JPH0468093A - フラックス洗浄剤 - Google Patents

フラックス洗浄剤

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Publication number
JPH0468093A
JPH0468093A JP17950090A JP17950090A JPH0468093A JP H0468093 A JPH0468093 A JP H0468093A JP 17950090 A JP17950090 A JP 17950090A JP 17950090 A JP17950090 A JP 17950090A JP H0468093 A JPH0468093 A JP H0468093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lactate
cleaner
cleaning
flux
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP17950090A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuo Matsumoto
勝男 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPH0468093A publication Critical patent/JPH0468093A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ハンダ接合時にハンダと基材との接合力を強
める為に塗布されるフラックスをハンダ接合後に除去す
る為のフラックス洗浄剤に関する。
〔従来の技術〕
従来、電気・電子産業分野では、プリント回路又はプリ
ント配線板製造工程において、ハンダと基材とを強固に
固着させる為に予めフラックスを塗布している。このフ
ラックスは、プリント回路又はプリント配線板に残存す
ると導電不良或は腐食の原因となる為、通常、ハンダ付
は終了後には有機系洗浄材によって、洗浄除去されてい
る。この洗浄剤として、従来からフロン113或はメチ
ルクロロホルムが使用されてきている。これらの溶剤は
フラックスに対する溶解力が大きく、不燃性であること
から広範囲に使用されている。
〔発明が解決しようとしている課題〕
しかし、社会的な環境問題に対する意識の高まりの中で
環境破壊性物質の大気及び水系への排出規制の動きが出
てきている。例えば、フロン系溶剤(特定フロン5種:
 CFCII、 CFCl2. CFCII3. CF
CII4゜CFCII5)やメチルクロロホルムは、オ
ゾン層破壊物質として、その使用が制限されつつある。
かかる状況において、フロン113或はメチルクロロホ
ルムを使用している産業界では、−日も早く、これら溶
剤に代わるフラックス洗浄剤が求められているのが実状
である。
〔課題を解決する為の手段〕
本発明者らは、フラックス洗浄剤に用いられるフロン1
13或はメチルクロロホルムに代わる洗浄剤の研究を重
ねた結果、ノニオン系界面活性剤、及び、乳酸メチル、
乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチルの中から選ばれ
る一種又は一種以上を必須成分として含む組成物が、従
来のフラックス洗浄剤(フロン113及びメチルクロロ
ホルム)に匹敵する程の高い洗浄性能及び仕上がり性の
良さを示す洗浄剤であることを見出し、この知見に基づ
いて本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、 (1)ノニオン系界面活性剤、及び (2)乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペン
チルの中から選ばれる一種又は一種以上、を必須成分と
して含むことを特徴とするフラックス洗浄剤である。
本発明に用いるノニオン系界面活性剤の濃度は、1〜3
0重量%の範囲にあることが好ましい。
本発明に用いるノニオン系界面活性剤としては、例えば
、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエ
チレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリル
エーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポ
リオキシエチレンアルキルエーテル;ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル;ポリオキシエチレンポリオキジプロピ
レンブロックポリマー、ポリオキシソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸
アミド等のポリオキシエチレン誘導体;ソルビタン脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる
。これらはそれぞれ単独で用いることが可能であるが、
好ましくは、二種類以上の組み合わせが用いられる。
より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
或はポリオキシエチレン脂肪酸エステル等のポリオキシ
エチレン系のノニオン系界面活性剤が一種類以上含まれ
る組み合わせが用いられる。
ポリオキシエチレン系のノニオン系界面活性剤における
エチレンオキサイド部分の付加モル数は3〜40が好ま
しく、より好ましくは10〜20である。
本発明に用いる乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、
乳酸ペンチルの中から選ばれる一種又は一種以上の物質
の濃度は、50〜99重量%の範囲にあることが好まし
い。
本発明における必須成分の組み合わせは、被洗物の材質
及び形態、汚れの種類等に応じて、任意に変えることが
可能である。必須成分の内、どちらか一方でも欠けると
、フラックス洗浄性能或は水リンス性が悪くなることに
よる仕上がりの悪化が起こる。又、必須成分2種類の組
み合わせによって始めて環境に対して安全で、しかも労
働衛生上も問題がなく、従来のフロン系及び塩素系のフ
ラックス洗浄能力に匹敵する実用的な洗浄剤が得られる
ものである。更に、本発明の組成物に液の安定性の保持
や被洗物に対する安定性を向上させる為に或は溶解力向
上の為に種々の安定剤及び添加剤を加えることが可能で
ある。安定剤及び添加剤としては、例えば、炭化水素類
、アルコール類、エーテル類、エステル類、アセタール
類、ケトン類、脂肪酸類、ニトロアルカン類、アミン類
、アミド類、り゛リコール類、アミンエタノール類、ベ
ンゾトリアゾール類等が挙げられる。
更に本発明の組成物にアニオン系界面活性剤やカチオン
系界面活性剤を必要に応じて添加することも可能である
〔実施例〕
以下、本発明を実施例及び比較例によって具体的に説明
する。実施例及び比較例における洗浄方法は次の通りで
ある。
実施例における洗浄方法(第1図) ■ 本発明の組成物を仕込んだ超音波洗浄機〔ヤマト科
学■製、商品名:BRANSONIC220] 2槽(
第一槽、第二槽)と水リンス槽2槽(第三槽、第四槽)
を用意し、洗浄槽の温度を40’Cとした。
尚、水リンス槽の温度は室温とした。
■ 被洗物(ガラスエポキシ製プリント基板)に各種フ
ラックス(タムラ製作所製、商品名:フラックスF−2
30V及びMH−320V)を塗布し、溶融ハンダ槽(
260℃)で5秒間ハンダ付は作業を行った。
■ 被洗物を第一槽に1分間、続いて第二槽に1分間浸
漬して、超音波洗浄を行った。
■ 次に被洗物を第三槽と第四槽に各1分間、順番に浸
し、それぞれ被洗物を軽く揺動させて水リンスを行った
■ 最後に110℃に設定された乾燥機で被洗物を乾燥
させた(乾燥時間5分間)。
■ オメガメーターにより、プリント基板上のイオン分
残査を測定した。
一比較例における洗浄方法(第2図) (揮発性溶剤を用いた場合) ■ 冷却管を備えた容量1000−の硬質ガラス製洗浄
器3台(第一槽、第二槽、第三槽)を用意し、各種に比
較溶剤3007+7!をいれ、第一槽を沸騰槽(比較溶
剤の沸点の温度)、第二槽を冷浴槽(室温)、第三槽を
蒸気槽(比較溶剤の沸点の温度)とした。
■ 前記の被洗物を各種に順番に1分間浸漬した(但し
、第三槽では被洗物を蒸気層へ入れただけ)。
■ その後、オメガメーターにより、プリント基板上の
イオン分残査を測定した。
尚、比較例で高沸系溶剤を用いる場合は、“実施例にお
ける洗浄方法”に準じた。
実施例1〜5 第1表に示す組成物について洗浄実験を行った。
その結果を第4表に示す。
比較例1. 2 第2表に示す溶剤について洗浄実験を行った。
その結果を第4表に示す。
比較例3〜5 第3表に示す溶剤について洗浄実験を行った。
その結果を第4表に示す。
〔発明の効果〕
本発明のフラックス洗浄剤は、従来のフロン系及び塩素
系溶剤に匹敵する洗浄性能及び仕上がり性の良さを有し
、しかも、オゾンを破壊することなく、更に生物分解性
か高い為に、排水中に混入した場合でも、通常の微生物
処理等により容易に分解させることが可能である。従っ
て排水によって、水系環境を汚染させる心配もない。ま
た、低毒性及び高引火点である為、非常に安全な洗浄溶
剤である。
従って、本発明のフラックス洗浄剤は実用上、従来のフ
ロン系及び塩素系溶剤を代替する優れたフラックス洗浄
剤である。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例の洗浄剤を用いた被洗物の洗浄方法の概
略図、第2図は比較例の揮発性溶剤を用いた被洗物の洗
浄方法の概略図である。 特許出願人  旭化成工業株式会社

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.(1)ノニオン系界面活性剤、及び
  2. (2)乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペン
    チルの中から選ばれる一種又は一種以上、 を必須成分として含むことを特徴とするフラックス洗浄
    剤。
JP17950090A 1990-07-09 1990-07-09 フラックス洗浄剤 Pending JPH0468093A (ja)

Priority Applications (1)

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JP17950090A JPH0468093A (ja) 1990-07-09 1990-07-09 フラックス洗浄剤

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JP17950090A JPH0468093A (ja) 1990-07-09 1990-07-09 フラックス洗浄剤

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Publication Number Publication Date
JPH0468093A true JPH0468093A (ja) 1992-03-03

Family

ID=16066907

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17950090A Pending JPH0468093A (ja) 1990-07-09 1990-07-09 フラックス洗浄剤

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JP (1) JPH0468093A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0672101A4 (en) * 1992-08-06 1997-05-14 Lockheed Corp SOLVENT-BASED, LOW-ODOR, FLAMMABLE CLEANING AGENT.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0672101A4 (en) * 1992-08-06 1997-05-14 Lockheed Corp SOLVENT-BASED, LOW-ODOR, FLAMMABLE CLEANING AGENT.

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