JPH05102587A - 狭帯域エキシマレーザ装置 - Google Patents

狭帯域エキシマレーザ装置

Info

Publication number
JPH05102587A
JPH05102587A JP25898591A JP25898591A JPH05102587A JP H05102587 A JPH05102587 A JP H05102587A JP 25898591 A JP25898591 A JP 25898591A JP 25898591 A JP25898591 A JP 25898591A JP H05102587 A JPH05102587 A JP H05102587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etalon
laser
laser light
total reflection
pass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25898591A
Other languages
English (en)
Inventor
Terushi Tada
昭史 多田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP25898591A priority Critical patent/JPH05102587A/ja
Publication of JPH05102587A publication Critical patent/JPH05102587A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】レーザ光のスペクトルの狭帯域幅を変えること
なく、分散素子の個数を低減する。 【構成】レーザ光が、エタロン18を通過し、全反射鏡
6で折り返され再びエタロン18を通過し、全反射鏡1
7で折り返され、再度エタロン18を通過する過程を繰
り返し、多数回エタロン8を通過した後に全反射鏡12
にて折り返し、再びエタロン18で多数回通過し、レー
ザ媒質13を通過し出射鏡11により出射する。ここ
で、エタロン18,全反射鏡16,17における入射角
はすべて等しく、零ではない値である。この結果、全反
射鏡16,17によりレーザ光が折り返されレーザ光が
多数回エタロン18を通過するので、エタロン18と同
性能のエタロンを、エタロン18におけるレーザ光の通
過回数の半数と等しい個数で用いた従来方法と同じスペ
クトル幅のレーザ光を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、狭帯域エキシマレーザ
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の狭帯域エキシマレーザ装置につい
ては、1984年、7月発行の「カナディアン・ジャー
ナル・オブ・フィジックス(CANADIAN JOU
RNAL OF PHYSICS)」第63巻、214
頁から219頁に掲載されている文献に詳細に記述され
ている。この文献に記載されている従来の狭帯域エキシ
マレーザ装置を図3に示す。
【0003】この狭帯域エキシマレーザ装置は、レーザ
光が励起されるレーザ媒質13、レーザ光を狭帯域化す
るための分散素子14、レーザ光を発振させるための出
射鏡11と全反射鏡12からなる共振器、2枚のアパー
チャ15を有しており、図示の如く配置している。
【0004】この狭帯域エキシマレーザにおいては、レ
ーザ媒質13中で励起されレーザ光が、分散素子14に
入射することにより分散され、全反射鏡12により折り
返され再び分散素子14、レーザ媒質13を通過し、出
射鏡11よりレーザ光が出射する。ここで共振器内に、
アパーチャ15が挿入されているので、分散素子14に
より分散されたレーザ光の不要な成分が取り除かれ、ス
ペクトル幅の狭いレーザ光を得ることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の狭帯
域エキシマレーザ装置では、スペクトル幅の狭いレーザ
光を取り出すために、分散素子を多数配置する必要があ
り、分散素子の個数に従って装置が大きくなる問題があ
った。
【0006】本発明の目的は、レーザ光のスペクトルの
狭帯域幅を変えることなく、分散素子の個数を低減でき
る狭帯域エキシマレーザ装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による狭帯域エキ
シマレーザ装置は、レーザ光を発振させるための共振
器、前記共振器内にあってレーザ光が励起されるレーザ
媒質、及び前記共振器内にレーザ光を狭帯域化するため
の分散素子と、前記分散素子を挟む2枚の全反射鏡を有
し、前記レーザ媒質からのレーザ光が前記分散素子を多
数回通過して再び前記レーザ媒質へもどるようにするこ
とを特徴とする。
【0008】
【作用】本発明による狭帯域エキシマレーザにおいて
は、レーザ媒質中で励起されたレーザ光が、分散素子に
入射し、全反射鏡で折り返され、再び分散素子に入射
し、更に別の全反射鏡で折り返され分散素子に再入射す
る過程を繰り返し、同一の分散素子を多数回通過した
後、再びレーザ媒質を通過し出射鏡より出射する。ここ
で、分散素子を挟む2つの全反射鏡によりレーザ光が分
散素子を多数回通過するため、分散素子におけるレーザ
光の通過回数の半数と等しい個数の分散素子を用いた従
来方法と同じスペクトル幅のレーザ光を得ることができ
る。
【0009】
【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。
【0010】図1,2は、本発明の狭帯域エキシマレー
ザ装置の一実施例を説明するための図である。
【0011】図1に示した本発明を用いた狭帯域エキシ
マレーザ装置は、レーザ光が励起されるレーザ媒質1
3、レーザ光を発振させるための出射鏡11と全反射1
2からなる共振器、及び前記共振器内にレーザ光を狭帯
域化するための分散素子のエタロン18とレーザ光が分
散素子を多数回通過するようにエタロン18の反射面に
平行でエタロン18を挟んで配置した全反射鏡対16,
17から構成される。配置は図示の如くである。
【0012】この発明による狭帯域エキシマレーザにお
いては、レーザ媒質13中で励起されたレーザ光が、エ
タロン18に入射し、全反射鏡16にて折り返されるこ
とにより、再びエタロン18に入射し、全反射鏡17に
て折り返され、再度エタロン18に入射する過程を繰り
返し、多数回エタロン18を通過した後に全反射鏡12
にて折り返し、再びエタロン18を多数回通過し、レー
ザ媒質13を通過し出射鏡11により出射する。ここ
で、エタロン18,全反射鏡16,17における入射角
はすべて等しく、零ではない値である。この結果、全反
射鏡16,17によりレーザ光が折り返されレーザ光が
多数回エタロン18を通過するので、エタロン18と同
性能のエタロンを、エタロン18におけるレーザ光の通
過回数の半数と等しい個数で用いた従来方法と同じスペ
クトル幅のレーザ光を得ることができる。
【0013】図2に示した本発明を用いた狭帯域エキシ
マレーザ装置は、レーザ光が励起されるレーザ媒質1
3、レーザ光を発振させるための出射鏡11と全反射鏡
12からなる共振器、及び前記共振器内にレーザ光を狭
帯域化するための分散素子のプリズム19とレーザ光が
分散素子を多数回通過するようにプリズム19の反射面
に平行でプリズム19を挟んで配置した全反射鏡対1
6,17,及び1対のアパーチャ15から構成される。
配置は図示の如くである。
【0014】この発明による狭帯域エキシマレーザにお
いては、レーザ媒質13中で励起されたレーザ光が、ア
パーチャ15を通しプリズム19に入射し、全反射鏡1
6にて折り返されることにより、再びプリズム19に入
射し、全反射鏡17にて折り返され、再度プリズム19
に入射する過程を繰り返し、多数回プリズム19を通過
した後に全反射鏡12にて折り返し、再びプリズム19
を多数回通過し、アパーチャ15,レーザ媒質13を通
過し出射鏡11により出射する。ここで、レーザ光のプ
リズムにおける入射角をθ3 とすると、次の関係が成り
立つように配置する。
【0015】 0〈θ1 〈θ2 θ3 =(θ2 −θ1 )/2 この結果、全反射鏡対16,17によりレーザ光が折り
返されレーザ光が多数回プリズム19を通過するので、
プリズム19と同性能のプリズムを、プリズム19にお
けるレーザ光の通過回数の半数と等しい個数で用いた従
来方法と同じスペクトル幅のレーザ光を得ることができ
る。
【0016】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、1
つの分散素子で複数個の分散素子を用いた場合と同等の
性能を達成できるため、レーザ光のスペクトルの狭帯域
幅を変えることなく、分散素子の個数を低減できる狭帯
域エキシマレーザ装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の狭帯域エキシマレーザ装置の一実施例
を示す図。
【図2】本発明の狭帯域エキシマレーザ装置の一実施例
を示す図。
【図3】従来の狭帯域エキシマレーザ装置を示す図。
【符号の説明】
11 出射鏡 12 全反射鏡 13 レーザ媒質 14 分散素子 15 アパーチャ 16 全反射鏡 17 全反射鏡 18 エタロン 19 プリズム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光を発振させるための共振器、前
    記共振器内にあってレーザ光が励起されるレーザ媒質、
    及び前記共振器内にレーザ光を狭帯域化するための分散
    素子と、前記分散素子を挟む2枚の全反射鏡を有し、前
    記レーザ媒質からのレーザ光が前記分散素子を多数回通
    過して再び前記レーザ媒質へもどるように分散素子及び
    全反射鏡を配置したことを特徴とする狭帯域エキシマレ
    ーザ装置。
JP25898591A 1991-10-07 1991-10-07 狭帯域エキシマレーザ装置 Pending JPH05102587A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25898591A JPH05102587A (ja) 1991-10-07 1991-10-07 狭帯域エキシマレーザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25898591A JPH05102587A (ja) 1991-10-07 1991-10-07 狭帯域エキシマレーザ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05102587A true JPH05102587A (ja) 1993-04-23

Family

ID=17327754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25898591A Pending JPH05102587A (ja) 1991-10-07 1991-10-07 狭帯域エキシマレーザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05102587A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1237308A2 (en) * 2001-03-02 2002-09-04 Fujitsu Limited Apparatus for variable wavelength dispersion and wavelength dispersion slope
US6807335B2 (en) 2001-07-25 2004-10-19 Fujitsu Limited Wavelength characteristic variable apparatus
EP1615066A1 (en) * 2003-03-24 2006-01-11 Japan Science and Technology Corporation Optical frequency linear chirp variable unit

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1237308A2 (en) * 2001-03-02 2002-09-04 Fujitsu Limited Apparatus for variable wavelength dispersion and wavelength dispersion slope
EP1237308A3 (en) * 2001-03-02 2004-09-08 Fujitsu Limited Apparatus for variable wavelength dispersion and wavelength dispersion slope
US6807335B2 (en) 2001-07-25 2004-10-19 Fujitsu Limited Wavelength characteristic variable apparatus
EP1615066A1 (en) * 2003-03-24 2006-01-11 Japan Science and Technology Corporation Optical frequency linear chirp variable unit
EP1615066A4 (en) * 2003-03-24 2009-11-04 Japan Science & Tech Corp VARIABLE UNIT WITH LICH FREQUENCY LINEAR CHIRP

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5917849A (en) Line narrowing device with double duty grating
US5559816A (en) Narrow-band laser apparatus
TW312865B (ja)
US5835210A (en) Multi-pass spectrometer
JPH05102587A (ja) 狭帯域エキシマレーザ装置
Corney et al. A narrow bandwidth, pulsed, ultra-violet dye laser
JPH08228038A (ja) 狭域帯レーザー発生装置
JPH05152666A (ja) 狭帯域化レーザ
JP2001060738A (ja) 付与された自発的放出物を一体にフィルタリングするレーザ源
JPH03173486A (ja) 狭帯域化レーザ装置
JPH0797680B2 (ja) 狭帯域化レーザ装置
JP3071694B2 (ja) 狭帯域エキシマレーザ装置
FR2834080A1 (fr) Chaine amplificatrice pour la generation d'impulsions ultracourtes de forte puissance
JP2924261B2 (ja) 狭帯域エキシマレーザ装置
JP2987644B2 (ja) 狭帯域レーザ装置
US7254156B2 (en) Line-narrowed dye laser
JP2715608B2 (ja) 狭帯域化レーザ装置
JP3104251B2 (ja) 狭帯域エキシマレーザ装置
JP2000138410A (ja) 狭帯域放電励起レーザ装置
JPH0444374A (ja) エキシマレーザ装置
JPH0423480A (ja) 狭帯域レーザ装置
JP2695376B2 (ja) Cta光パラメトリック発振器
JPH06164029A (ja) 狭帯域レーザ装置
JP2715609B2 (ja) 狭帯域化レーザ装置
JPH05152667A (ja) 狭帯域化レーザ

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19980630