JPH0491497A - セラミック―樹脂複合体よりなる配線板の製造方法 - Google Patents
セラミック―樹脂複合体よりなる配線板の製造方法Info
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- JPH0491497A JPH0491497A JP20630490A JP20630490A JPH0491497A JP H0491497 A JPH0491497 A JP H0491497A JP 20630490 A JP20630490 A JP 20630490A JP 20630490 A JP20630490 A JP 20630490A JP H0491497 A JPH0491497 A JP H0491497A
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は熱伝導性に優れ、熱膨張率が小さく、機械加工
が容易で曲げ強度が大きなセラミック−樹脂複合体より
なる配線板の製造法に関するものである。
が容易で曲げ強度が大きなセラミック−樹脂複合体より
なる配線板の製造法に関するものである。
(従来の技術)
従来、電気回路用配線板、例えばガラスエポキシ基板’
(JIS C6840およびJIS C6484に規定
)はガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸して予備乾燥し
て得たプリプレグを銅箔とともに一体成形した銅張り積
層板で最も多く製造され使用されている基板である。高
性能で小型の電子機器が普及し、電子部品の高集積化、
高密度実装化がますます進展する中で、基板の熱伝導性
に優れ、基板の平面方向および断面方向の熱膨張率の少
ない寸法安定性に優れた基板が要求されている。
(JIS C6840およびJIS C6484に規定
)はガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸して予備乾燥し
て得たプリプレグを銅箔とともに一体成形した銅張り積
層板で最も多く製造され使用されている基板である。高
性能で小型の電子機器が普及し、電子部品の高集積化、
高密度実装化がますます進展する中で、基板の熱伝導性
に優れ、基板の平面方向および断面方向の熱膨張率の少
ない寸法安定性に優れた基板が要求されている。
(発明が解決しようとする課題)
JIS C6840およびC6484に規定されている
印刷回路用銅張積層板では、基板の熱伝導率が小さく放
熱性が悪い、そのため基板の温度上昇も大きくなる。ま
た基板の熱による線膨張率もXY(平面)方向テ15X
10−6/ ’C1Z(断面)方向テ50〜6o×1
0−’/’Cと搭載部品の熱膨張の差による温度上昇時
の応力や基板の断面歪みによる信頼性の低下が問題とな
る。したがって、上記の基板を高密度実装する基板に使
用する場合、使用範囲がかなり限定されるという問題点
があり、このような実情から、熱伝導性に優れた、熱膨
張の少ない高密度実装用の配線板の開発が大きな課題で
あった。
印刷回路用銅張積層板では、基板の熱伝導率が小さく放
熱性が悪い、そのため基板の温度上昇も大きくなる。ま
た基板の熱による線膨張率もXY(平面)方向テ15X
10−6/ ’C1Z(断面)方向テ50〜6o×1
0−’/’Cと搭載部品の熱膨張の差による温度上昇時
の応力や基板の断面歪みによる信頼性の低下が問題とな
る。したがって、上記の基板を高密度実装する基板に使
用する場合、使用範囲がかなり限定されるという問題点
があり、このような実情から、熱伝導性に優れた、熱膨
張の少ない高密度実装用の配線板の開発が大きな課題で
あった。
本発明の目的は上記の課題を解決する配線板の製造法を
を提供することにある。
を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
すなわち、本発明はセラミック粉末と熱硬化性樹脂を混
合し、次いで該混合物を金型中で加圧、加熱成形して該
熱硬化性樹脂を半硬化せしめることにより板状のプリプ
レグを作製し、該プリプレグ板の片面または両面に金属
箔を貼合し、該貼合板を加熱および加圧して樹脂を硬化
せしめることを特徴とするセラミック−樹脂複合体より
なる配線板の製造方法を提供することにある。
合し、次いで該混合物を金型中で加圧、加熱成形して該
熱硬化性樹脂を半硬化せしめることにより板状のプリプ
レグを作製し、該プリプレグ板の片面または両面に金属
箔を貼合し、該貼合板を加熱および加圧して樹脂を硬化
せしめることを特徴とするセラミック−樹脂複合体より
なる配線板の製造方法を提供することにある。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用のセラミック粉末としては熱伝導性に優れ
、熱膨張の少ないものがよく、例えばアルミナ、窒化ア
ルミニウム、窒化ケイ素等の粉末が挙げられる。これら
の粉末の粒径は、特に限定されないが、通常平均粒径で
1〜100μm1好ましくは10〜60μmの範囲が好
ましく使用される。
、熱膨張の少ないものがよく、例えばアルミナ、窒化ア
ルミニウム、窒化ケイ素等の粉末が挙げられる。これら
の粉末の粒径は、特に限定されないが、通常平均粒径で
1〜100μm1好ましくは10〜60μmの範囲が好
ましく使用される。
また、セラミック粉末はこのままでも使用可能であるが
、予め公知のシランカップリング剤、チタネートカップ
リング剤等のカップリング剤で表面処理が施されたもの
が得られる配線板の曲げ強度が向上するので好ましく使
用される。
、予め公知のシランカップリング剤、チタネートカップ
リング剤等のカップリング剤で表面処理が施されたもの
が得られる配線板の曲げ強度が向上するので好ましく使
用される。
また、セラミック粉末の他にガラス繊維、アルミナ、窒
化硼素繊維等の無機繊維、芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リエステル繊維等の有機繊維を加えてもよい。これらの
繊維の形状は通常径が約2〜20μm1平均長さ約20
〜2000μmでアスペクト比が10以上のものが使用
される。
化硼素繊維等の無機繊維、芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リエステル繊維等の有機繊維を加えてもよい。これらの
繊維の形状は通常径が約2〜20μm1平均長さ約20
〜2000μmでアスペクト比が10以上のものが使用
される。
繊維の配合量は余り多過ぎると得られる配線板の熱伝導
度が低下するのでセラミック粉末に対して30体積%以
下が好ましい。なお、これら繊維も樹脂との接着をよく
するため前記のカップリング剤等で表面処理されたもの
が好ましい。
度が低下するのでセラミック粉末に対して30体積%以
下が好ましい。なお、これら繊維も樹脂との接着をよく
するため前記のカップリング剤等で表面処理されたもの
が好ましい。
また、バインダー樹脂として使用される熱硬化性樹脂と
してはセラミック粉末と接着性がよく、耐熱性、耐湿性
が良好な樹脂がよく、公知のフェノールノボラック樹脂
、エポキシ樹脂等が一般に使用されるが、銅箔等の金属
箔との接着性が良好なエポキシ樹脂が一般的である。エ
ポキシ樹脂としてはビスフェノール系、フェノールノボ
ラック系、アミノグリシジル系、アミノグリシジルエー
テル系のエポキシ樹脂等が例示されるが、好ましくは6
0℃、より好ましくは常温付近において液状のものが混
線操作が容易であるので好ましい。
してはセラミック粉末と接着性がよく、耐熱性、耐湿性
が良好な樹脂がよく、公知のフェノールノボラック樹脂
、エポキシ樹脂等が一般に使用されるが、銅箔等の金属
箔との接着性が良好なエポキシ樹脂が一般的である。エ
ポキシ樹脂としてはビスフェノール系、フェノールノボ
ラック系、アミノグリシジル系、アミノグリシジルエー
テル系のエポキシ樹脂等が例示されるが、好ましくは6
0℃、より好ましくは常温付近において液状のものが混
線操作が容易であるので好ましい。
また、エポキシ樹脂の硬化剤としては公知のアミン系、
酸無水物系の硬化剤が使用される。
酸無水物系の硬化剤が使用される。
また、三酸化アンチモン、リン化合物、ブロム化エポキ
シ化合物等の難燃化剤を加えてもよい。
シ化合物等の難燃化剤を加えてもよい。
セラミック粉末と熱硬化性樹脂の混合割合は得られる基
板中にセラミック粉末が好ましくは20〜70体積%、
より好ましくは30〜60体積%含まれる範囲である。
板中にセラミック粉末が好ましくは20〜70体積%、
より好ましくは30〜60体積%含まれる範囲である。
セラミック粉末が20体積%未満の場合、得られる配線
板の熱伝導度の向上効果が少なく、70体積%を越える
と配線板の強度が低下するので好ましくない。
板の熱伝導度の向上効果が少なく、70体積%を越える
と配線板の強度が低下するので好ましくない。
セラミック粉末と熱硬化性樹脂を混練した後、混線物を
板状の金型に入れて加熱・加圧して予備成形するが、そ
の前に混線物を脱気して気泡を除いておくのが好ましい
。
板状の金型に入れて加熱・加圧して予備成形するが、そ
の前に混線物を脱気して気泡を除いておくのが好ましい
。
プレス状態の板の厚みは通常0.1〜2mmの範囲であ
る。プレス圧は50〜150 kg/am2が好ましい
。
る。プレス圧は50〜150 kg/am2が好ましい
。
セラミック粒子のまわりが樹脂で濡れ覆われている状態
を、高圧でプレスすることにより、セラミック粒子間が
狭くなり余分な樹脂は取り除かれ、セラミック粒子と粒
子の接触が増大し、熱伝導などの特性のよいものができ
る。プレス状態で加熱し、熱硬化性樹脂を予備硬化せし
めてプリプレグをつ(る。加熱温度および時間は樹脂の
種類により適宜法めることができる。
を、高圧でプレスすることにより、セラミック粒子間が
狭くなり余分な樹脂は取り除かれ、セラミック粒子と粒
子の接触が増大し、熱伝導などの特性のよいものができ
る。プレス状態で加熱し、熱硬化性樹脂を予備硬化せし
めてプリプレグをつ(る。加熱温度および時間は樹脂の
種類により適宜法めることができる。
このプリプレグの片面あるいは両面に金属箔を張り、再
度プレスしながら樹脂が硬化するまで適宜の温度・時間
を加えて配線板を作る。
度プレスしながら樹脂が硬化するまで適宜の温度・時間
を加えて配線板を作る。
金属箔としては導電性のよい金属が用いられ、一般に銅
箔が用いられる。銅箔の酸化や気泡を防ぐため真空また
は窒素などの雰囲気内で加熱するのが好ましい。
箔が用いられる。銅箔の酸化や気泡を防ぐため真空また
は窒素などの雰囲気内で加熱するのが好ましい。
以上のようにしてセラミック樹脂複合体よりなる配線板
を作成できる。
を作成できる。
また発明のセラミック樹脂複合体よりなる配線板を用い
て多層回路配線板を作成する場合は、前述の片面および
両面に金属箔を張り合わせた配線板の金属箔をエツチン
グして所望の電気回路を形成した回路付き配線板を複数
枚作成しておき、各配線板の間に、厚みが0.1〜0.
5 mm程度の上記のプリプレグの板をはさみ、積み重
ねて加熱プレスし、必要に応じてさらに加熱硬化するこ
とによって多層配線板を作ることもできる。
て多層回路配線板を作成する場合は、前述の片面および
両面に金属箔を張り合わせた配線板の金属箔をエツチン
グして所望の電気回路を形成した回路付き配線板を複数
枚作成しておき、各配線板の間に、厚みが0.1〜0.
5 mm程度の上記のプリプレグの板をはさみ、積み重
ねて加熱プレスし、必要に応じてさらに加熱硬化するこ
とによって多層配線板を作ることもできる。
(発明の効果)
以上説明した通り、本発明により熱伝導性に優れ、熱膨
張の小さい、曲げ強度の大きい高密度実装が可能な配線
板を提供することができる。
張の小さい、曲げ強度の大きい高密度実装が可能な配線
板を提供することができる。
(実施例)
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
セラミック粉末として平均粒径40μmのアルミナ(A
L−40,住人化学工業■製)161重量部、バインダ
ー樹脂としてエポキシ樹脂(スミエポキシ■ELM−1
00住人化学工業■製)44重量部、硬化剤(脂環式酸
無水物であるHN3500日立化成工業■製)70重量
部を十分混練した後、混線物の中に含まれる気体を除去
するため真空脱気を行った。
L−40,住人化学工業■製)161重量部、バインダ
ー樹脂としてエポキシ樹脂(スミエポキシ■ELM−1
00住人化学工業■製)44重量部、硬化剤(脂環式酸
無水物であるHN3500日立化成工業■製)70重量
部を十分混練した後、混線物の中に含まれる気体を除去
するため真空脱気を行った。
次いで直径が75mmの金型に混練物を18g入れ、圧
力130kg/cm2でプレスした後、予備硬化(15
0℃、8分間)させプリプレグを作った。
力130kg/cm2でプレスした後、予備硬化(15
0℃、8分間)させプリプレグを作った。
プリプレグの両面に銅箔(JTC,35μm厚、日本鉱
業■)を重ね合わせてプレス(180℃、30分間、1
30Kg/cm’ ) した。プレスして得られた板を
さらに150℃、4時間オーブンの中で樹脂を完全に硬
化させ、厚みが1.7mmの配線板を作製した。
業■)を重ね合わせてプレス(180℃、30分間、1
30Kg/cm’ ) した。プレスして得られた板を
さらに150℃、4時間オーブンの中で樹脂を完全に硬
化させ、厚みが1.7mmの配線板を作製した。
このようにして作製した配線板の熱抵抗(50×50m
mのベース基板上に1010X14の銅箔を残し、その
銅箔上にトランジスタを実装して発熱させ、そのときの
印加電力と温度上昇との比率より算出)は6.0°C/
Wとガラスエポキシ配線板の約1/3であり、熱伝導性
に優れていた。
mのベース基板上に1010X14の銅箔を残し、その
銅箔上にトランジスタを実装して発熱させ、そのときの
印加電力と温度上昇との比率より算出)は6.0°C/
Wとガラスエポキシ配線板の約1/3であり、熱伝導性
に優れていた。
JIS C−6481に規定されている測定方法により
曲げ強度を測定したところ、曲げ強度は13Kg/mm
”であった。
曲げ強度を測定したところ、曲げ強度は13Kg/mm
”であった。
実施例2
セラミック粉末として平均粒径40μmのアルミナ(A
L−40、住人化学工業■製)161重量部、バインダ
ー樹脂としてエポキシ樹脂(スミエポキシ■ELM−1
00住人化学工業■製)63重量部、硬化剤(脂環式酸
無水物であるHN3500日立化成工業■製)100重
量部、アミノシランカップリング剤で処理したガラス繊
維(平均繊維径:約10μm、アスペクト比:約10)
10重量部十分混練した後、混線物の中に含まれる気体
を除去するため真空脱気を行った。
L−40、住人化学工業■製)161重量部、バインダ
ー樹脂としてエポキシ樹脂(スミエポキシ■ELM−1
00住人化学工業■製)63重量部、硬化剤(脂環式酸
無水物であるHN3500日立化成工業■製)100重
量部、アミノシランカップリング剤で処理したガラス繊
維(平均繊維径:約10μm、アスペクト比:約10)
10重量部十分混練した後、混線物の中に含まれる気体
を除去するため真空脱気を行った。
次いで金型に混練物を入れ圧力130kg/cm2でプ
レスした後、予備硬化(150℃、8分間)させプリプ
レグを作った。
レスした後、予備硬化(150℃、8分間)させプリプ
レグを作った。
プリプレグの両面に銅箔(JTC135μm厚、日本鉱
業■)を重ね合わせてプレス(180℃、30分間、1
30Kg/cm2) した。プレスして得られた板をさ
らニ150℃、4時間オーブンの中で樹脂を完全に硬化
させ、配線板を作った。
業■)を重ね合わせてプレス(180℃、30分間、1
30Kg/cm2) した。プレスして得られた板をさ
らニ150℃、4時間オーブンの中で樹脂を完全に硬化
させ、配線板を作った。
このように作製した配線板のレーザーフラッシュ法によ
り測定した熱伝導率は2.0W/m・にと通常のガラス
エポキシ配線板より約10倍大きかった。
り測定した熱伝導率は2.0W/m・にと通常のガラス
エポキシ配線板より約10倍大きかった。
また熱抵抗は6.0°C/Wとガラスエポキシ配線板の
約173であり、熱伝導性に優れていた。
約173であり、熱伝導性に優れていた。
この配線板の線熱膨張率(理学電子■製、Thermo
flex TAS200 TMA8140Cにより測定
)はXY力方向面方向)とZ方向(厚み方向)とも、1
2X 10−’/℃であった。
flex TAS200 TMA8140Cにより測定
)はXY力方向面方向)とZ方向(厚み方向)とも、1
2X 10−’/℃であった。
ガラス繊維を入れることにより、曲げ強度は40Kg/
mm”と入れない場合より約3倍の強度になった。
mm”と入れない場合より約3倍の強度になった。
実施例3
一 l 〇 −
セラミック粉末として平均粒径40μmのアルミナ(A
L−40、住人化学工業■製)をエポキシシラン化合物
で処理したもの161重量部、バインダー樹脂としてエ
ポキシ樹脂(スミエポキシ■ELM−100住友化学工
業■製)44重量部、硬化剤(脂環式酸無水物硬化剤:
HN3500日立化成工業■製)70重量部を使用した
以外は実施例1と同様にして配線板を作製して評価した
。
L−40、住人化学工業■製)をエポキシシラン化合物
で処理したもの161重量部、バインダー樹脂としてエ
ポキシ樹脂(スミエポキシ■ELM−100住友化学工
業■製)44重量部、硬化剤(脂環式酸無水物硬化剤:
HN3500日立化成工業■製)70重量部を使用した
以外は実施例1と同様にして配線板を作製して評価した
。
得られた配線板の熱伝導率は2.20W/m−にと通常
のガラスエポキシ配線板より約10倍大きかった。
のガラスエポキシ配線板より約10倍大きかった。
また熱抵抗は6.0°C/Wとガラスエポキシ配線板の
約1/3であり、熱伝導性に優れていた。
約1/3であり、熱伝導性に優れていた。
また、この配線板の線熱膨張率はXY力方向面方向)と
Z方向(厚み方向)とも12X10−’/’Cでり、曲
げ強度は21Kg/mm2であった。
Z方向(厚み方向)とも12X10−’/’Cでり、曲
げ強度は21Kg/mm2であった。
l叡
Claims (3)
- (1)セラミック粉末と熱硬化性樹脂を混合し、次いで
該混合物を金型中で加圧、加熱成形して該熱硬化性樹脂
を予備硬化せしめることにより板状のプリプレグを作製
し、該プリプレグ板の片面または両面に金属箔を貼合し
、該貼合板を加熱および加圧して樹脂を硬化せしめるこ
とを特徴とするセラミック−樹脂複合体よりなる配線板
の製造方法。 - (2)セラミック粉末が予めカップリング剤で表面処理
されたものであることを特徴とする請求項(1)の製造
方法。 - (3)セラミック粉末と熱硬化性樹脂に加えて繊維を混
合することを特徴とする請求項(1)または(2)の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20630490A JPH0491497A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | セラミック―樹脂複合体よりなる配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20630490A JPH0491497A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | セラミック―樹脂複合体よりなる配線板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0491497A true JPH0491497A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16521087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20630490A Pending JPH0491497A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | セラミック―樹脂複合体よりなる配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0491497A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06334343A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-12-02 | Hitachi Ltd | 多層配線基板の製造方法および高密度多層配線基板 |
JP2002134926A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-05-10 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ポリマー/セラミック複合電子基板 |
-
1990
- 1990-08-02 JP JP20630490A patent/JPH0491497A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06334343A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-12-02 | Hitachi Ltd | 多層配線基板の製造方法および高密度多層配線基板 |
JP2002134926A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-05-10 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ポリマー/セラミック複合電子基板 |
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