JPH0497202A - カラーフィルタの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明（よ　液晶デイスプレィ等に使用されるカラーフ
ィルタの形成方法に関す４ 従来の技術 従来　液晶デイスプレィ等のフラットデイスプレィ用カ
ラーフィルタとしてζ友　特開昭６２−１３６２号公報
などが公開されていも　−例としてカラーフィルタの形
成方法の工程図を第６図に示し　その形成工程を以下に
述べも （１）第６図（ａ）に示すようにガラス基板１上にスパ
ッタリング法等を用いて酸化クロム膜を製膜し　フォト
リソグラフィー法を用いてパターニングし　遮光部２を
形成すも （２）第６図（ｂ）に示すように着色レジストからなる
水練　　青の画素３をフォトリソグラフィー法を用いて
順次形成すも （３）第６図（ｃ）に示すように遮光部２および画素３
上に高分子樹脂からなる保護膜４を塗布しそして熱処理
により硬化し　形成すも （４）第６図（ｄ）に示すようにスパッタリング法等を
用いて透明導電膜５を形成すも 発明が解決しようとする課題 このような従来のカラーフィルタの形成方法では　遮光
部２と画素３の段差を平滑にするため保護膜４を形成し
ている力交　保護膜４を形成しても遮光部２と画素３の
段差のため第７図に示すように大きな段差部ができも　
このた数　保護膜４上に形成した透明導電膜５（よ　ス
テップガバレージが悪く、断線部（第７図中Ａ部）や膜
厚の薄い部分（第７図中Ｂ部）が発生すム　また保護膜
４を形成しても遮光部２と画素３の交差部に対応すると
ころでは透明導電膜５のクラック（第７図中Ｃ部）が発
生する問題があった　このため透明導電膜５の抵抗が増
大し　透明導電膜５に電圧を印加する入力端子から遠く
なるほど、電圧降下が犬きくなａ　すなわ板　入力端子
からの距離により画素３に対して印加できる電圧が大き
く異なり、輝度むら等の問題を生改　高品質で大面積の
デイスプレィを作製するのが困難であるという課題があ
った 本発明は上記課題を解決するもので、遮光部と画素の段
差に起因する透明導電膜の断ａＸ厚が薄くなること、ク
ラックの発生を防ぎ、高品質な大面積のフラットデイス
プレィを実現するためのカラーフィルタの形成方法を提
供することを目的とするものであム 課題を解決するための手段 本発明は上記目的を達成するために　遮光部および画素
を形成した基板を高分子樹脂を溶解または分散させた溶
媒中に浸漬し　その溶媒中の対向電極と導電性物質より
なる遮光部に電圧を印加し高分子樹脂を導電性物質より
なる遮光部上に析出し　形成して平坦化を計った跣　透
明導電膜を形成するという手法によム 作用 本発明は上記した構成により、高分子樹脂を画素間の導
電性物質よりなる遮光部上に析出させることにより、導
電性物質よりなる遮光部と画素の段差を理数　平滑にす
ることができも　したがって、後で製膜する透明導電膜
５へ　各画素端部での断線　膜厚が薄くなること、クラ
ックの発生等が防げる。

実施例 以下、本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明すも
　第１図において従来例の第６図と同一部分には同一番
号を付し　説明を省略すＬ　すなわち本発明の特徴は第
１図（ｂ）に示すように従来例と同様に着色レジストか
らなるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素（３）をフ
ォトリソグラフィー法を用いて順次形成した抵　第２図
に示すように遮光部２および画素３を形成した基板１を
高分子樹脂（例えばポリエステル・メラミン樹脂等）１
１を溶解または分散させた溶媒（例えば人有機溶瓜　水
と有機溶媒の混合物等）１２中に浸漬すも　そして導電
性物質よりなる遮光部２と対向電極１３に電圧印加装置
１４により電圧を印加すム　すると溶媒１２に接してい
る導電性物質よりなる遮光部２の部分には高分子樹脂１
１が析出すム　印加電圧および印加時間により、画素３
と段差を生じないように高分子樹脂１１の膜厚を制御す
ム　そして熱処理を行（＼　第１図（ｃ）に示すように
導電性物質からなる遮光部２上に析出した高分子樹脂１
１を硬化し　形成すも　つぎに第１図（ｄ）に示すよう
に平滑化された画素３と高分子樹脂２の上に透明導電膜
５を形成すも上記の形成方法により、高分子樹脂１１を
溶解または分散させた溶媒１２中に接している導電性物
質よりなる遮光部２の段差部にのみ高分子樹脂１１を形
成できるので、画素３との段差をなくし後に形成する透
明導電膜５の断線　膜厚が薄くなること、クラックの発
生等を防ぐことができもまた　本実施例で（よ　単一膜
の導電性物質よりなる遮光部２を使用している力＜、、
第３図に示すように導電性の無い物質よりなる遮光部１
５と導電性物質よりなる遮光部２を用いた２層膜よりな
る遮光部２、１５でもよく、また複数の多層膜よりなる
遮光部でもよく本実施例に限定されるものではな（℃ また　高分子樹脂１１が導電性を持つことにより、透明
導電膜５と導電性物質よりなる遮光部２が電気的に接続
されるたべ　透明導電膜５のみによる場合より配線抵抗
が減少し　電圧降下が小さくなａ　よって輝度むらを低
減することができもまた高分子樹脂１１が着色されてい
ることにより、第４図に示すように導電性物質よりなる
遮光部２にピンホール１６があってＬ　ピンホール１６
周囲に着色された高分子樹脂１１が析出するためピンホ
ール１６が埋められ　着色された高分子樹脂１１により
透過率が低下するので、ピンホール１６による欠陥を無
くすことができもまた本実施例で（よ　フォトリソグラ
フィ法による形成した着色レジストを画素３として用い
ている力（印刷法等により形成した画素でもよく本実施
例に限定されるものではな５℃ また透明導電膜５をパターニングするために第５図に示
すように高分子樹脂１１を析出させた上へ　従来例のよ
うに保護膜４を形成し　その徴透明導電膜５を形成して
もよく、本実施例に限定されるものではな（を 発明の効果 以上の実施例から明らかなように本発明によれば　ガラ
ス基板上に遮光部画素をパターン形成した比　高分子樹
脂を遮光部上に形成して平坦化を計るので透明導電膜へ
　画素端部での断線　膜厚が薄くなること、クラックの
発巨　抵抗の増加等を防ぐことで、輝度むら等の無（＼
　良好な表示性能を有する高品質な大面積のデイスプレ
ィ用カラーフィルタを提供できも

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明の一実施例のカラーフィ
ルタの形成方法を示す工程断面は　第２図は第１図（ｂ
）から第１図（Ｃ）に移る工程の詳細医　第３図は第１
図における遮光膜の他の実施例を示す断面図　第４図は
第２図の高分子樹脂が着色高分子樹脂で遮光膜のピンホ
ールを埋める様子を示した医　第５図は本発明の他の実
施例におけるカラーフィルタの断面図　第６図（ａ）〜
（ｄ）は従来のカラーフィルタの形成方法を示す工程医
　第７図は第６図の従来のカラーフィルタにおける透明
導電膜の断線　クラックの状態を表わす断面図であム １０１．ガラス等の基板　２６１．遮光Ｋ　　３゜１０
画ｔ　　５．　　、、ａ明導ｔＪＩＬ　　１１．　　、
、高分子樹脂１２．　　、’、高分子樹脂を溶解または
分散さした溶瓜　１３０．対向電機　１４．、、電圧印
加装置 代理人の氏名　弁理士　粟野重孝　ほか１名第 図 ？ 第 図 第 図 第 図 第 図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス等の基板上に導電性物質よりなる遮光部を
   パターン形成する工程と、その遮光部の一部を含む遮光
   部間に着色レジストからなる画素をパターン形成する工
   程と、前記遮光部および画素を形成した基板を、高分子
   樹脂を溶解または分散させた溶媒中に浸漬し、その溶媒
   中の対向電極と前記導電性物質よりなる遮光部間に電圧
   を印加し、前記高分子樹脂を前記導電性物質よりなる遮
   光部上に析出し、形成して平坦化を計る工程と、その平
   坦化を計った高分子樹脂と前記画素上に、透明導電膜を
   形成する工程とを有することを特徴とするカラーフィル
   タの形成方法。
2. （２）高分子樹脂が導電性高分子樹脂であることを特徴
   とする請求項（１）記載のカラーフィルタの形成方法。
3. （３）高分子樹脂が着色高分子樹脂であることを特徴と
   する請求項（１）記載のカラーフィルタの形成方法。