JPH0475794A - レーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイバ - Google Patents
レーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイバInfo
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- JPH0475794A JPH0475794A JP2187697A JP18769790A JPH0475794A JP H0475794 A JPH0475794 A JP H0475794A JP 2187697 A JP2187697 A JP 2187697A JP 18769790 A JP18769790 A JP 18769790A JP H0475794 A JPH0475794 A JP H0475794A
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
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- Lasers (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ加工装置の出力ビームモード安定化光フ
ァイバに関（７、特にレーザ発振器から出力されるレー
ザ光を光ファイバで被加工装置まで誘導するレーザ加工
装置において光ファイバが短い場合に生じる出力ビーム
モードの不安定な変化を安定化さゼる出力ビームモード
安定化光ファイバに関するものである。
ァイバに関（７、特にレーザ発振器から出力されるレー
ザ光を光ファイバで被加工装置まで誘導するレーザ加工
装置において光ファイバが短い場合に生じる出力ビーム
モードの不安定な変化を安定化さゼる出力ビームモード
安定化光ファイバに関するものである。
レーザ加工装置は、現在、被加工物の切断、穴開け、溶
接等に利用されている。！レーザ加工装置では、レーザ
発振器で励振され、出力された所定のエネルギーを有す
るレーザ光は、被加工物が配設された箇所まで誘導され
、被加工物の所要箇所にレーザ光を照射するように構成
される。被加工物に対してレーザ光でどのような処理を
施すかきいうことについては、レーザ光のモード、ビー
ム径、エネルギー密度などによって定められる。レーザ
発振器で発生したレーザ光を出力Ｉ１、被加工物まで誘
導する手段と１７テは、従来、複数の反射鏡を用いて光
路を変更して導く方法や、光ファイバを用いて導く方法
が存在する。
接等に利用されている。！レーザ加工装置では、レーザ
発振器で励振され、出力された所定のエネルギーを有す
るレーザ光は、被加工物が配設された箇所まで誘導され
、被加工物の所要箇所にレーザ光を照射するように構成
される。被加工物に対してレーザ光でどのような処理を
施すかきいうことについては、レーザ光のモード、ビー
ム径、エネルギー密度などによって定められる。レーザ
発振器で発生したレーザ光を出力Ｉ１、被加工物まで誘
導する手段と１７テは、従来、複数の反射鏡を用いて光
路を変更して導く方法や、光ファイバを用いて導く方法
が存在する。
レーザ発振器と被加工物との間に光コアイノくを配設し
、レーザ発振器で出力されるレーザ光を光ファイバで誘
導して被加工物まで導くように構成されたレーザ加工装
置では、次のような問題が起きる。光ファイバには、そ
の光伝送特性が異なる２種類のもの、すなわち８Ｎ型（
ステップインデックス型）とＧｌ型（グレーデッドイン
デックス型）の光ファイバが存在する。ＳＩ型光ファイ
ノくはコア部の屈折率が一様となるように構成され、入
射された光は光ファイバの内部で様々な角度で反射１７
て進むという特性を有している。ＧＩ型光ファイバはコ
ア部の屈折率が光軸からの距離のほぼ２乗に比例して減
少するように構成される。上記の各構成によれば、Ｓｌ
型の光コアイノ（で伝送されたレーザ光の光フアイバ出
射部でのエネルギー密度分布は、−様な屈折率が原因と
なって均な、すなわち平坦な分布特性を有する。これに
対してＧｌ型の光ファイバで伝送されるレーザ光に関す
る光フアイバ出射部でのエネルギー分布の特性は、光軸
近傍の中央部のエネルギー密度が高くなる分布特性を有
する。
、レーザ発振器で出力されるレーザ光を光ファイバで誘
導して被加工物まで導くように構成されたレーザ加工装
置では、次のような問題が起きる。光ファイバには、そ
の光伝送特性が異なる２種類のもの、すなわち８Ｎ型（
ステップインデックス型）とＧｌ型（グレーデッドイン
デックス型）の光ファイバが存在する。ＳＩ型光ファイ
ノくはコア部の屈折率が一様となるように構成され、入
射された光は光ファイバの内部で様々な角度で反射１７
て進むという特性を有している。ＧＩ型光ファイバはコ
ア部の屈折率が光軸からの距離のほぼ２乗に比例して減
少するように構成される。上記の各構成によれば、Ｓｌ
型の光コアイノ（で伝送されたレーザ光の光フアイバ出
射部でのエネルギー密度分布は、−様な屈折率が原因と
なって均な、すなわち平坦な分布特性を有する。これに
対してＧｌ型の光ファイバで伝送されるレーザ光に関す
る光フアイバ出射部でのエネルギー分布の特性は、光軸
近傍の中央部のエネルギー密度が高くなる分布特性を有
する。
一方、レーザ発振器から出力されたｌノーザ光のエネル
ギ・−密度分布には、単峰であるシングルモードと、複
数の峰を有するマルチモードの２種類のモードが存在す
る。前述；−た光ファイバの伝送特性に起因する伝送時
における光のエネルギー密度分布は上記２種類のいずれ
のレーザ光を入射しても同様な分布変化が生じる。
ギ・−密度分布には、単峰であるシングルモードと、複
数の峰を有するマルチモードの２種類のモードが存在す
る。前述；−た光ファイバの伝送特性に起因する伝送時
における光のエネルギー密度分布は上記２種類のいずれ
のレーザ光を入射しても同様な分布変化が生じる。
ところで、レーザ光を光ファイバで伝送するように構成
されたレーザ加工装置において、被加工物に対して均一
な、ずなわぢ平坦な分布特性を有するレーザ光を与えた
い場合が生じる。この場合に、レーザ発振器で出力され
且つ光ファイバに入射されるレーザ光のモードがシング
ルモード又はマルチモードであっても、Ｓｌ型の光ファ
イバが用いられているときには、光ファイバが十分の長
さを有するものであれば、所要の均一なエネルギー密度
分布を有するレーザ光をその出射部で得ることができる
。しかし、伝送手段として使用される光ファイバが短い
ものであり且つストレート状態で使用される場合には、
光ファイバの出射部で得られる１／−ザ光のエネルギー
密度分布特性は不均一な崩れたものとなり、均一の分布
特性を有する所要のレーザ光を得ることができない。レ
ーザ加工装置は通常狭いスペースに配設されて使用され
、その光ファイバは短くなる傾向にあるから、かかる不
具合が生じる可能性は高い。
されたレーザ加工装置において、被加工物に対して均一
な、ずなわぢ平坦な分布特性を有するレーザ光を与えた
い場合が生じる。この場合に、レーザ発振器で出力され
且つ光ファイバに入射されるレーザ光のモードがシング
ルモード又はマルチモードであっても、Ｓｌ型の光ファ
イバが用いられているときには、光ファイバが十分の長
さを有するものであれば、所要の均一なエネルギー密度
分布を有するレーザ光をその出射部で得ることができる
。しかし、伝送手段として使用される光ファイバが短い
ものであり且つストレート状態で使用される場合には、
光ファイバの出射部で得られる１／−ザ光のエネルギー
密度分布特性は不均一な崩れたものとなり、均一の分布
特性を有する所要のレーザ光を得ることができない。レ
ーザ加工装置は通常狭いスペースに配設されて使用され
、その光ファイバは短くなる傾向にあるから、かかる不
具合が生じる可能性は高い。
本発明の目的は、被加工物へのレーザ光の伝送手段とし
て短形の光ファイバが用いられるレーザ加工装置におい
て、被加工物に対してエネルギー密度分布が平坦なレー
ザ光を安定して与えることのできるレーザ加工装置の出
力ビームモード安定化光ファイバを提供することにある
。
て短形の光ファイバが用いられるレーザ加工装置におい
て、被加工物に対してエネルギー密度分布が平坦なレー
ザ光を安定して与えることのできるレーザ加工装置の出
力ビームモード安定化光ファイバを提供することにある
。
本発明に係る第１の１ノ−ザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバは、レーザ発振器から出力されたし
・−ザ光を光ファイバで被加工物まで伝送する■レーザ
加工装置において、前記レーザ光の途中に光散乱用伝送
部を設ｉｆるように構成される。
ド安定化光ファイバは、レーザ発振器から出力されたし
・−ザ光を光ファイバで被加工物まで伝送する■レーザ
加工装置において、前記レーザ光の途中に光散乱用伝送
部を設ｉｆるように構成される。
本発明に係る第２の１７−ザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバは、前記第１の構成において、前記
光散乱用伝送部が、光ファイバをリング状に巻いて設け
られることを特徴点と１７で有する。
ド安定化光ファイバは、前記第１の構成において、前記
光散乱用伝送部が、光ファイバをリング状に巻いて設け
られることを特徴点と１７で有する。
本発明に係る第３のレーザ加工装置の出力ビームモード
安定化光ファイバは、前記第２の構成において、前記リ
ング部は、リングの径が小さいときには−巻きとし、リ
ングの径が大きいときには複数巻きとしたことを特徴点
として有する。
安定化光ファイバは、前記第２の構成において、前記リ
ング部は、リングの径が小さいときには−巻きとし、リ
ングの径が大きいときには複数巻きとしたことを特徴点
として有する。
本発明に係る第４のレーザ加工装置の出力ビームモード
安定化光ファイバは前記第１の構成において、前記光散
乱用伝送部が、光ファイバに複数の折曲げ部を形成して
設けられることを特徴点として有する。
安定化光ファイバは前記第１の構成において、前記光散
乱用伝送部が、光ファイバに複数の折曲げ部を形成して
設けられることを特徴点として有する。
本発明に係る第５のレーザ加工装置の出力ビームモード
安定化光ファイバは、前記第１．の構成において、前記
光散乱用伝送部が、光ファイバに螺旋部を形成して設け
られることを特徴点として有する。
安定化光ファイバは、前記第１．の構成において、前記
光散乱用伝送部が、光ファイバに螺旋部を形成して設け
られることを特徴点として有する。
前記第４又は第５のレーザ加工装置の出力ビームモード
安定化光ファイバでは、被覆部材で被覆することにより
、それぞれの形状を保持するようにすることが可能であ
る。
安定化光ファイバでは、被覆部材で被覆することにより
、それぞれの形状を保持するようにすることが可能であ
る。
本発明によるレーザ加工装置の出力ビームモード安定化
光ファイバでは、レーザ発振器で出力されるレーザ光を
短い光ファイバで被加工物まで誘導するように構成され
たレーザ加工装置に適用されるものであり、前記光ファ
イバの途中に所要の光散乱を発生させる光散乱用伝送部
を設けるように構成し、伝送されるレーザ光を十分に散
乱させ、エネルギー密度分布が平坦なレーザ光を得るも
のである。前記光散乱用伝送部は、所定の径を有するリ
ング部、所定の形状を有する折曲げ部あるいは螺旋形部
によっ−Ｃｆ調易１構成することができる。
光ファイバでは、レーザ発振器で出力されるレーザ光を
短い光ファイバで被加工物まで誘導するように構成され
たレーザ加工装置に適用されるものであり、前記光ファ
イバの途中に所要の光散乱を発生させる光散乱用伝送部
を設けるように構成し、伝送されるレーザ光を十分に散
乱させ、エネルギー密度分布が平坦なレーザ光を得るも
のである。前記光散乱用伝送部は、所定の径を有するリ
ング部、所定の形状を有する折曲げ部あるいは螺旋形部
によっ−Ｃｆ調易１構成することができる。
以下に、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する
。
。
第１−図はレーザ加工装置の全体構成を概略的に示す。
本図において、１はレーザ発振器、２は光ファイバ、３
は光ファイバ２をレーザ発振器１の出力部に接続するた
めのコネクタである。光ファイバ２の他端にはレーザ光
を出射するための出射部４が設けられている。この構成
によりレーザ発振器１で出力されたレーザ光は、光ファ
イバ２で伝送され、出射部４から被加工物５に照射され
る。
は光ファイバ２をレーザ発振器１の出力部に接続するた
めのコネクタである。光ファイバ２の他端にはレーザ光
を出射するための出射部４が設けられている。この構成
によりレーザ発振器１で出力されたレーザ光は、光ファ
イバ２で伝送され、出射部４から被加工物５に照射され
る。
当該構成を有するレーザ加工装置において、レーザ光伝
送手段と１７での光ファイバ２は短形の形状を有１７、
その途中に光散乱用伝送部６を備えている。本実施例で
使用されている光ファイバ２は、８１型の光ファイバで
ある。またｊレーザ発振器１で出力されるレーザ光のモ
ードはシングルモード又はマルチモ・−ドである。
送手段と１７での光ファイバ２は短形の形状を有１７、
その途中に光散乱用伝送部６を備えている。本実施例で
使用されている光ファイバ２は、８１型の光ファイバで
ある。またｊレーザ発振器１で出力されるレーザ光のモ
ードはシングルモード又はマルチモ・−ドである。
上記のレーザ加工装置では、被加工物５に対してエネル
ギー密度分布が平坦な１ノ−ザ光を与える機能を有１．
ており、かかるエネルギー密度分布特性を有するレーザ
光は、光ファイバ２の光散乱用伝送部６によって作られ
る。
ギー密度分布が平坦な１ノ−ザ光を与える機能を有１．
ており、かかるエネルギー密度分布特性を有するレーザ
光は、光ファイバ２の光散乱用伝送部６によって作られ
る。
次に前記光散乱用伝送部６の具体的構成例を第２図〜第
５図に基づき説明する。
５図に基づき説明する。
第２図に示される実施例では、光ファイバ２の途中を一
回巻いてリング部６Ａを形成することにより光散乱用伝
送部６を形成するようにしている。
回巻いてリング部６Ａを形成することにより光散乱用伝
送部６を形成するようにしている。
７はリング部６Ａの根元を結合するクランプである。本
実施例ではコア径が４００μｍの光ファイバを使用（７
ており、この条件の下で、リング部６Ａの径Ｒは５０ｒ
ｎｙｎとなるように形成している。
実施例ではコア径が４００μｍの光ファイバを使用（７
ており、この条件の下で、リング部６Ａの径Ｒは５０ｒ
ｎｙｎとなるように形成している。
すなわち、コア径が５０ｍｍであるときには、径が５０
ｍｍのリング部６Ａを形成すると、−巻きで充分な光散
乱が生じ、必要とするエネルギー密度分布を有したレー
ザ光を得ることができる。またコア径が４００ｍｍより
大きい光ファイバの場合には、径Ｒを５０ｍｍより大き
くし、反対に４００ｍｍより小さい光ファイバの場合に
は、径Ｒを小さくすることができる。
ｍｍのリング部６Ａを形成すると、−巻きで充分な光散
乱が生じ、必要とするエネルギー密度分布を有したレー
ザ光を得ることができる。またコア径が４００ｍｍより
大きい光ファイバの場合には、径Ｒを５０ｍｍより大き
くし、反対に４００ｍｍより小さい光ファイバの場合に
は、径Ｒを小さくすることができる。
次に、第６図及び第７図を参照して実験例に基づき具体
的な作用・効果を説明する。第６図は光ファイバ２に入
射されるレーザ光に関する２種類のビームモードを示し
、２０はシングルモード、２１はマルチモードである。
的な作用・効果を説明する。第６図は光ファイバ２に入
射されるレーザ光に関する２種類のビームモードを示し
、２０はシングルモード、２１はマルチモードである。
第６図において、紋軸はエネルギー密度、横軸はレーザ
ビームの径方向の位置を示し、横軸において０はレーザ
ビームの光軸位置を表１．ている。第６図に示されるよ
うなレーザ光２Ｏ，２１を光ファイバに入射（、て伝送
する場合、矩形の光ファイバがスト１ノートであるとき
には、出射されるレーザ光のモードはそれぞれ第７図（
Ａ）の２ＯＡ、２１Ａの如くなる。
ビームの径方向の位置を示し、横軸において０はレーザ
ビームの光軸位置を表１．ている。第６図に示されるよ
うなレーザ光２Ｏ，２１を光ファイバに入射（、て伝送
する場合、矩形の光ファイバがスト１ノートであるとき
には、出射されるレーザ光のモードはそれぞれ第７図（
Ａ）の２ＯＡ、２１Ａの如くなる。
いずれの場合にも、エネルギー密度分布特性は平坦でな
く、不均一な崩れたちのｋなっている。また短形の光フ
ァイバの途中に半径Ｒが１．００ｍｍである−巻きのリ
ング部を形成（７た場合の伝送特性は、第７図（Ｂ）の
２０Ｂ、２１ Ｂに示す如くなる。この光ファイバによ
っても、十分に平坦なエネルギー・密度分布特什を有す
るレーザ光を得ることができない。上記の各光ファイバ
に対し７て、第２図に示（７た本実施例によるリング部
６Ａ＄ｌ−備えた光ファイバ２を、レーザ光伝送手段き
して使用しまた場合には、第７図（Ｃ）の２０Ｃ，２Ｉ
Ｃに示される如く、十分に平坦なエネルギー密度分布特
性を有するレーザ光を得るこきができる。
く、不均一な崩れたちのｋなっている。また短形の光フ
ァイバの途中に半径Ｒが１．００ｍｍである−巻きのリ
ング部を形成（７た場合の伝送特性は、第７図（Ｂ）の
２０Ｂ、２１ Ｂに示す如くなる。この光ファイバによ
っても、十分に平坦なエネルギー・密度分布特什を有す
るレーザ光を得ることができない。上記の各光ファイバ
に対し７て、第２図に示（７た本実施例によるリング部
６Ａ＄ｌ−備えた光ファイバ２を、レーザ光伝送手段き
して使用しまた場合には、第７図（Ｃ）の２０Ｃ，２Ｉ
Ｃに示される如く、十分に平坦なエネルギー密度分布特
性を有するレーザ光を得るこきができる。
第３図は、前記第２図に示した実施例において、リング
部の半径を２倍の２Ｒ占した場合である。
部の半径を２倍の２Ｒ占した場合である。
この場合にはリング部６Ｂの径が大きくなるので、リン
グ部を２巻きにして形成する。これによって、前記第Ｊ
実施例の場合と同様な効果を生じさせることができる。
グ部を２巻きにして形成する。これによって、前記第Ｊ
実施例の場合と同様な効果を生じさせることができる。
第４図は本発明の他の変更実施例を示す。この実施例で
は、レーザ光伝送手段である光ファイバ２の途中に、複
数のくの字形の折曲げ部２ａを形成１７、かかる複数の
折曲げ部２ａによって光散乱用伝送部６を形成するよう
にしている。この形状によっても、複数のくの字形の部
分で十分に散乱が発生し、第７図（Ｃ）で示されるよう
なレーザ光を出射部で得るこＬができる。光ファイバ２
において上記形状を保持するため、通算゛、樹脂部材又
はゴム部材等の被デ部祠８で光ファイバ２における折曲
げ部２ａが形成される部分を被覆ｊ７、これによって散
乱用伝送部６とｉ−で要求される形状を保持している。
は、レーザ光伝送手段である光ファイバ２の途中に、複
数のくの字形の折曲げ部２ａを形成１７、かかる複数の
折曲げ部２ａによって光散乱用伝送部６を形成するよう
にしている。この形状によっても、複数のくの字形の部
分で十分に散乱が発生し、第７図（Ｃ）で示されるよう
なレーザ光を出射部で得るこＬができる。光ファイバ２
において上記形状を保持するため、通算゛、樹脂部材又
はゴム部材等の被デ部祠８で光ファイバ２における折曲
げ部２ａが形成される部分を被覆ｊ７、これによって散
乱用伝送部６とｉ−で要求される形状を保持している。
なお、樹脂部材等の被覆部材８は必ず必要とされるもの
ではなく、光ファイバ２そのものに安定して形態を付与
することができる場合には不要である。 ′ 第５図は本発明の他の実施例を示す。この実施料では、
光ファイバ２の途中に螺旋形を１−１た部分２ｂを少な
くとも１箇所形成するようにした。このように光ファイ
バ２の途中に螺旋部２１３を形成することにより所要の
散乱を発生さ）士でも、第７図（Ｃ）に示されるエネル
ギー密度分布特性を有するレーザ光を得ることができる
。まｔ′：第５図に示される光ファイバ２の螺旋部２ｂ
は光ファイバそのものの形態として作ることもできるが
、前記実施例と同様に樹脂部材又はゴム部材等で作られ
る被覆部材９を設けることによって形状を保持するよう
にすることもできる。
ではなく、光ファイバ２そのものに安定して形態を付与
することができる場合には不要である。 ′ 第５図は本発明の他の実施例を示す。この実施料では、
光ファイバ２の途中に螺旋形を１−１た部分２ｂを少な
くとも１箇所形成するようにした。このように光ファイ
バ２の途中に螺旋部２１３を形成することにより所要の
散乱を発生さ）士でも、第７図（Ｃ）に示されるエネル
ギー密度分布特性を有するレーザ光を得ることができる
。まｔ′：第５図に示される光ファイバ２の螺旋部２ｂ
は光ファイバそのものの形態として作ることもできるが
、前記実施例と同様に樹脂部材又はゴム部材等で作られ
る被覆部材９を設けることによって形状を保持するよう
にすることもできる。
上記の各実施例では、光ファイバ２の形状を部分的に変
更することによって光散乱用伝送部を設けるように（７
たが、光ファイバ２とは全く別部材の光散乱機能を有す
る部材を取付けるように構成することも可能である。
更することによって光散乱用伝送部を設けるように（７
たが、光ファイバ２とは全く別部材の光散乱機能を有す
る部材を取付けるように構成することも可能である。
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、レーザ
発振器で発生（７た！ノーザ光を短い光ファイバを用い
て被加工物まで伝送するように構成されたレーザ加工装
置において、光ファイバの途中にレーザ光を散乱ざぜる
伝送部を設υるようにＩ７たため、レーザ加工で必要と
されるエネルギー密度分布が平坦な特性を有するレーザ
光を得ることができる。
発振器で発生（７た！ノーザ光を短い光ファイバを用い
て被加工物まで伝送するように構成されたレーザ加工装
置において、光ファイバの途中にレーザ光を散乱ざぜる
伝送部を設υるようにＩ７たため、レーザ加工で必要と
されるエネルギー密度分布が平坦な特性を有するレーザ
光を得ることができる。
第１−図は本発明に係る光ファイバが適用されるレーザ
加工装置のＷ、略構成図、第２図は光散乱用伝送部の第
１一実施例を示す図、第４図は光散乱用〔符号の説明〕 １・・ｅぐ・ ２・φｅ−− ５・・・・・ ６・・＃φφ ６Ａ・・・・ ａ１１ ２ｂ・・・・ ８．９φ・・ ・レーザ発振器 ・光ファイバ ・被加工物 ・光散乱用伝送部 ・リング部 ・折曲げ部 ・螺旋形部分 ・被覆部材
加工装置のＷ、略構成図、第２図は光散乱用伝送部の第
１一実施例を示す図、第４図は光散乱用〔符号の説明〕 １・・ｅぐ・ ２・φｅ−− ５・・・・・ ６・・＃φφ ６Ａ・・・・ ａ１１ ２ｂ・・・・ ８．９φ・・ ・レーザ発振器 ・光ファイバ ・被加工物 ・光散乱用伝送部 ・リング部 ・折曲げ部 ・螺旋形部分 ・被覆部材
Claims (7)
- （１）レーザ発振器から出力されたレーザ光を光ファイ
バで被加工物まで伝送するレーザ加工装置において、前
記レーザ光の途中に光散乱用伝送部を設けるようにした
ことを特徴とするレーザ加工装置の出力ビームモード安
定化光ファイバ。 - （２）請求項１記載のレーザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバにおいて、前記光散乱用伝送部は、
光ファイバをリング状に巻いて設けられることを特徴と
するレーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイ
バ。 - （３）請求項２記載のレーザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバにおいて、前記リング部は、リング
の径が小さいときには一巻きとし、リングの径が大きい
ときには複数巻きとしたことを特徴とするレーザ加工装
置の出力ビームモード安定化光ファイバ。 - （４）請求項１記載のレーザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバにおいて、前記光散乱用伝送部は、
光ファイバに複数の折曲げ部を形成して設けられること
を特徴とするレーザ加工装置の出力ビームモード安定化
光ファイバ。 - （５）請求項４記載のレーザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバにおいて、前記折曲げ部は被覆部材
で被覆され、前記折曲げ部の折曲げ形状を保持するよう
にしたことを特徴とするレーザ加工装置の出力ビームモ
ード安定化光ファイバ。 - （６）請求項１記載のレーザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバにおいて、前記光散乱用伝送部は、
光ファイバに螺旋部を形成して設けられることを特徴と
するレーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイ
バ。 - （７）請求項６記載のレーザ加工装置の出力ビームモー
ド安定化光ファイバにおいて、前記螺旋部は被覆部材で
被覆され、前記螺旋部の螺旋形状を保持するようにした
ことを特徴とするレーザ加工装置の出力ビームモード安
定化光ファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187697A JPH0475794A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | レーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187697A JPH0475794A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | レーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0475794A true JPH0475794A (ja) | 1992-03-10 |
Family
ID=16210570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2187697A Pending JPH0475794A (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | レーザ加工装置の出力ビームモード安定化光ファイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0475794A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003019588A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-21 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ溶接機、及び、レーザ溶接方法 |
| JP2009160610A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Olympus Corp | レーザリペア装置 |
| JP2009294247A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ビーム変換器 |
| JP2010036189A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Miyachi Technos Corp | レーザ加工装置 |
| JP2012234978A (ja) * | 2011-05-02 | 2012-11-29 | Omron Corp | レーザ照射装置およびレーザ加工装置 |
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-
1990
- 1990-07-16 JP JP2187697A patent/JPH0475794A/ja active Pending
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| JP2021511967A (ja) * | 2018-02-02 | 2021-05-13 | エスピーアイ レーザーズ ユーケー リミテッド | 材料をレーザ加工するための装置および方法 |
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