JPH08228038A - 狭域帯レーザー発生装置 - Google Patents
狭域帯レーザー発生装置Info
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- JPH08228038A JPH08228038A JP7286443A JP28644395A JPH08228038A JP H08228038 A JPH08228038 A JP H08228038A JP 7286443 A JP7286443 A JP 7286443A JP 28644395 A JP28644395 A JP 28644395A JP H08228038 A JPH08228038 A JP H08228038A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 直線狭域帯化光学系を利得媒体の両側に効果
的に用いることによって、従来技術によるシステムを改
良した狭域帯レーザー発生装置を提供する。 【解決手段】 狭域帯レーザー発生装置は、放射線を反
射させるための第１および第２反射手段（全反射ミラー
１２、１４）を備える光学式共鳴器と、共鳴器内で放射
線を増幅するためのレーザー媒体１０と、放射線から所
定の波長成分を選択するために前記第１および第２反射
手段間に設けられた選択手段（ファブリー・ペローのエ
タロン２２）と、放射線を偏光して偏光面を生成する偏
光手段（偏光ビームスプリッタ２０）を備えている。さ
らに、高強度の非常に狭い帯域幅の放射線を得るため
に、偏光面を回転させる回転手段（ファラデー回転体１
８）が設けられている。そして、出力ビーム２４は、偏
光ビームスプリッタ２０によって共鳴器の外部に伝達さ
れる。
的に用いることによって、従来技術によるシステムを改
良した狭域帯レーザー発生装置を提供する。 【解決手段】 狭域帯レーザー発生装置は、放射線を反
射させるための第１および第２反射手段（全反射ミラー
１２、１４）を備える光学式共鳴器と、共鳴器内で放射
線を増幅するためのレーザー媒体１０と、放射線から所
定の波長成分を選択するために前記第１および第２反射
手段間に設けられた選択手段（ファブリー・ペローのエ
タロン２２）と、放射線を偏光して偏光面を生成する偏
光手段（偏光ビームスプリッタ２０）を備えている。さ
らに、高強度の非常に狭い帯域幅の放射線を得るため
に、偏光面を回転させる回転手段（ファラデー回転体１
８）が設けられている。そして、出力ビーム２４は、偏
光ビームスプリッタ２０によって共鳴器の外部に伝達さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、狭域帯レーザー発
生装置に関し、さらに詳しくは、狭域帯エキシマレーザ
ー発生装置に関するものである。
生装置に関し、さらに詳しくは、狭域帯エキシマレーザ
ー発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザーの用途によっては、特にエキシ
マレーザーをフォトリソグラフィの光源として用いる場
合には、約０．００１ｎｍ以下の非常に狭い帯域幅が要
求される。
マレーザーをフォトリソグラフィの光源として用いる場
合には、約０．００１ｎｍ以下の非常に狭い帯域幅が要
求される。
【０００３】科学文献において、狭域帯レーザー放射
線、特にエキシマレーザー放射線を発生する多くの装置
が提案されている（「ＳＰＩＥ（写真−光学計測技術者
協会）、１４６３巻：光学式／レーザーマイクロリソグ
ラフィIV（１９９１）、６０４ページ」を参照）。
線、特にエキシマレーザー放射線を発生する多くの装置
が提案されている（「ＳＰＩＥ（写真−光学計測技術者
協会）、１４６３巻：光学式／レーザーマイクロリソグ
ラフィIV（１９９１）、６０４ページ」を参照）。
【０００４】レーザー共振器内で放射線の帯域幅を狭く
するために、共振器内において放射線から所定の波長成
分を選択する種々の手段が従来から知られている。これ
らの手段としては、例えば、光学的ビーム拡大手段と通
常は組み合わされる回折格子や、プリズム、およびファ
ブリー・ペローのエタロンなどがある。
するために、共振器内において放射線から所定の波長成
分を選択する種々の手段が従来から知られている。これ
らの手段としては、例えば、光学的ビーム拡大手段と通
常は組み合わされる回折格子や、プリズム、およびファ
ブリー・ペローのエタロンなどがある。
【０００５】放射線から所定の波長成分を選択すること
によって放射線の帯域幅を狭くするこれらの手段は、単
独でまたは組み合わせて用いられる。
によって放射線の帯域幅を狭くするこれらの手段は、単
独でまたは組み合わせて用いられる。
【０００６】直線偏光の放射線を狭域帯化させる種々の
光学系の内から、どの光学系を用いるべきかを決定する
には、各光学素子の特質を考慮する必要がある。それら
の特質としては、放射線の帯域幅を狭くする能力と共に
長期間にわたって高エネルギの放射線に耐える能力も含
まれている。例えば、以下に述べる評価基準が従来から
知られている。すなわち、回折格子やプリズムと比較し
て、エタロンは狭域帯化に対して非常に効率的である
が、高エネルギの放射線を受けた場合に損傷しやすい。
一方、回折格子やプリズムは、直線狭域帯化素子として
エタロンよりも効率は低いが、高エネルギの放射線に対
して強靱である（すなわち、高エネルギの放射線を長期
間にわたって受けても安定している）。
光学系の内から、どの光学系を用いるべきかを決定する
には、各光学素子の特質を考慮する必要がある。それら
の特質としては、放射線の帯域幅を狭くする能力と共に
長期間にわたって高エネルギの放射線に耐える能力も含
まれている。例えば、以下に述べる評価基準が従来から
知られている。すなわち、回折格子やプリズムと比較し
て、エタロンは狭域帯化に対して非常に効率的である
が、高エネルギの放射線を受けた場合に損傷しやすい。
一方、回折格子やプリズムは、直線狭域帯化素子として
エタロンよりも効率は低いが、高エネルギの放射線に対
して強靱である（すなわち、高エネルギの放射線を長期
間にわたって受けても安定している）。
【０００７】最近、直線狭域帯化素子として共振器内に
エタロンを配置したレーザーシステムが、米国特許第
５，１５０，３７０号（古屋）に開示されている。放射
線に対するエタロンの露光、すなわち、エタロンに対す
る放射線の負荷は、光学式共鳴器から放射線を出力させ
るために特殊な技術を用いているので、比較的低く保つ
ことができる。この技術は、１／４波長板（等価位相遅
延要素）を、共鳴器内の放射線のＰ偏光成分とＳ偏光成
分の比率を変化させる手段として用いている。１／４波
長板を光軸のまわりに回転させることによって、Ｐ偏光
成分とＳ偏光成分とを有する光ビームを、それらの偏光
成分の比率が特定の値になるように、制御することがで
きる。出力結合手段として用いられる偏光ビームスプリ
ッタは、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の比率に依存する割合
で、放射線をレーザー共鳴器の外部に放出する。
エタロンを配置したレーザーシステムが、米国特許第
５，１５０，３７０号（古屋）に開示されている。放射
線に対するエタロンの露光、すなわち、エタロンに対す
る放射線の負荷は、光学式共鳴器から放射線を出力させ
るために特殊な技術を用いているので、比較的低く保つ
ことができる。この技術は、１／４波長板（等価位相遅
延要素）を、共鳴器内の放射線のＰ偏光成分とＳ偏光成
分の比率を変化させる手段として用いている。１／４波
長板を光軸のまわりに回転させることによって、Ｐ偏光
成分とＳ偏光成分とを有する光ビームを、それらの偏光
成分の比率が特定の値になるように、制御することがで
きる。出力結合手段として用いられる偏光ビームスプリ
ッタは、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の比率に依存する割合
で、放射線をレーザー共鳴器の外部に放出する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の米国特
許第５，１５０，３７０号に記載されるレーザーシステ
ムは、波長成分を選択する構成要素（例えば、エタロ
ン、プリズム、回折格子など）がレーザー媒体の片側、
すなわち、偏光ビームスプリッタと全反射ミラーの間に
位置されるときにのみ効率的に作動される、という点に
おいて限定されている。特に、エタロンは、放射線の強
度の大きいレーザー媒体の他の側に配置することができ
ない。なお、この領域に波長成分を選択する他の構成要
素（回折格子やプリズムなど）を用いるのは好ましくな
い。何故なら、共鳴器のこの領域のレーザー光は１／４
波長板によって楕円形に偏光されているからである。さ
らに詳細に述べると、回折格子またはプリズムは、楕円
形に偏光されたレーザー光の偏光状態を変化させてしま
う傾向があり、システムの効率を劣化させる。
許第５，１５０，３７０号に記載されるレーザーシステ
ムは、波長成分を選択する構成要素（例えば、エタロ
ン、プリズム、回折格子など）がレーザー媒体の片側、
すなわち、偏光ビームスプリッタと全反射ミラーの間に
位置されるときにのみ効率的に作動される、という点に
おいて限定されている。特に、エタロンは、放射線の強
度の大きいレーザー媒体の他の側に配置することができ
ない。なお、この領域に波長成分を選択する他の構成要
素（回折格子やプリズムなど）を用いるのは好ましくな
い。何故なら、共鳴器のこの領域のレーザー光は１／４
波長板によって楕円形に偏光されているからである。さ
らに詳細に述べると、回折格子またはプリズムは、楕円
形に偏光されたレーザー光の偏光状態を変化させてしま
う傾向があり、システムの効率を劣化させる。
【０００９】従って、本発明の目的は、直線狭域帯化光
学系を利得媒体（レーザー媒体）の両側に効果的に用い
ることによって、従来技術によるシステムを改良した狭
域帯レーザー発生装置を提供することにある。
学系を利得媒体（レーザー媒体）の両側に効果的に用い
ることによって、従来技術によるシステムを改良した狭
域帯レーザー発生装置を提供することにある。
【００１０】本発明は、高強度の非常に狭い帯域幅の放
射線を得ることが可能な、狭域帯レーザー、特に狭域帯
エキシマレーザーを発生させる装置を提供するために、
なされたものである。
射線を得ることが可能な、狭域帯レーザー、特に狭域帯
エキシマレーザーを発生させる装置を提供するために、
なされたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の狭域帯レーザー
発生装置は、共鳴器内で放射線を反射させるための第１
および第２反射手段を備える光学式共鳴器と、共鳴器内
で放射線を増幅するためのレーザー媒体と、放射線から
所定の波長成分を選択するために共鳴器内に設けられた
選択手段と、放射線を偏光して偏光面を生成する偏光手
段と、放射線の前記偏光面を回転させる回転手段と、共
鳴器の外部に放射線を出力する手段であって、前記出力
手段に対する放射線の前記の回転された偏光面の方向に
応じて放射線の一部を出力する手段と、によって構成さ
れることを特徴とする。
発生装置は、共鳴器内で放射線を反射させるための第１
および第２反射手段を備える光学式共鳴器と、共鳴器内
で放射線を増幅するためのレーザー媒体と、放射線から
所定の波長成分を選択するために共鳴器内に設けられた
選択手段と、放射線を偏光して偏光面を生成する偏光手
段と、放射線の前記偏光面を回転させる回転手段と、共
鳴器の外部に放射線を出力する手段であって、前記出力
手段に対する放射線の前記の回転された偏光面の方向に
応じて放射線の一部を出力する手段と、によって構成さ
れることを特徴とする。
【００１２】放射線の偏光面を回転させる上記の回転手
段は、米国特許第５，１５０，３７０号において用いら
れた１／４波長板または他の位相遅延要素とは区別され
る。上述したように、従来のレーザー装置に用いられて
いる１／４波長板は，その板と端部ミラー間の領域で楕
円形に偏光されたレーザー光を生成する。一方、本発明
によれば、回転手段はレーザー光の偏光面を単に回転さ
せるだけであり、ビームの直線偏光は維持されている。
従って、高エネルギの放射線に対して強靱でかつ偏光の
機能を有する直線狭域帯化要素（回折格子など）を共鳴
器のこの領域において効率的に用いることができる。
段は、米国特許第５，１５０，３７０号において用いら
れた１／４波長板または他の位相遅延要素とは区別され
る。上述したように、従来のレーザー装置に用いられて
いる１／４波長板は，その板と端部ミラー間の領域で楕
円形に偏光されたレーザー光を生成する。一方、本発明
によれば、回転手段はレーザー光の偏光面を単に回転さ
せるだけであり、ビームの直線偏光は維持されている。
従って、高エネルギの放射線に対して強靱でかつ偏光の
機能を有する直線狭域帯化要素（回折格子など）を共鳴
器のこの領域において効率的に用いることができる。
【００１３】放射線の偏光面を回転させる手段は従来か
ら知られている。それらの手段は、ファラデー回転体と
呼ばれている。ファラデー回転体は、光学的に等方性の
材料からなる。この材料に磁場が付与される。材料の光
学的に有効な長さ（光線が透過する長さ）と磁場の強さ
に依存して、ファラデー回転体は、直線偏光の光ビーム
の偏光面を特定の角度だけ回転させる。磁場の強さを変
化させることによって、その角度は制御される。
ら知られている。それらの手段は、ファラデー回転体と
呼ばれている。ファラデー回転体は、光学的に等方性の
材料からなる。この材料に磁場が付与される。材料の光
学的に有効な長さ（光線が透過する長さ）と磁場の強さ
に依存して、ファラデー回転体は、直線偏光の光ビーム
の偏光面を特定の角度だけ回転させる。磁場の強さを変
化させることによって、その角度は制御される。
【００１４】水晶、特に溶融シリカが、電磁波スペクト
ルの紫外線領域、特にフォトリソグラフィに用いられる
エキシマレーザーから放射される波長範囲（１９３ｎｍ
ないし３５３ｎｍ）において、光ビームの偏光面を回転
させるファラデー回転体を構成する光学的に等方性の材
料として非常に好ましいことが知られている。
ルの紫外線領域、特にフォトリソグラフィに用いられる
エキシマレーザーから放射される波長範囲（１９３ｎｍ
ないし３５３ｎｍ）において、光ビームの偏光面を回転
させるファラデー回転体を構成する光学的に等方性の材
料として非常に好ましいことが知られている。
【００１５】本発明の好適な実施例によれば、出力手段
は入射面を有する偏光ビームスプリッタからなり、前記
の放射線の一部は、その偏光ビームスプリッタの入射面
に対する放射線の回転された偏光面の方向に応じて外部
に出力される。
は入射面を有する偏光ビームスプリッタからなり、前記
の放射線の一部は、その偏光ビームスプリッタの入射面
に対する放射線の回転された偏光面の方向に応じて外部
に出力される。
【００１６】本発明の他の好適な実施例によれば、共鳴
器は、レーザー媒体と第１反射手段との間に所定の波長
成分を選択する第１選択手段を設け、レーザー媒体と第
２反射手段との間に前記の波長成分に対する選択をさら
に改良するための第２選択手段を設けることによって構
成される。好ましくは、エタロンはレーザー媒体の片側
において共鳴器の光路に配置され、ビーム拡大器を伴う
回折格子はレーザー媒体の他の側において共鳴器の光路
に配置される。回折格子は、選択手段としての機能に加
えて、ミラーとしても機能する。
器は、レーザー媒体と第１反射手段との間に所定の波長
成分を選択する第１選択手段を設け、レーザー媒体と第
２反射手段との間に前記の波長成分に対する選択をさら
に改良するための第２選択手段を設けることによって構
成される。好ましくは、エタロンはレーザー媒体の片側
において共鳴器の光路に配置され、ビーム拡大器を伴う
回折格子はレーザー媒体の他の側において共鳴器の光路
に配置される。回折格子は、選択手段としての機能に加
えて、ミラーとしても機能する。
【００１７】本発明のさらに他の好適な実施例によれ
ば、共鳴器は少なくとも２つのビーム拡大手段（例え
ば、プリズム）を備え、レーザー媒体は、拡大された光
ビームがレーザー媒体を透過するような位置に配置され
る。このような構成は、レーザー媒体の増幅機能が効果
的に発揮される、という利点がある。これは、特にエキ
シマレーザーのようにガス放電レーザーの場合に重要で
ある。
ば、共鳴器は少なくとも２つのビーム拡大手段（例え
ば、プリズム）を備え、レーザー媒体は、拡大された光
ビームがレーザー媒体を透過するような位置に配置され
る。このような構成は、レーザー媒体の増幅機能が効果
的に発揮される、という利点がある。これは、特にエキ
シマレーザーのようにガス放電レーザーの場合に重要で
ある。
【００１８】本発明によるレーザー装置は、さらに以下
の利点を有している。すなわち、放射線の偏光面を回転
する手段は、外部に出力される放射線の百分率が各レー
ザー装置の最適値になるように、放射線の偏光面の回転
角を（例えば、磁場の強さを調整することによって）制
御することができる。例えば、偏光ビームスプリッタが
出力手段として用いられる場合、偏光ビームスプリッタ
における反射によって外部に放出される放射線の百分率
は、偏光ビームスプリッタの所謂入射面の方向に対する
偏光ビームスプリッタに入射される光ビームの偏光面の
方向に依存する。同じことが、偏光ビームスプリッタを
透過することによって外部に放出される放射線の百分率
にも適用される。従って、本発明によれば、外部に出力
される放射線の百分率は、非常に簡単にかつ正確に最適
化される。
の利点を有している。すなわち、放射線の偏光面を回転
する手段は、外部に出力される放射線の百分率が各レー
ザー装置の最適値になるように、放射線の偏光面の回転
角を（例えば、磁場の強さを調整することによって）制
御することができる。例えば、偏光ビームスプリッタが
出力手段として用いられる場合、偏光ビームスプリッタ
における反射によって外部に放出される放射線の百分率
は、偏光ビームスプリッタの所謂入射面の方向に対する
偏光ビームスプリッタに入射される光ビームの偏光面の
方向に依存する。同じことが、偏光ビームスプリッタを
透過することによって外部に放出される放射線の百分率
にも適用される。従って、本発明によれば、外部に出力
される放射線の百分率は、非常に簡単にかつ正確に最適
化される。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を、添付の図面を
参照して、さらに詳細に説明する。なお、実施例のレー
ザー装置は、エキシマレーザーを対象としている。
参照して、さらに詳細に説明する。なお、実施例のレー
ザー装置は、エキシマレーザーを対象としている。
【００２０】各図面において、同一のまたは同等の機能
を有するレーザー装置の部品および構成要素は同一の参
照番号で示すこととする。
を有するレーザー装置の部品および構成要素は同一の参
照番号で示すこととする。
【００２１】図１ないし図５において、エキシマレーザ
ーの従来技術ではよく知られているように、レーザー媒
体１０は、電極（図示せず）間のガス放電によってレー
ザー管内に生成される。光学式共鳴器は、全反射ミラー
１２、１４を備えている。図１に示される実施例におい
て、全反射ミラー１４は、光学式回折格子の形態を有し
ている。共鳴器内で循環する放射線の光路において、光
学式ビーム拡大器１６は回折格子１４の前方に配置され
る。このようなビーム拡大器１６は従来からよく知られ
ている。それらは、通常、プリズムからなる。共鳴器内
で循環するビームの光軸は符号「Ａ」で示されている。
ーの従来技術ではよく知られているように、レーザー媒
体１０は、電極（図示せず）間のガス放電によってレー
ザー管内に生成される。光学式共鳴器は、全反射ミラー
１２、１４を備えている。図１に示される実施例におい
て、全反射ミラー１４は、光学式回折格子の形態を有し
ている。共鳴器内で循環する放射線の光路において、光
学式ビーム拡大器１６は回折格子１４の前方に配置され
る。このようなビーム拡大器１６は従来からよく知られ
ている。それらは、通常、プリズムからなる。共鳴器内
で循環するビームの光軸は符号「Ａ」で示されている。
【００２２】ファラデー回転体１８は、回折格子１４及
びビーム拡大器１６のある側と、レーザー媒体１０との
間に配設されている。レーザー媒体１０と全反射ミラー
１２との間には、偏光ビームスプリッタ２０とファブリ
ー・ペローのエタロン（干渉計）２２が、図１に示され
る順で配置されている。
びビーム拡大器１６のある側と、レーザー媒体１０との
間に配設されている。レーザー媒体１０と全反射ミラー
１２との間には、偏光ビームスプリッタ２０とファブリ
ー・ペローのエタロン（干渉計）２２が、図１に示され
る順で配置されている。
【００２３】レーザー媒体１０（ガス放電によるプラズ
マ）において、紫外線が発生する。全反射ミラー１２の
方向に放出される放射線は、偏光ビームスプリッタ２０
を透過する。図示の実施例において、ビームスプリッタ
２０は、薄膜状の偏光子（偏波器）である。種々の偏光
ビームスプリッタが従来からよく知られている。例え
ば、多層立体式偏光要素、ブルースター角を有する透明
板、ウォラストンのプリズムなどが上記の偏光ビームス
プリッタ２０として用いられる。好ましくは、偏光ビー
ムスプリットミラーを用いるとよい。
マ）において、紫外線が発生する。全反射ミラー１２の
方向に放出される放射線は、偏光ビームスプリッタ２０
を透過する。図示の実施例において、ビームスプリッタ
２０は、薄膜状の偏光子（偏波器）である。種々の偏光
ビームスプリッタが従来からよく知られている。例え
ば、多層立体式偏光要素、ブルースター角を有する透明
板、ウォラストンのプリズムなどが上記の偏光ビームス
プリッタ２０として用いられる。好ましくは、偏光ビー
ムスプリットミラーを用いるとよい。
【００２４】図１に示される実施例のビームスプリッタ
２０は、放射線のＰ偏光成分に対して０．９８の透過率
を有する。すなわち、Ｐ偏光された放射線の９８％がビ
ームスプリッタ２０を透過する。図１の実施例におい
て、Ｐ偏光された光の偏光面は図１の描かれている紙面
である。Ｐ偏光された放射線は、本実施例において、図
１の紙面に対して垂直な偏光面を有している。ビームス
プリッタ２０は、Ｓ偏光された放射線の９８％（また
は、それより僅かに大きい）を反射する。すなわち、Ｓ
偏光された光の２％以下がビームスプリッタ２０を透過
する。換言すると、Ｓ偏光された放射線に対して、ビー
ムスプリッタ２０は約０．９８の反射率と約０．０２の
透過率を有している。
２０は、放射線のＰ偏光成分に対して０．９８の透過率
を有する。すなわち、Ｐ偏光された放射線の９８％がビ
ームスプリッタ２０を透過する。図１の実施例におい
て、Ｐ偏光された光の偏光面は図１の描かれている紙面
である。Ｐ偏光された放射線は、本実施例において、図
１の紙面に対して垂直な偏光面を有している。ビームス
プリッタ２０は、Ｓ偏光された放射線の９８％（また
は、それより僅かに大きい）を反射する。すなわち、Ｓ
偏光された光の２％以下がビームスプリッタ２０を透過
する。換言すると、Ｓ偏光された放射線に対して、ビー
ムスプリッタ２０は約０．９８の反射率と約０．０２の
透過率を有している。
【００２５】従って、偏光ビームスプリッタ２０を透過
する放射線は、実質的にＰ偏光されたものである。この
放射線はエタロン２２を透過して、ミラー１２で反射さ
れ、再びエタロン２２を透過する。その結果、この放射
線は非常に効率的に狭帯域化される。この狭帯域化され
た放射線は、ビームスプリッタ２０を（図１の右側から
左側に）透過し、このとき、放射線はビームスプリッタ
２０はそれほど大きくは減衰されない。そして、この放
射線はレーザー媒体１０で増幅される。このように増幅
された放射線は、ファラデー回転体１８を（図１の右側
から左側に）透過する。ファラデー回転体１８は、光学
的に活性でかつ光学的に等方性の材料である水晶からな
る。
する放射線は、実質的にＰ偏光されたものである。この
放射線はエタロン２２を透過して、ミラー１２で反射さ
れ、再びエタロン２２を透過する。その結果、この放射
線は非常に効率的に狭帯域化される。この狭帯域化され
た放射線は、ビームスプリッタ２０を（図１の右側から
左側に）透過し、このとき、放射線はビームスプリッタ
２０はそれほど大きくは減衰されない。そして、この放
射線はレーザー媒体１０で増幅される。このように増幅
された放射線は、ファラデー回転体１８を（図１の右側
から左側に）透過する。ファラデー回転体１８は、光学
的に活性でかつ光学的に等方性の材料である水晶からな
る。
【００２６】好適な実施例において、溶融シリカ（「Ｓ
ｕｐｒａｓｉｌ」の商品名で市販されている）からなる
ファラデー回転体１８が用いられている。「Ｓｕｐｒａ
ｓｉｌ」は、紫外線の偏光面を回転させるファラデー回
転体１８に好適な材料であることが知られている。ファ
ラデー回転体１８は、材料を貫通する磁場を発生させる
手段を備えている。磁場は、永久磁石またはソレノイド
によって発生する。ファラデー回転体１８は、透過する
放射線の偏光面を角度αだけ回転させる。この角度α
は、付与される磁場の強度と前記材料の光学的な有効長
さに依存する。従って、所定の長さのロッド状材料に対
して、放射線の偏光面の回転角αは、付与される磁場の
強度を変化させることによって制御される。
ｕｐｒａｓｉｌ」の商品名で市販されている）からなる
ファラデー回転体１８が用いられている。「Ｓｕｐｒａ
ｓｉｌ」は、紫外線の偏光面を回転させるファラデー回
転体１８に好適な材料であることが知られている。ファ
ラデー回転体１８は、材料を貫通する磁場を発生させる
手段を備えている。磁場は、永久磁石またはソレノイド
によって発生する。ファラデー回転体１８は、透過する
放射線の偏光面を角度αだけ回転させる。この角度α
は、付与される磁場の強度と前記材料の光学的な有効長
さに依存する。従って、所定の長さのロッド状材料に対
して、放射線の偏光面の回転角αは、付与される磁場の
強度を変化させることによって制御される。
【００２７】ビームスプリッタ１６と協働する回折格子
１４は、もう１つの波長成分選択要素を構成する。回折
格子１４が最大反射率を得るためには、回折格子１４と
ビームスプリッタ１６の組は、その入射面が放射線の偏
光面と平行になるように、軸Ａに対して回転される必要
がある。図１に示される実施例において、放射線の偏光
面は紙面に対して角度αだけ回転される（ファラデー回
転体の記述を参照のこと）。
１４は、もう１つの波長成分選択要素を構成する。回折
格子１４が最大反射率を得るためには、回折格子１４と
ビームスプリッタ１６の組は、その入射面が放射線の偏
光面と平行になるように、軸Ａに対して回転される必要
がある。図１に示される実施例において、放射線の偏光
面は紙面に対して角度αだけ回転される（ファラデー回
転体の記述を参照のこと）。
【００２８】回折格子１４によって反射された放射線は
再びファラデー回転体１８を（図１の左側から右側に）
透過し、再び角度αだけ回転される。従って、ファラデ
ー回転体を２度透過した後、レーザー媒体１０で増幅さ
れてビームスプリッタ２０に入射する放射線の偏光面
は、（図１の紙面に対して平行な）元の偏光面に対して
２αの角度だけ回転されている。
再びファラデー回転体１８を（図１の左側から右側に）
透過し、再び角度αだけ回転される。従って、ファラデ
ー回転体を２度透過した後、レーザー媒体１０で増幅さ
れてビームスプリッタ２０に入射する放射線の偏光面
は、（図１の紙面に対して平行な）元の偏光面に対して
２αの角度だけ回転されている。
【００２９】偏光ビームスプリッタ２０の反射率Ｒと透
過率Ｔは角度αによって決定される。すなわち、反射率
Ｒは、Ｒ＝ｓｉｎ2 （２α）の式で与えられ、透過率Ｔ
はＴ＝ｃｏｓ2 （２α）の式で与えられる。図１に示さ
れる実施例において、反射率Ｒは、ビームスプリッタ２
０に入射する放射線の百分率、すなわち、放出レーザー
放射線２４として外部に出力される放射線の量を決定す
る。エキシマレーザーの場合、出力される放射線の最適
な百分率は、サイクル毎の増幅と共鳴器の内部損失に依
存して、代表的には、８５％から９５％の範囲内にあ
る。これは、ビームスプリッタ２０の反射率がそのビー
ムスプリッタに入射する偏光された放射線に対して０．
８５から０．９５の範囲内にあるように、上記の角度α
が選択されることを意味する。これは、また、対応する
角度αが３４°から３９°の範囲内にあることを意味す
る。
過率Ｔは角度αによって決定される。すなわち、反射率
Ｒは、Ｒ＝ｓｉｎ2 （２α）の式で与えられ、透過率Ｔ
はＴ＝ｃｏｓ2 （２α）の式で与えられる。図１に示さ
れる実施例において、反射率Ｒは、ビームスプリッタ２
０に入射する放射線の百分率、すなわち、放出レーザー
放射線２４として外部に出力される放射線の量を決定す
る。エキシマレーザーの場合、出力される放射線の最適
な百分率は、サイクル毎の増幅と共鳴器の内部損失に依
存して、代表的には、８５％から９５％の範囲内にあ
る。これは、ビームスプリッタ２０の反射率がそのビー
ムスプリッタに入射する偏光された放射線に対して０．
８５から０．９５の範囲内にあるように、上記の角度α
が選択されることを意味する。これは、また、対応する
角度αが３４°から３９°の範囲内にあることを意味す
る。
【００３０】偏光ビームスプリッタ２０は０．０５から
０．１５の範囲の透過率しか有していないので、ファブ
リー・ペローのエタロン２２を透過する放射線の強度は
比較的低い。具体的には、ビームスプリッタ２０（図
１）の右側における放射線の強度は、ビームスプリッタ
２０の左側における放射線の強度の６分の１ないし２０
分の１である。従って、エタロン２２に対する放射線の
負荷はかなり減少している。
０．１５の範囲の透過率しか有していないので、ファブ
リー・ペローのエタロン２２を透過する放射線の強度は
比較的低い。具体的には、ビームスプリッタ２０（図
１）の右側における放射線の強度は、ビームスプリッタ
２０の左側における放射線の強度の６分の１ないし２０
分の１である。従って、エタロン２２に対する放射線の
負荷はかなり減少している。
【００３１】放射線の偏光面の回転に関する上記の説明
から、図１に示される実施例の偏光ビームスプリッタ２
０は、その入射面がビーム拡大器１６と協働する回折格
子１４の入射面と平行にならないように、配置されてい
る。詳細に述べると、ビームスプリッタ２０は、その入
射面が回折格子１４とビーム拡大器１６の入射面に対し
て−αの角度だけ変位するように、共鳴器内において光
路の軸Ａに沿って配置されている（ファラデー回転体１
８は、放射線が透過するたびに＋αの角度だけその放射
線の偏光面を回転させる）。
から、図１に示される実施例の偏光ビームスプリッタ２
０は、その入射面がビーム拡大器１６と協働する回折格
子１４の入射面と平行にならないように、配置されてい
る。詳細に述べると、ビームスプリッタ２０は、その入
射面が回折格子１４とビーム拡大器１６の入射面に対し
て−αの角度だけ変位するように、共鳴器内において光
路の軸Ａに沿って配置されている（ファラデー回転体１
８は、放射線が透過するたびに＋αの角度だけその放射
線の偏光面を回転させる）。
【００３２】図１に示される実施例において、偏光ビー
ムスプリッタ２０は、そのビームスプリッタ２０での反
射によって放射線２４を外部に放出する。
ムスプリッタ２０は、そのビームスプリッタ２０での反
射によって放射線２４を外部に放出する。
【００３３】図２は、本発明の他の実施例を示してい
る。この実施例は、出力される光ビーム２４が偏光ビー
ムスプリッタ２０を透過するという点を除けば、図１に
示される実施例と同一の構成を有している。偏光ビーム
スプリッタ２０において反射された放射線はファブリー
・ペローのエタロン２２を透過し、全反射ミラー１２に
よって反射される。そして、再びファブリー・ペローの
エタロン２２を透過した後、偏光ビームスプリッタ２０
で反射され、レーザー媒体を透過する。図２に示される
実施例におけるファラデー回転体１８、ビームスプリッ
タ１６および回折格子１４は、図１の実施例に示される
各対応要素とまったく同一である。従って、図２ではそ
れらの要素は図示されず、参照番号のみが示されてい
る。ファラデー回転体１８は、付与される磁場を調整す
ることによって、偏光ビームスプリッタ２０（図２）の
透過率が０．８５から０．９５、その反射率Ｒが０．０
５から０．１５の範囲内の値になるように、放射線の偏
光面を回転角αだけ回転させる。
る。この実施例は、出力される光ビーム２４が偏光ビー
ムスプリッタ２０を透過するという点を除けば、図１に
示される実施例と同一の構成を有している。偏光ビーム
スプリッタ２０において反射された放射線はファブリー
・ペローのエタロン２２を透過し、全反射ミラー１２に
よって反射される。そして、再びファブリー・ペローの
エタロン２２を透過した後、偏光ビームスプリッタ２０
で反射され、レーザー媒体を透過する。図２に示される
実施例におけるファラデー回転体１８、ビームスプリッ
タ１６および回折格子１４は、図１の実施例に示される
各対応要素とまったく同一である。従って、図２ではそ
れらの要素は図示されず、参照番号のみが示されてい
る。ファラデー回転体１８は、付与される磁場を調整す
ることによって、偏光ビームスプリッタ２０（図２）の
透過率が０．８５から０．９５、その反射率Ｒが０．０
５から０．１５の範囲内の値になるように、放射線の偏
光面を回転角αだけ回転させる。
【００３４】図３は、狭域帯レーザー発生装置の第３実
施例である。この実施例は、図１に示される実施例の構
成に加えて、２つの偏光ビームスプリッタ２６、３８
と、１／２波形板（半波長板）２８と、プリズム３０、
３６からなるもう１つのビーム拡大器と、ミラー３２、
３４とを備えている。さらに、２つのスリット型ダイア
フラム４０、４２が共鳴器内に配置されている。
施例である。この実施例は、図１に示される実施例の構
成に加えて、２つの偏光ビームスプリッタ２６、３８
と、１／２波形板（半波長板）２８と、プリズム３０、
３６からなるもう１つのビーム拡大器と、ミラー３２、
３４とを備えている。さらに、２つのスリット型ダイア
フラム４０、４２が共鳴器内に配置されている。
【００３５】図３に示されるレーザー装置の機能は以下
の通りである。回折格子１４とビーム拡大器１６による
放射線の帯域幅をさらに減少させるために、スリット型
ダイアフラム４０、４２が共鳴器内に配置される。ま
た、スリット型ダイアフラム４０、４２は、ビーム発散
を減少させる。しかし、スリット型ダイアフラムは、ビ
ームの径も減少させる。レーザー媒体１０を透過するビ
ームの径が比較的小さい場合、レーザー媒体（ガス放電
のプラズマ）は放射線を十分に増幅させることができな
い。従って、図３のレーザー装置は、付加的な２つの偏
光ビームスプリッタ３８、２６と、プリズム３０、３６
からなるビーム拡大器と、ミラー３２、３４を備えてい
る。付加的な偏光ビームスプリッタ２６、３８は、それ
らの入射面が偏光ビームスプリッタ２０の入射面と平行
になるように、光路に配置されている。１／２波長板２
８は、プリズム３６、３０と１／２波長板２８を（図３
の左側から右側に）透過した後の放射線がＳ偏光される
ような機能を有するように選択される。Ｓ偏光された放
射線は、偏光ビームスプリッタ２６によって十分に反射
される。この反射された放射線は、図３に示されるよう
に、比較的大きなビーム径でレーザー媒体１０を透過す
る。
の通りである。回折格子１４とビーム拡大器１６による
放射線の帯域幅をさらに減少させるために、スリット型
ダイアフラム４０、４２が共鳴器内に配置される。ま
た、スリット型ダイアフラム４０、４２は、ビーム発散
を減少させる。しかし、スリット型ダイアフラムは、ビ
ームの径も減少させる。レーザー媒体１０を透過するビ
ームの径が比較的小さい場合、レーザー媒体（ガス放電
のプラズマ）は放射線を十分に増幅させることができな
い。従って、図３のレーザー装置は、付加的な２つの偏
光ビームスプリッタ３８、２６と、プリズム３０、３６
からなるビーム拡大器と、ミラー３２、３４を備えてい
る。付加的な偏光ビームスプリッタ２６、３８は、それ
らの入射面が偏光ビームスプリッタ２０の入射面と平行
になるように、光路に配置されている。１／２波長板２
８は、プリズム３６、３０と１／２波長板２８を（図３
の左側から右側に）透過した後の放射線がＳ偏光される
ような機能を有するように選択される。Ｓ偏光された放
射線は、偏光ビームスプリッタ２６によって十分に反射
される。この反射された放射線は、図３に示されるよう
に、比較的大きなビーム径でレーザー媒体１０を透過す
る。
【００３６】図４は、狭域幅の放射線を放出するエキシ
マレーザー装置の第４実施例を示している。従来から、
透過するレーザーの軸がエキシマレーザーの電極の縦軸
と正確には平行にならないように、ビームをレーザー媒
体（ガス放電のプラズマ）に透過させる技術が知られて
いる。この技術は、好ましくは、横方向に励起されるレ
ーザーに適応される。
マレーザー装置の第４実施例を示している。従来から、
透過するレーザーの軸がエキシマレーザーの電極の縦軸
と正確には平行にならないように、ビームをレーザー媒
体（ガス放電のプラズマ）に透過させる技術が知られて
いる。この技術は、好ましくは、横方向に励起されるレ
ーザーに適応される。
【００３７】図４は、上記の技術が適応されたレーザー
装置を示している。すなわち、このレーザー装置におい
て、ビームはエキシマレーザーの電極の縦軸に対して傾
斜している。図４において、ファラデー回転体１８と、
ビーム拡大器１６および回折格子１４は図示省略されて
おり、参照番号のみが示されている。これらの要素は、
それぞれ、図１に示される実施例の対応する要素と同一
の機能を有している。
装置を示している。すなわち、このレーザー装置におい
て、ビームはエキシマレーザーの電極の縦軸に対して傾
斜している。図４において、ファラデー回転体１８と、
ビーム拡大器１６および回折格子１４は図示省略されて
おり、参照番号のみが示されている。これらの要素は、
それぞれ、図１に示される実施例の対応する要素と同一
の機能を有している。
【００３８】共鳴器内でのビームの軸の方向は、スプリ
ット型ダイアフラム４２、４６によって決定される。こ
のビームの軸はエキシマレーザーの放電管の電極の長手
方向に対して約１°だけ傾斜している。偏光ビームスプ
リッタ２０において反射された放射線はビーム拡大器４
４（これは、例えば、図３のビーム拡大器３０、３２、
３４、３６に相当）を透過する。ビーム拡大器４４によ
って拡大されたビームはミラー５０で反射され、偏光ビ
ームスプリッタ２０に入射する。その後、ビームは再び
レーザー媒体１０を透過し、このとき、ビームの方向は
電極の長手方向に対して約２°だけ傾斜している。スリ
ット型ダイアフラム４６は、出力ビーム２４を発生させ
る手段を兼ねている。スリット型ダイアフラム４６の表
面は、全反射ミラーである。
ット型ダイアフラム４２、４６によって決定される。こ
のビームの軸はエキシマレーザーの放電管の電極の長手
方向に対して約１°だけ傾斜している。偏光ビームスプ
リッタ２０において反射された放射線はビーム拡大器４
４（これは、例えば、図３のビーム拡大器３０、３２、
３４、３６に相当）を透過する。ビーム拡大器４４によ
って拡大されたビームはミラー５０で反射され、偏光ビ
ームスプリッタ２０に入射する。その後、ビームは再び
レーザー媒体１０を透過し、このとき、ビームの方向は
電極の長手方向に対して約２°だけ傾斜している。スリ
ット型ダイアフラム４６は、出力ビーム２４を発生させ
る手段を兼ねている。スリット型ダイアフラム４６の表
面は、全反射ミラーである。
【００３９】図５は、狭域幅レーザー発生装置の第５実
施例を示している。
施例を示している。
【００４０】図５の実施例は、それぞれが複数のプリズ
ムからなる２つのビーム拡大器１６ａ、１６ｂを備えて
いる。レーザー媒体１０は、ビーム拡大器１６ａ、１６
ｂ間に介在している。従って、レーザー媒体を透過する
ビームは比較的大きな断面積を有し、レーザー媒体１０
は放射線を効率的に増幅することができる。図５に示さ
れる他の光学的要素は図１に示される実施例の対応する
要素と同一の機能を有している。ファラデー回転体１８
は、レーザー媒体１０と偏光ビームスプリッタ２０の間
に介在している。あるいは、ファラデー回転体１８は、
レーザー媒体１０と、回折格子１４と協働するビーム拡
大器１６ａの間に配置されてもよい。この場合のファラ
デー回転体の配置は矢印１８′によって示されている。
ムからなる２つのビーム拡大器１６ａ、１６ｂを備えて
いる。レーザー媒体１０は、ビーム拡大器１６ａ、１６
ｂ間に介在している。従って、レーザー媒体を透過する
ビームは比較的大きな断面積を有し、レーザー媒体１０
は放射線を効率的に増幅することができる。図５に示さ
れる他の光学的要素は図１に示される実施例の対応する
要素と同一の機能を有している。ファラデー回転体１８
は、レーザー媒体１０と偏光ビームスプリッタ２０の間
に介在している。あるいは、ファラデー回転体１８は、
レーザー媒体１０と、回折格子１４と協働するビーム拡
大器１６ａの間に配置されてもよい。この場合のファラ
デー回転体の配置は矢印１８′によって示されている。
【００４１】この実施例において、プリズム１６ｂの光
軸を、反射損失を最小にするために、ビームの偏光面と
一列に整列させるのが望ましい。そのための１つの方法
として、ファラデー回転体１８によるビームの偏光面の
回転と一致させるように、プリズムを角度αだけ回転さ
せるとよい。プリズムを回転させるのは厄介なので、他
の方法として、偏光ビームスプリッタ２０とプリズム１
６ｂとの間で共鳴器内に１／２波長板（図示せず）を挿
入させてもよい。この１／２波長板は、プリズムに入射
する前にスプリッタ２０を通過する直線偏光された光の
偏光面を回転させる機能を有している。１／２波長板の
方位角は、ファラデー回転体１８によって生じるビーム
の偏光面の回転角がその１／２波長板によって生じるビ
ームの偏光面の回転によって補償されるように、調整さ
れる。この構成によって、プリズムの反射損失は、プリ
ズムを回転させずに最小化される。
軸を、反射損失を最小にするために、ビームの偏光面と
一列に整列させるのが望ましい。そのための１つの方法
として、ファラデー回転体１８によるビームの偏光面の
回転と一致させるように、プリズムを角度αだけ回転さ
せるとよい。プリズムを回転させるのは厄介なので、他
の方法として、偏光ビームスプリッタ２０とプリズム１
６ｂとの間で共鳴器内に１／２波長板（図示せず）を挿
入させてもよい。この１／２波長板は、プリズムに入射
する前にスプリッタ２０を通過する直線偏光された光の
偏光面を回転させる機能を有している。１／２波長板の
方位角は、ファラデー回転体１８によって生じるビーム
の偏光面の回転角がその１／２波長板によって生じるビ
ームの偏光面の回転によって補償されるように、調整さ
れる。この構成によって、プリズムの反射損失は、プリ
ズムを回転させずに最小化される。
【００４２】
【発明の効果】本発明は以上に示したように構成される
ので、高強度の非常に狭い帯域幅のレーザー放射線を得
ることが可能な、狭域帯レーザー、特に狭域帯エキシマ
レーザーを発生させる装置を提供することができる。
ので、高強度の非常に狭い帯域幅のレーザー放射線を得
ることが可能な、狭域帯レーザー、特に狭域帯エキシマ
レーザーを発生させる装置を提供することができる。
【図１】狭域帯レーザー放射線を発生させるレーザー装
置の第１実施例の概略図である。
置の第１実施例の概略図である。
【図２】狭域帯レーザー放射線を発生させるレーザー装
置の第２実施例の概略図である。
置の第２実施例の概略図である。
【図３】狭域帯レーザー放射線を発生させるレーザー装
置の第３実施例の概略図である。
置の第３実施例の概略図である。
【図４】狭域帯レーザー放射線を発生させるレーザー装
置の第４実施例の概略図である。
置の第４実施例の概略図である。
【図５】狭域帯レーザー放射線を発生させるレーザー装
置の第５実施例の概略図である。
置の第５実施例の概略図である。
１０ レーザー媒体 １２ 全反射ミラー １４ 全反射ミラー（回折格子） １６ ビーム拡大器 １８ ファラデー回転体 ２０ 偏光ビームスプリッタ ２２ ファブリー・ペローのエタロン ２４ 放出レーザー放射線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/10 Ｈ０１Ｓ 3/134 3/1055 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｂ 3/134 Ｈ０１Ｓ 3/08 Ｚ 3/225 3/223 Ｅ (71)出願人 591283936 ラムダ・フィジーク・ゲゼルシャフト・ツ ァ・ヘルシュテルンク・フォン・ラーゼル ン・ミット・ベシュレンクテル・ハフツン グ ＬＡＭＢＤＡ ＰＨＹＳＩＫ ＧＥＳＥＬ ＬＳＣＨＡＦＴ ＺＵＲ ＨＥＲＳＴＥＬ ＬＵＮＧ ＶＯＮ ＬＡＳＥＲＮ ＭＩＴ ＢＥＳＣＨＲＡＮＫＴＥＲ ＨＡＦＴＵ ＮＧ ドイツ連邦共和国、37079 ゲッティンゲ ン、ハンス−ベックラー−シュトラーセ 12 (72)発明者 ディルク・バスティンク ドイツ連邦共和国、37079 ゲッティンゲ ン、アム・ヴィンターベルク 15 (72)発明者 ユルゲン・クラインシュミット ドイツ連邦共和国、06667 ヴァイセンフ ェルス、ローザ‐ルクセンブルク‐シュト ラーセ 18
Claims (17)
- 【請求項１】Ａ． 共鳴器内で放射線を反射する第１お
よび第２反射手段（１２、１４）を備える共鳴器と、 Ｂ． 前記共鳴器内で放射線を増幅するためのレーザー
媒体（１０）と、 Ｃ． 前記放射線から所定の波長成分を選択するために
前記共鳴器内に設けられる選択手段（２２）と、 Ｄ． 前記放射線を偏光して偏光面を生成する偏光手段
（２０）と、 Ｅ． 前記放射線の前記偏光面を回転させる回転手段
（１８）と、 Ｆ． 前記放射線を出力する手段（２０）であって、こ
の出力手段に対する前記放射線の回転された前記偏光面
の方向に応じて、前記放射線の一部を前記共鳴器の外部
に出力する手段（２０）と、 によって構成されることを特徴とする狭域帯レーザー発
生装置。 - 【請求項２】 前記出力手段は入射面を有する偏光ビー
ムスプリッタ（２０）からなり、前記の放射線の一部
は、前記偏光ビームスプリッタ（２０）の前記入射面に
対する前記放射線の回転された前記偏光面の方向に応じ
て前記共鳴器の外部に出力されることを特徴とする請求
項１に記載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項３】 前記共鳴器は、前記レーザー媒体（１
０）と前記第１反射手段（１２）との間に前記の所定の
波長成分を選択する第１選択手段（２２）を設け、さら
に前記レーザー媒体（１０）と前記第２反射手段（１
４）との間に前記の所定の波長成分を選択する第２選択
手段を設けることによって構成されることを特徴とする
請求項１に記載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項４】 前記第１選択手段はファブリー・ペロー
のエタロン（２２）であり、前記第２選択手段は回折格
子（１４）であることを特徴とする請求項３に記載の狭
域帯レーザー発生装置。 - 【請求項５】 前記回転手段はファラデー回転体（１
８）であることを特徴とする請求項１に記載の狭域帯レ
ーザー発生装置。 - 【請求項６】 前記共鳴器は、前記放射線の幅を拡大す
る拡大手段（１６）を備えていることを特徴とする請求
項１に記載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項７】 前記共鳴器は、第１および第２拡大手段
（１６ａ、１６ｂ）を備え、前記レーザー媒体（１０）
は前記第１および第２拡大手段（１６ａ、１６ｂ）の間
に配置されることを特徴とする請求項１に記載の狭域帯
レーザー発生装置。 - 【請求項８】 前記ファラデー回転体（１８）は溶融シ
リカであることを特徴とする請求項５に記載の狭域帯レ
ーザー発生装置。 - 【請求項９】 前記拡大手段（１６）はプリズムである
ことを特徴とする請求項６に記載の狭域帯レーザー発生
装置。 - 【請求項１０】 前記拡大手段はプリズムであることを
特徴とする請求項７に記載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項１１】 前記ファラデー回転体（１８）は、前
記ファラデー回転体（１８）を一度通過した放射線の前
記偏光面が、前記偏光ビームスプリッタ（２０）の前記
入射面が前記回折格子（１４）における放射線の入射面
に対して回転する角度と等しい角度αだけ回転するよう
な、光学的な有効長さを備えかつ磁場を付与されること
を特徴とする請求項２，３，および５の何れか１項に記
載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項１２】 前記放射線の前記偏光面は、前記の放
射線の一部が最適な百分率で前記共鳴器から出力される
ような角度だけ、前記偏光ビームスプリッタ（２０）の
前記入射面に対して回転されることを特徴とする請求項
２に記載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項１３】 前記の放射線の一部は、前記偏光ビー
ムスプリッタ（２０）において反射されることによって
出力されることを特徴とする請求項２に記載の狭域帯レ
ーザー発生装置。 - 【請求項１４】 前記の放射線の一部は、前記偏光ビー
ムスプリッタ（２０）を透過することによって出力され
ることを特徴とする請求項２に記載の狭域帯レーザー発
生装置。 - 【請求項１５】 前記共鳴器は、２つのスプリット型ダ
イアフラム（４０、４２）と、２つの偏光ビームスプリ
ッタ（２０、２６）と、光学式拡大手段（３０、３２、
３４、３６）からなることを特徴とする請求項１に記載
の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項１６】 前記の２つのスプリット型ダイアフラ
ム（４０、４２）は、前記共鳴器の軸を前記レーザー媒
体の縦軸に対して傾斜させることを特徴とする請求項１
５に記載の狭域帯レーザー発生装置。 - 【請求項１７】 前記レーザーはエキシマレーザーであ
ることを特徴とする請求項１に記載の狭域帯レーザー発
生装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19944438283 DE4438283C2 (de) | 1994-10-26 | 1994-10-26 | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08228038A true JPH08228038A (ja) | 1996-09-03 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7286443A Pending JPH08228038A (ja) | 1994-10-26 | 1995-10-06 | 狭域帯レーザー発生装置 |
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| JP (1) | JPH08228038A (ja) |
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1995
- 1995-10-06 JP JP7286443A patent/JPH08228038A/ja active Pending
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