JPH0479422U - - Google Patents
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- JPH0479422U JPH0479422U JP12344890U JP12344890U JPH0479422U JP H0479422 U JPH0479422 U JP H0479422U JP 12344890 U JP12344890 U JP 12344890U JP 12344890 U JP12344890 U JP 12344890U JP H0479422 U JPH0479422 U JP H0479422U
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- JP
- Japan
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- Pending
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- 230000008014 freezing Effects 0.000 claims 1
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Description
第1図はこの発明の一実施例による異物除去装
置を示す構成図、第2図a,b,cは除去原理の
一例を示す図、第3図はその動作を示すシーケン
ス図、第4図及び第5図は従来の異物除去装置の
構成図及び除去原理図である。 図において、3は純水蒸気噴出ノズル、4は気
化CO2噴射ノズル、5は温水噴出ノズル、6は
付着異物、7は純水皮膜、8は急冷による凍結膜
、9は温水。なお、図中、同一符号は同一、又は
相当部分を示す。
置を示す構成図、第2図a,b,cは除去原理の
一例を示す図、第3図はその動作を示すシーケン
ス図、第4図及び第5図は従来の異物除去装置の
構成図及び除去原理図である。 図において、3は純水蒸気噴出ノズル、4は気
化CO2噴射ノズル、5は温水噴出ノズル、6は
付着異物、7は純水皮膜、8は急冷による凍結膜
、9は温水。なお、図中、同一符号は同一、又は
相当部分を示す。
Claims (1)
- ウエハ表面付着異物に対して純水皮膜で包み込
みその皮膜を急冷凍結、昇温解凍の温度サイクル
を与えることで異物を除去する機能を備えた半導
体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12344890U JPH0479422U (ja) | 1990-11-21 | 1990-11-21 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12344890U JPH0479422U (ja) | 1990-11-21 | 1990-11-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0479422U true JPH0479422U (ja) | 1992-07-10 |
Family
ID=31871156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12344890U Pending JPH0479422U (ja) | 1990-11-21 | 1990-11-21 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0479422U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008071875A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置、液膜凍結方法および基板処理方法 |
-
1990
- 1990-11-21 JP JP12344890U patent/JPH0479422U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008071875A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置、液膜凍結方法および基板処理方法 |
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