JPH05102028A - フオトレジスト膜現像カツプ - Google Patents

フオトレジスト膜現像カツプ

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Publication number
JPH05102028A
JPH05102028A JP26157591A JP26157591A JPH05102028A JP H05102028 A JPH05102028 A JP H05102028A JP 26157591 A JP26157591 A JP 26157591A JP 26157591 A JP26157591 A JP 26157591A JP H05102028 A JPH05102028 A JP H05102028A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cup
wafer
exhaust
photoresist film
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26157591A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiro Itani
俊郎 井谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH05102028A publication Critical patent/JPH05102028A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】フォトレジスト膜を現像するカップにおいて、
カップ内の排気効率を良くし、特にウェハー表面近傍の
排気を強くして、余剰な現像液がミスト状になりカップ
内に充満してウェハー上に付着するということを防止す
る。 【構成】本発明のフォトレジスト現像カップは、そのカ
ップ３内の排気を行う排気孔２ａをカップ３の上方に有
しているため、ウェハー表面近傍の排気を強くすること
ができる構造となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路製造装置
におけるフォトレジスト膜現像カップに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のフォトレジスト膜現像カ
ップは、図３の断面図に示すように、半導体基板１に塗
布されたフォトレジスト膜を露光後現像する際に用いる
装置であって、スピンモーター６によって回転するチャ
ック５上にセットされた半導体基板１にカップ３内で現
像液を吐出する装置である。そして、そのカップ３内の
排気を行う排気孔２をカップ３の底面のみに有している
構造となっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフォト
レジスト膜現像カップは、そのカップ内の排気を行う排
気孔がカップ底面に設けられていたため、フォトレジス
トを塗布し、露光された半導体基板（以下、ウェハーと
呼ぶ）に対して現像液を吐出する際にカップ内の排気効
率が悪く、特にウェハー表面近傍の排気が弱くなり、余
剰な現像液がミスト状になりカップ内に充満し、ウェハ
ー上に付着するという欠点がある。ウェハー上に付着し
たミストはパターン形成時に欠陥となり、特に微細パタ
ーン形成に対しては、これらのようなパターンの欠陥は
致命的である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明のフォトレジスト
現像カップは、そのカップ内の排気を行う排気孔をカッ
プ上方に有しているため、フォトレジスト膜に現像液を
吐出し現像する際にカップ内の排気効率が良く、特にウ
ェハー表面近傍の排気を強くすることができる構造とな
っている。
【０００５】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の実施例１のフォトレジスト膜現像カ
ップの断面図である。ウェハー１がチャック５を介して
スピンモーター６に接続されており、カップ３内に配置
されている。カップ３内の排気はカップ３の上方に設け
られた排気孔２ａにより行われる。
【０００６】上記構造のカップによりフォトレジスト膜
に現像液を吐出し現像した場合、そのカップ内の排気を
行う排気孔がカップ上方、すなわちウェハーの側近に配
置されているため、カップ内の排気効率が良く、特にウ
ェハー表面近傍の排気を強くすることができ、余剰な現
像液がミスト状になりカップ内に充満しウェハー上に付
着するということはなくなる。
【０００７】図２は本発明の実施例２のフォトレジスト
膜現象カップの断面図である。ウェハー１がチャック５
を介してスピンモーター６に接続されており、カップ３
内に配置されている。カップ３内の排気はカップ３の底
面および上方に設けられた排気孔２および２ａにより行
われる。
【０００８】上記構造のカップは実施例１に比べて、さ
らにカップ内の排気効率が良く、特にウェハー表面近傍
の排気を強くすることができ、余剰な現像液がミスト状
になりカップ内に充満しウェハー上に付着するというこ
とはなくなる。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように本発明のフォトレジ
スト膜現像カップは、そのカップ内の排気を行う排気孔
をカップ上方に有しているため、フォトレジスト膜に現
像液を吐出し現像する際にカップ内の排気効率が良く、
特にウェハー表面近傍の排気を強くすることができる構
造となっている。
【００１０】このため、余剰な現像液がミスト状になり
カップ内に充満しウェハー上に付着するということはな
くなり、ミストによるパターン形成時の欠陥もなくな
り、微細パターンを再現性よく形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１の断面図である。
【図２】本発明の実施例２の断面図である。
【図３】従来のフォトレジスト膜現像カップの断面図で
ある。
【符号の説明】
１ ウェハー ２，２ａ 排気孔 ３ カップ ４ 排液孔 ５ チャック ６ スピンモーター

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 半導体基板にフォトレジストを塗布し、
    所定の設計パターンを描いたマスクまたはレチクルを通
    して露光し、現像する際に用いるフォトレジスト膜現像
    カップにおいて、そのカップ内の排気を行う排気孔をカ
    ップ上方に有することを特徴とするフォトレジスト膜現
    像カップ。
JP26157591A 1991-10-09 1991-10-09 フオトレジスト膜現像カツプ Pending JPH05102028A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT413162B (de) * 2001-09-26 2005-11-15 Sez Ag Ringförmige aufnahmevorrichtung für einen rotierenden träger zur aufnahme eines scheibenförmigen gegenstandes wie eines halbleiterwafers

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT413162B (de) * 2001-09-26 2005-11-15 Sez Ag Ringförmige aufnahmevorrichtung für einen rotierenden träger zur aufnahme eines scheibenförmigen gegenstandes wie eines halbleiterwafers
US7052577B2 (en) * 2001-09-26 2006-05-30 Sez Ag Annular receptacle for a rotating carrier

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