ
ルタの内部でろ過材の１次側に入れるため、高濃度の薬
剤がろ過筒内に直接投入され、ろ過材中の微生物を必要
以上に殺してしまうことになり、生物浄化が不十分とな
り入浴による汚れを除去（浄化）して浴槽水の濁度（透
明度）を一定以下（入浴者が濁りを感じない程度の濁り
であって業界自主基準としては濁度２以下）に保つこと
ができない問題があり、薬剤を投入することによる浴槽
水の殺菌効果は認められるものの、生物浄化を維持しな
がら浴槽水の殺菌をいかに最適に行うかが問題であっ
た。
浄化装置では、ろ過筒をバイパスして薬品を投入するた
め、ろ過筒中の微生物は繁殖を続け、結果としてろ過筒
内の微生物は浴槽へと混入することになる。また、上述
の風呂用循環装置では、薬剤を殺菌剤ポンプによりフィ
ルタの内部でろ過材の１次側に入れるため、高濃度の薬
剤がろ過筒内に直接投入され、ろ過材中の微生物を必要
以上に殺してしまうことになり、生物浄化が不十分とな
り入浴による汚れを除去（浄化）して浴槽水の濁度（透
明度）を一定以下（入浴者が濁りを感じない程度の濁り
であって業界自主基準としては濁度２以下）に保つこと
ができない問題があり、薬剤を投入することによる浴槽
水の殺菌効果は認められるものの、生物浄化を維持しな
がら浴槽水の殺菌をいかに最適に行うかが問題であっ
た。
【０００７】本発明は上記問題点を解消し、浴槽水の衛
生状態を維持するとともに、浴槽水の濁りを防止して快
適な入浴ができる浴槽水の衛生状態を維持する方法を提
供することをその課題とする。
生状態を維持するとともに、浴槽水の濁りを防止して快
適な入浴ができる浴槽水の衛生状態を維持する方法を提
供することをその課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明に係る浴槽水の衛生状態の維持方法は、循環
ポンプを稼動させて浴槽内の浴槽水を吸い込み、ろ過筒
で浄化した後に、再び浴槽内に吹き出して浴槽水を循環
させる浴槽水循環温浴器を使用した浴槽水の衛生状態を
維持する浴槽水の衛生状態維持方法において、上記浴槽
水に洗浄剤を添加する際、上記ろ過筒への浴槽水の循環
を一旦停止させ、浴槽水中の塩素濃度を0.5 〜1.5 ｐｐ
ｍとした後に、上記ろ過筒への浴槽水の循環を再開させ
るようにしたことを特徴とする。
め、本発明に係る浴槽水の衛生状態の維持方法は、循環
ポンプを稼動させて浴槽内の浴槽水を吸い込み、ろ過筒
で浄化した後に、再び浴槽内に吹き出して浴槽水を循環
させる浴槽水循環温浴器を使用した浴槽水の衛生状態を
維持する浴槽水の衛生状態維持方法において、上記浴槽
水に洗浄剤を添加する際、上記ろ過筒への浴槽水の循環
を一旦停止させ、浴槽水中の塩素濃度を0.5 〜1.5 ｐｐ
ｍとした後に、上記ろ過筒への浴槽水の循環を再開させ
るようにしたことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、一般家庭等で使用される
浴槽水循環温浴器（以下、温浴器という）の一例を示
し、この温浴器は温浴器本体１内の循環ポンプ２を稼動
させて浴槽３に貯められた浴槽水４を浴槽３内に配置さ
れた吸い込みユニット５から吸い込んで、ろ過筒６で浄
化した後、加熱装置７で暖めて浴槽３内に配置された吹
き出しユニット８から再び浴槽３内に吹き出し、ろ過筒
６内に設けられたろ過石等のろ過材６ａにバイオフィル
ムを生成させ、微生物によるいわゆる生物浄化をおこな
いながら、浴槽水４を常に所定の湯温にしていつでも好
きな時に入浴できる環境を提供するように構成されたも
ので、温浴器本体１には循環ポンプ２、ろ過筒６、加熱
装置７のほかに、紫外線照射装置やオゾン発生機などの
殺菌装置９、装置全体を制御するコントローラ１０、運
転状態等を表示する液晶モニター１１、設定温度等を入
力する操作ボタン１２を配置したコンソールパネル１３
等が配置されている。
浴槽水循環温浴器（以下、温浴器という）の一例を示
し、この温浴器は温浴器本体１内の循環ポンプ２を稼動
させて浴槽３に貯められた浴槽水４を浴槽３内に配置さ
れた吸い込みユニット５から吸い込んで、ろ過筒６で浄
化した後、加熱装置７で暖めて浴槽３内に配置された吹
き出しユニット８から再び浴槽３内に吹き出し、ろ過筒
６内に設けられたろ過石等のろ過材６ａにバイオフィル
ムを生成させ、微生物によるいわゆる生物浄化をおこな
いながら、浴槽水４を常に所定の湯温にしていつでも好
きな時に入浴できる環境を提供するように構成されたも
ので、温浴器本体１には循環ポンプ２、ろ過筒６、加熱
装置７のほかに、紫外線照射装置やオゾン発生機などの
殺菌装置９、装置全体を制御するコントローラ１０、運
転状態等を表示する液晶モニター１１、設定温度等を入
力する操作ボタン１２を配置したコンソールパネル１３
等が配置されている。
【００１０】なお、風呂釜で追い炊き、給湯が使える場
合は上記加熱装置７を省くこともできる。
合は上記加熱装置７を省くこともできる。
【００１１】本発明に使用される洗浄剤としては、塩素
系としてクロルイソシアヌル酸系（モノクロロイソシア
ヌル酸、ジクロロイソシアヌル酸、トリクロロイソシア
ヌル酸等の塩（塩はナトリウム、アンモニウム塩他）、
次亜塩素酸系（次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カル
シウムなど）が用いられる。
系としてクロルイソシアヌル酸系（モノクロロイソシア
ヌル酸、ジクロロイソシアヌル酸、トリクロロイソシア
ヌル酸等の塩（塩はナトリウム、アンモニウム塩他）、
次亜塩素酸系（次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カル
シウムなど）が用いられる。
【００１２】塩素の添加量は塩素として0.5 〜1.5 ｐｐ
ｍが必要であるが、好ましくは0.7〜1.2 ｐｐｍであ
る。
ｍが必要であるが、好ましくは0.7〜1.2 ｐｐｍであ
る。
【００１３】浴槽水が２００リットルの場合、有効塩素
量が６０％の洗浄剤（例えばスパクリーン６０：四国化
成）を用いれば、洗浄剤の添加量は0.17〜0.50ｇであ
る。
量が６０％の洗浄剤（例えばスパクリーン６０：四国化
成）を用いれば、洗浄剤の添加量は0.17〜0.50ｇであ
る。
【００１４】有効塩素が少ないと衛生状態を保持する効
果が十分でなく、また余りに多いと、人体への影響が出
たり、異臭がしたり、更には浴槽３を変色・損傷する場
合がある。
果が十分でなく、また余りに多いと、人体への影響が出
たり、異臭がしたり、更には浴槽３を変色・損傷する場
合がある。
【００１５】本発明に係る洗浄剤の添加方法としては、
洗浄剤を手で加える、水溶液として自動的に加える、半
自動的に（手動でボタンを押すと自動的に洗浄剤が浴槽
水４に添加する）など、適宜な方法で対応すればよい
が、浴槽３に添加した後、洗浄剤を浴槽水４とよく混合
させ、部分的に洗浄剤の濃度の高い部分がろ過筒（浄化
筒）６へ流入するのを抑えることが肝要で、さらに、ろ
過筒６へ送る浴槽水４の塩素濃度を0.5 〜1.5 ｐｐｍに
することが必要である。この塩素濃度は浴槽水が２００
リットルの場合、有効塩素量が６０％の洗浄剤（例えば
スパクリーン６０：四国化成）を用いれば、洗浄剤の添
加量は0.17〜0.50ｇで得ることができる。
洗浄剤を手で加える、水溶液として自動的に加える、半
自動的に（手動でボタンを押すと自動的に洗浄剤が浴槽
水４に添加する）など、適宜な方法で対応すればよい
が、浴槽３に添加した後、洗浄剤を浴槽水４とよく混合
させ、部分的に洗浄剤の濃度の高い部分がろ過筒（浄化
筒）６へ流入するのを抑えることが肝要で、さらに、ろ
過筒６へ送る浴槽水４の塩素濃度を0.5 〜1.5 ｐｐｍに
することが必要である。この塩素濃度は浴槽水が２００
リットルの場合、有効塩素量が６０％の洗浄剤（例えば
スパクリーン６０：四国化成）を用いれば、洗浄剤の添
加量は0.17〜0.50ｇで得ることができる。
【００１６】また、洗浄剤を添加する際には、洗浄剤の
投入ボタン１５を押させる。投入ボタン１５が押される
とコントローラ１０は表示手段１６を稼動させて入浴者
に洗浄剤を投入するように音声又はランプで促し、循環
ポンプ２を停止させる。入浴者は所定量の洗浄剤を投入
し、浴槽水４を攪拌した後に確認ボタン１７を押す。確
認ボタン１７が押されるとコントローラ１０は表示手段
１６の作動を停止し、循環ポンプ２を再稼動させて、浴
槽水４の循環を再開させる。
投入ボタン１５を押させる。投入ボタン１５が押される
とコントローラ１０は表示手段１６を稼動させて入浴者
に洗浄剤を投入するように音声又はランプで促し、循環
ポンプ２を停止させる。入浴者は所定量の洗浄剤を投入
し、浴槽水４を攪拌した後に確認ボタン１７を押す。確
認ボタン１７が押されるとコントローラ１０は表示手段
１６の作動を停止し、循環ポンプ２を再稼動させて、浴
槽水４の循環を再開させる。
【００１７】洗浄剤を半自動的に添加する際には、図３
のブロック図に示すように、コンソール１３から予め浴
槽水の量を入力し、メモリ２０に記憶させておく。洗浄
剤を投入する時には洗浄剤の投入ボタン１５を押させ
る。投入ボタン１５が押されるとコントローラ１０は表
示手段１６を稼動させて入浴者に洗浄剤が投入されるこ
とを音声で知らせるとともに循環ポンプ２を停止させ
る。コントローラ１０は循環ポンプ２を停止させた後、
メモリ２０に記憶された浴槽水４の量に対応した量の洗
浄剤を添加する時間を算出し、算出した時間だけ電磁バ
ルブ２１を開放してタンク２２内の洗浄剤を浴槽水の量
に見合った所定の量だけ浴槽３内に直接添加する。コン
トローラ１０は電磁バルブ２１を開いて洗浄剤を添加す
るとともに表示手段１６を稼動させて入浴者に湯を攪拌
し、攪拌が済んだら確認ボタン１７を押すように音声で
指示する。コントローラ１０は確認ボタン１７が押され
るまで循環ポンプ２は稼働させないように設定されてい
る。
のブロック図に示すように、コンソール１３から予め浴
槽水の量を入力し、メモリ２０に記憶させておく。洗浄
剤を投入する時には洗浄剤の投入ボタン１５を押させ
る。投入ボタン１５が押されるとコントローラ１０は表
示手段１６を稼動させて入浴者に洗浄剤が投入されるこ
とを音声で知らせるとともに循環ポンプ２を停止させ
る。コントローラ１０は循環ポンプ２を停止させた後、
メモリ２０に記憶された浴槽水４の量に対応した量の洗
浄剤を添加する時間を算出し、算出した時間だけ電磁バ
ルブ２１を開放してタンク２２内の洗浄剤を浴槽水の量
に見合った所定の量だけ浴槽３内に直接添加する。コン
トローラ１０は電磁バルブ２１を開いて洗浄剤を添加す
るとともに表示手段１６を稼動させて入浴者に湯を攪拌
し、攪拌が済んだら確認ボタン１７を押すように音声で
指示する。コントローラ１０は確認ボタン１７が押され
るまで循環ポンプ２は稼働させないように設定されてい
る。
【００１８】入浴者は浴槽水４を攪拌した後、確認ボタ
ン１７を押すと、コントローラ１０は循環ポンプ２を再
び稼動させて、洗浄剤を含んだ所定の塩素濃度の浴槽水
４を吸い込みユニット５から吸い込ませる。洗浄剤は浴
槽水４とともに循環路内を洗浄殺菌しながら流れ、やが
て吹き出しユニット８から浴槽３内に吹き出され、繰り
返し循環路及び浴槽水を洗浄殺菌する。
ン１７を押すと、コントローラ１０は循環ポンプ２を再
び稼動させて、洗浄剤を含んだ所定の塩素濃度の浴槽水
４を吸い込みユニット５から吸い込ませる。洗浄剤は浴
槽水４とともに循環路内を洗浄殺菌しながら流れ、やが
て吹き出しユニット８から浴槽３内に吹き出され、繰り
返し循環路及び浴槽水を洗浄殺菌する。
【００１９】次に、当日の入浴がすべて終了した後、浴
槽水に洗浄剤を毎日投入し、投入する前の浴槽水中のレ
ジオネラ属菌数の数と浴槽水の濁度との分析結果と、１
週間後、２週間後の浴槽水の分析結果とを、洗浄剤投入
時に循環ポンプを停止して投入後浴槽水を攪拌した後に
循環ポンプを再稼動させた場合と、循環ポンプを停止さ
せないで洗浄剤を投入した場合との比較をした実験例に
ついて説明する。
槽水に洗浄剤を毎日投入し、投入する前の浴槽水中のレ
ジオネラ属菌数の数と浴槽水の濁度との分析結果と、１
週間後、２週間後の浴槽水の分析結果とを、洗浄剤投入
時に循環ポンプを停止して投入後浴槽水を攪拌した後に
循環ポンプを再稼動させた場合と、循環ポンプを停止さ
せないで洗浄剤を投入した場合との比較をした実験例に
ついて説明する。
【００２０】実験例１では、３人家族が浴槽水量約２２
０リットルの浴槽に継続的に入浴した浴槽水について検
査した。洗浄剤を投入する前の３人家族が継続的に入浴
した浴槽水には、レジオネラ属菌が２×１０4CFU/100ml
検出され、この浴槽水の濁度は１であった。
０リットルの浴槽に継続的に入浴した浴槽水について検
査した。洗浄剤を投入する前の３人家族が継続的に入浴
した浴槽水には、レジオネラ属菌が２×１０4CFU/100ml
検出され、この浴槽水の濁度は１であった。
【００２１】毎日継続的に通常の入浴を続けながら、そ
の日の入浴終了後に洗浄剤（スパクリーン６０（有効塩
素濃度約６０％：四国化成製））を毎日0.37ｇ添加し
た。残留塩素濃度計算値は約１ｐｐｍであった。
の日の入浴終了後に洗浄剤（スパクリーン６０（有効塩
素濃度約６０％：四国化成製））を毎日0.37ｇ添加し
た。残留塩素濃度計算値は約１ｐｐｍであった。
【００２２】洗浄剤添加の際には、一旦浴槽水循環温浴
器の循環ポンプを停止し、洗浄剤を添加後に浴槽水を攪
拌して塩素濃度をほぼ均一にした後、循環ポンプを再稼
動させた。撹拌直後の塩素濃度は0.8 〜1.0 ｐｐｍであ
り、１分後の塩素濃度は0.8〜1.0 ｐｐｍであった。１
分後に循環ポンプを再稼働し、通常の運転、入浴を行っ
た。１週間後の浴槽水（入浴終了後１０時間後）を分析
した結果、レジオネラ属菌は１０CFU/100ml 未満であ
り、濁度も１で変わらなかった。毎日の入浴を継続的に
行ないながら２週間後に再び浴槽水を分析した結果、レ
ジオネラ属菌は１０CFU/100ml 未満であり、濁度も１で
あった。
器の循環ポンプを停止し、洗浄剤を添加後に浴槽水を攪
拌して塩素濃度をほぼ均一にした後、循環ポンプを再稼
動させた。撹拌直後の塩素濃度は0.8 〜1.0 ｐｐｍであ
り、１分後の塩素濃度は0.8〜1.0 ｐｐｍであった。１
分後に循環ポンプを再稼働し、通常の運転、入浴を行っ
た。１週間後の浴槽水（入浴終了後１０時間後）を分析
した結果、レジオネラ属菌は１０CFU/100ml 未満であ
り、濁度も１で変わらなかった。毎日の入浴を継続的に
行ないながら２週間後に再び浴槽水を分析した結果、レ
ジオネラ属菌は１０CFU/100ml 未満であり、濁度も１で
あった。
【００２３】実験例２では、３人家族が浴槽水量約４０
０リットルの浴槽に継続的に入浴した浴槽水について検
査した。３人家族が継続的に入浴した浴槽水には、レジ
オネラ属菌が２×１０4CFU/100ml 検出され、この浴槽
水の濁度は１であった。
０リットルの浴槽に継続的に入浴した浴槽水について検
査した。３人家族が継続的に入浴した浴槽水には、レジ
オネラ属菌が２×１０4CFU/100ml 検出され、この浴槽
水の濁度は１であった。
【００２４】毎日継続的に通常の入浴を続けながら、そ
の日の入浴終了後に洗浄剤（スパクリーン６０（有効塩
素濃度約６０％：四国化成製））を0.67ｇ添加した。残
留塩素濃度計算値は約１ｐｐｍであった。
の日の入浴終了後に洗浄剤（スパクリーン６０（有効塩
素濃度約６０％：四国化成製））を0.67ｇ添加した。残
留塩素濃度計算値は約１ｐｐｍであった。
【００２５】洗浄剤添加の際には、一旦浴槽水循環温浴
器の循環ポンプを停止し、洗浄剤を添加後浴槽水をかき
混ぜほぼ均一にした後、循環ポンプを再稼働させた。添
加したら直ちに浴槽水を撹拌し直後の塩素濃度は0.8 〜
1.0 ｐｐｍであり、１分後の塩素濃度は0.8 〜1.0 ｐｐ
ｍであった。１分後に循環ポンプを再稼動し、通常の運
転、入浴を行った。１週間後の浴槽水（入浴終了後１０
時間後）を分析した結果、レジオネラ属菌は１０CFU/10
0ml 未満であり、濁度も１で変わらなかった。２週間後
に浴槽水を分析した結果は１週間前と同様にレジオネラ
属菌は１０CFU/100ml 未満であり、濁度も１であった。
器の循環ポンプを停止し、洗浄剤を添加後浴槽水をかき
混ぜほぼ均一にした後、循環ポンプを再稼働させた。添
加したら直ちに浴槽水を撹拌し直後の塩素濃度は0.8 〜
1.0 ｐｐｍであり、１分後の塩素濃度は0.8 〜1.0 ｐｐ
ｍであった。１分後に循環ポンプを再稼動し、通常の運
転、入浴を行った。１週間後の浴槽水（入浴終了後１０
時間後）を分析した結果、レジオネラ属菌は１０CFU/10
0ml 未満であり、濁度も１で変わらなかった。２週間後
に浴槽水を分析した結果は１週間前と同様にレジオネラ
属菌は１０CFU/100ml 未満であり、濁度も１であった。
【００２６】実験例３では、３人家族が浴槽水量約２０
０リットルの浴槽に継続的に入浴した浴槽水について検
査した。３人家族が継続的に入浴した浴槽水には、レジ
オネラ属菌が５×１０4CFU/100ml 検出され、この浴槽
水の濁度は１であった。
０リットルの浴槽に継続的に入浴した浴槽水について検
査した。３人家族が継続的に入浴した浴槽水には、レジ
オネラ属菌が５×１０4CFU/100ml 検出され、この浴槽
水の濁度は１であった。
【００２７】毎日継続的に通常の入浴を続けながら、そ
の日の入浴終了後、洗浄剤（スパクリーン６０（効塩素
濃度６０％：四国化成製））を0.33ｇ添加した。残留塩
素濃度計算値は、約１ｐｐｍであった。洗浄剤添加の際
には、浴槽水循環温浴器の循環ポンプを停止せず、洗浄
剤を浴槽水に添加した。
の日の入浴終了後、洗浄剤（スパクリーン６０（効塩素
濃度６０％：四国化成製））を0.33ｇ添加した。残留塩
素濃度計算値は、約１ｐｐｍであった。洗浄剤添加の際
には、浴槽水循環温浴器の循環ポンプを停止せず、洗浄
剤を浴槽水に添加した。
【００２８】計算塩素濃度は0.8 〜1.0 ｐｐｍである
が、添加後の塩素濃度は0.4 〜0.5 ｐｐｍであった。１
週間後の浴槽水（入浴終了後１０時間後）を分析したと
ころ、レジオネラ属菌は４×１０4CFU/100ml であり、
濁度は１で変わらなかったが、２週間後に浴槽水を分析
した結果、レジオネラ属菌は９×１０2CFU/100ml に減
少したが、濁度は２に上昇した。
が、添加後の塩素濃度は0.4 〜0.5 ｐｐｍであった。１
週間後の浴槽水（入浴終了後１０時間後）を分析したと
ころ、レジオネラ属菌は４×１０4CFU/100ml であり、
濁度は１で変わらなかったが、２週間後に浴槽水を分析
した結果、レジオネラ属菌は９×１０2CFU/100ml に減
少したが、濁度は２に上昇した。
【００２９】なお、浴槽水中の塩素濃度は柴田科学機器
工業株式会社製の残留塩素測定器（オルトトリジン法）
を用いて測定した。また、レジオネラ属菌は「レジオネ
ラ属菌防除指針（１９９５年３月）」（全国旅館環境衛
生同業者組合連合会）に記載の方法に準じて行なった。
工業株式会社製の残留塩素測定器（オルトトリジン法）
を用いて測定した。また、レジオネラ属菌は「レジオネ
ラ属菌防除指針（１９９５年３月）」（全国旅館環境衛
生同業者組合連合会）に記載の方法に準じて行なった。
【００３０】上述の実験結果によれば、洗浄剤添加の際
に循環ポンプを一旦停止してから所定量の洗浄剤を投入
し、浴槽内の浴槽水をよく攪拌した後、循環ポンプを再
稼動することにより塩素濃度0.5 〜1.5 ｐｐｍの浴槽水
が循環路を流れ、ろ過筒内を通過することになり、ろ過
筒内の微生物の生存を維持して濁度を１に維持すること
ができるが、循環ポンプが稼動した状態で洗浄剤を投入
した場合は、濃度の高い洗浄剤が浴槽内に拡散しないう
ちに吸い込みユニットから濃度の高い状態で吸い込ま
れ、ろ過筒内に流入するためろ過筒内の微生物が減少
し、浄化作用が減少していると考えられる。
に循環ポンプを一旦停止してから所定量の洗浄剤を投入
し、浴槽内の浴槽水をよく攪拌した後、循環ポンプを再
稼動することにより塩素濃度0.5 〜1.5 ｐｐｍの浴槽水
が循環路を流れ、ろ過筒内を通過することになり、ろ過
筒内の微生物の生存を維持して濁度を１に維持すること
ができるが、循環ポンプが稼動した状態で洗浄剤を投入
した場合は、濃度の高い洗浄剤が浴槽内に拡散しないう
ちに吸い込みユニットから濃度の高い状態で吸い込ま
れ、ろ過筒内に流入するためろ過筒内の微生物が減少
し、浄化作用が減少していると考えられる。
【００３１】したがって、洗浄剤を添加する際には、一
旦循環ポンプを停止し、浴槽内の塩素濃度を最適な濃度
（0.5 〜1.5 ｐｐｍ）にした状態で、循環ポンプを再稼
動することにより、浴槽水中のレジオネラ菌を含む雑菌
の繁殖を抑え、且つ、ろ過筒内の有用な微生物を死滅さ
せることなく、しかも増殖させることなく維持すること
ができるので、浴槽水の殺菌をしながらろ過筒内の微生
物を死滅させないというバランスを確保でき、浴槽水を
良好な状態に維持させることができる。
旦循環ポンプを停止し、浴槽内の塩素濃度を最適な濃度
（0.5 〜1.5 ｐｐｍ）にした状態で、循環ポンプを再稼
動することにより、浴槽水中のレジオネラ菌を含む雑菌
の繁殖を抑え、且つ、ろ過筒内の有用な微生物を死滅さ
せることなく、しかも増殖させることなく維持すること
ができるので、浴槽水の殺菌をしながらろ過筒内の微生
物を死滅させないというバランスを確保でき、浴槽水を
良好な状態に維持させることができる。
【００３２】
【発明の効果】本発明の浴槽水の衛生状態の維持方法に
よれば、浴槽水循環温浴器を使用した入浴システムにお
いて、浴槽水に塩素濃度が0.5 〜1.5 ｐｐｍになるよう
に洗浄剤を添加し、最適塩素濃度になった浴槽水がろ過
筒を循環するようにしたので、微生物による生物浄化を
維持して浴槽水の白濁を起こさず、しかもレジオネラ属
菌を低いレベルに抑えることができ、衛生状態を確保し
ながら快適な入浴を提供することができる。
よれば、浴槽水循環温浴器を使用した入浴システムにお
いて、浴槽水に塩素濃度が0.5 〜1.5 ｐｐｍになるよう
に洗浄剤を添加し、最適塩素濃度になった浴槽水がろ過
筒を循環するようにしたので、微生物による生物浄化を
維持して浴槽水の白濁を起こさず、しかもレジオネラ属
菌を低いレベルに抑えることができ、衛生状態を確保し
ながら快適な入浴を提供することができる。
【図１】本発明に係る浴槽水の衛生状態を維持する方法
を適用した温浴器の構成を示す斜視図
を適用した温浴器の構成を示す斜視図
【図２】上記温浴器のブロック図
【図３】他の例の温浴器のブロック図
１ 温浴器本体 ２ 循環ポンプ ３ 浴槽 ４ 浴槽水 ５ 吸い込みユニット ６ ろ過筒 ７ 加熱装置 ８ 吹き出しユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ｃ ５５０ ５５０Ｈ ５５０Ｌ Ａ４７Ｋ 3/00 Ａ４７Ｋ 3/00 Ｋ Ｂ０１Ｄ 35/027 Ｂ０１Ｄ 35/16 35/16 Ｃ０２Ｆ 1/76 Ａ Ｃ０２Ｆ 1/76 Ｂ０１Ｄ 35/02 Ｊ
Claims (1)
- 【請求項１】 循環ポンプを稼動させて浴槽内の浴槽水
を吸い込み、ろ過筒で浄化した後に、再び浴槽内に吹き
出して浴槽水を循環させる浴槽水循環温浴器を使用した
浴槽水の衛生状態維持方法において、 上記浴槽水に洗浄剤を添加する際、上記ろ過筒への浴槽
水の循環を一旦停止させ、浴槽水中の塩素濃度を0.5 〜
1.5 ｐｐｍとした後に、上記ろ過筒への浴槽水の循環を
再開させるようにしたことを特徴とする浴槽水の衛生状
態の維持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9171255A JPH11670A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | 浴槽水の衛生状態の維持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9171255A JPH11670A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | 浴槽水の衛生状態の維持方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11670A true JPH11670A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15919940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9171255A Pending JPH11670A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | 浴槽水の衛生状態の維持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11670A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001079560A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-27 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 浴水浄化装置 |
| JP2001276840A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 浴水浄化装置 |
| US6721166B2 (en) * | 2001-04-05 | 2004-04-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
| US6876537B2 (en) | 1999-10-07 | 2005-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
| JP2021050892A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 株式会社ノーリツ | 風呂給湯装置 |
-
1997
- 1997-06-13 JP JP9171255A patent/JPH11670A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001079560A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-27 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 浴水浄化装置 |
| US6876537B2 (en) | 1999-10-07 | 2005-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
| JP2001276840A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 浴水浄化装置 |
| US6721166B2 (en) * | 2001-04-05 | 2004-04-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ceramic electronic component and method for manufacturing the same |
| JP2021050892A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 株式会社ノーリツ | 風呂給湯装置 |
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