JPH04277613A - フォトレジスト現像装置 - Google Patents
フォトレジスト現像装置Info
- Publication number
- JPH04277613A JPH04277613A JP3966791A JP3966791A JPH04277613A JP H04277613 A JPH04277613 A JP H04277613A JP 3966791 A JP3966791 A JP 3966791A JP 3966791 A JP3966791 A JP 3966791A JP H04277613 A JPH04277613 A JP H04277613A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- photoresist
- cup
- chuck
- semiconductor substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
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- 101100327917 Caenorhabditis elegans chup-1 gene Proteins 0.000 abstract description 5
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- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract 1
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置の
製造における露光された半導体基板（以下ウェハーと呼
ぶ）上のフォトレジストを現像するフォトレジスト現像
装置に関する。
製造における露光された半導体基板（以下ウェハーと呼
ぶ）上のフォトレジストを現像するフォトレジスト現像
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のフォトレジスト現像装置の
一例における概略を示す図である。
一例における概略を示す図である。
【０００３】従来、この種のフォトレジスト現像装置は
、図２に示すように、ウェーハ７を保持するチャック４
と、チャック４を回転するスピンモータ５と、ウェーハ
７に現像液を滴下するノズル８と、ウェーハ７の周囲を
囲む側壁が底部より伸びるカップ１ａとで構成されてい
る。またカップ１ａには、その底部には排液を排出する
排液孔６と現像時に発生するガスを排気する排気孔３が
設けられている。
、図２に示すように、ウェーハ７を保持するチャック４
と、チャック４を回転するスピンモータ５と、ウェーハ
７に現像液を滴下するノズル８と、ウェーハ７の周囲を
囲む側壁が底部より伸びるカップ１ａとで構成されてい
る。またカップ１ａには、その底部には排液を排出する
排液孔６と現像時に発生するガスを排気する排気孔３が
設けられている。
【０００４】次に、このフォトレジスト現像装置の動作
を説明する。まず、ウェーハ７をチャック４に載置する
。次に、スピンモータ５によりチャック４を回転させる
。次に、回転しているウェーハ７にノズル８より現像液
を滴下する。滴下された現像液は遠心力に、ウェーハ７
面内に均一に行き渡る。このことによりウェーハ面のフ
ォトレジストは現像され、パターンとして形成される。 一方、現像時に発生する排液は排液光６より、発生ガス
は排気孔６により装置外に排出されていた。
を説明する。まず、ウェーハ７をチャック４に載置する
。次に、スピンモータ５によりチャック４を回転させる
。次に、回転しているウェーハ７にノズル８より現像液
を滴下する。滴下された現像液は遠心力に、ウェーハ７
面内に均一に行き渡る。このことによりウェーハ面のフ
ォトレジストは現像され、パターンとして形成される。 一方、現像時に発生する排液は排液光６より、発生ガス
は排気孔６により装置外に排出されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフォト
レジスト現像装置は、そのカップ内の排気を行う排気孔
をカップ底面に有していたため、フォトレジストを塗布
し、露光されたウェーハに対して現像液を吐出する際に
、カップ内の排気効率が悪く、特にウェーハ表面近傍の
排気が弱くなり、余剰な現像液がミスト状になりカップ
内に充満し、ウェーハ上に付着するという欠点がある。 ウェーハ上に付着したミストはパターン形成時に欠陥と
なり、特に微細パターン形成に対しては致命的である。
レジスト現像装置は、そのカップ内の排気を行う排気孔
をカップ底面に有していたため、フォトレジストを塗布
し、露光されたウェーハに対して現像液を吐出する際に
、カップ内の排気効率が悪く、特にウェーハ表面近傍の
排気が弱くなり、余剰な現像液がミスト状になりカップ
内に充満し、ウェーハ上に付着するという欠点がある。 ウェーハ上に付着したミストはパターン形成時に欠陥と
なり、特に微細パターン形成に対しては致命的である。
【０００６】本発の目的は、かかる問題を解消するフォ
トレジスト現像装置を提供することである。
トレジスト現像装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のフォトレジスト
現像装置は、半導体基板にフォトレジストを塗布し、所
定の設計パターンを描いたマスクまたはレチクルを通し
て露光し、前記フォトレジストを現像するフォトレジス
ト現像装置おいて、前記半導体基板を保持し、回転する
チャックと、このチャックに載置される前記半導体基板
の周囲を囲う側壁を有するとともにその側壁に前記半導
体基板面に対して垂直に排気孔が形成されるカップとを
備えている。
現像装置は、半導体基板にフォトレジストを塗布し、所
定の設計パターンを描いたマスクまたはレチクルを通し
て露光し、前記フォトレジストを現像するフォトレジス
ト現像装置おいて、前記半導体基板を保持し、回転する
チャックと、このチャックに載置される前記半導体基板
の周囲を囲う側壁を有するとともにその側壁に前記半導
体基板面に対して垂直に排気孔が形成されるカップとを
備えている。
【０００８】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００９】図１は本発明の一実施例におけるフォトレ
ジスト現像装置の概略を示す図である。このフォトレジ
スト現像装置は、図１に示すように、ウェーハ７の周囲
を囲むカップの側壁２ａにウェーハ７面に対して排気孔
２を設けたことである。それ以外は従来と同じである。
ジスト現像装置の概略を示す図である。このフォトレジ
スト現像装置は、図１に示すように、ウェーハ７の周囲
を囲むカップの側壁２ａにウェーハ７面に対して排気孔
２を設けたことである。それ以外は従来と同じである。
【００１０】このフォトレジスト現像装置を用いて、フ
ォトレジストに現像液を吐出し現像した場合、そのカッ
プ１内の排気を行う排気孔２がカップ１側面、すなわち
ウェーハ７の側近に配置されているため、回転によって
飛散する排液及びガスを直接吸引し、カップ１内の排気
孔率が良く、特にウェーハ７表面近傍の排気を強くする
ことができ、余剰な現像液がミスト状になりカップ内に
充満しウェーハ上に付着するということはなくなる。
ォトレジストに現像液を吐出し現像した場合、そのカッ
プ１内の排気を行う排気孔２がカップ１側面、すなわち
ウェーハ７の側近に配置されているため、回転によって
飛散する排液及びガスを直接吸引し、カップ１内の排気
孔率が良く、特にウェーハ７表面近傍の排気を強くする
ことができ、余剰な現像液がミスト状になりカップ内に
充満しウェーハ上に付着するということはなくなる。
【００１１】また、図面には示さないが、排気孔２とは
別に排気孔をカップ１の底部に設ければ、さらに排気孔
率が良くなる。
別に排気孔をカップ１の底部に設ければ、さらに排気孔
率が良くなる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、そのカッ
プ内の排気を行う排気孔をウェーハ面に対して垂直方向
に伸びるカップ側面に設けることによって現像液を吐出
し現像する際に発生する排気余剰な現像液がミスト状に
なりカップ内に充満するガスを排気抵抗を受けずに効率
良く排気出来るので、ミストによるパターン形成時の欠
陥もなくなり、微細パターンを再現性よく形成すること
ができる、フォトレジスト現像装置が得られるという効
果がある。
プ内の排気を行う排気孔をウェーハ面に対して垂直方向
に伸びるカップ側面に設けることによって現像液を吐出
し現像する際に発生する排気余剰な現像液がミスト状に
なりカップ内に充満するガスを排気抵抗を受けずに効率
良く排気出来るので、ミストによるパターン形成時の欠
陥もなくなり、微細パターンを再現性よく形成すること
ができる、フォトレジスト現像装置が得られるという効
果がある。
【図１】本発明のフォトレジスト現像装置の一実施例に
おける概略を示ず図である。
おける概略を示ず図である。
【図２】従来のフォトレジスト現像装置の一例における
概略を示す図である。
概略を示す図である。
１，１ａ カップ
２，３ 排気孔
２ａ 側壁
４ チャック
５ スピンモータ
６ 排気孔
７ ウェーハ
８ ノズル
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体基板にフォトレジストを塗布し
、所定の設計パターンを描いたマスクまたはレチクルを
通して露光し、前記フォトレジストを現像するフォトレ
ジスト現像装置おいて、前記半導体基板を保持し、回転
するチャックと、このチャックに載置される前記半導体
基板の周囲を囲う側壁を有するとともにその側壁に前記
半導体基板面に対して垂直に排気孔が形成されるカップ
とを備えることを特徴とするフォトレジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3966791A JPH04277613A (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | フォトレジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3966791A JPH04277613A (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | フォトレジスト現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04277613A true JPH04277613A (ja) | 1992-10-02 |
Family
ID=12559439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3966791A Pending JPH04277613A (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | フォトレジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04277613A (ja) |
-
1991
- 1991-03-06 JP JP3966791A patent/JPH04277613A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000411 |