JPH0463241B2 - - Google Patents
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- JPH0463241B2 JPH0463241B2 JP60211208A JP21120885A JPH0463241B2 JP H0463241 B2 JPH0463241 B2 JP H0463241B2 JP 60211208 A JP60211208 A JP 60211208A JP 21120885 A JP21120885 A JP 21120885A JP H0463241 B2 JPH0463241 B2 JP H0463241B2
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- vane
- nozzle
- relay
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- chamber
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 21
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/788—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with floating gate
- H01L29/7881—Programmable transistors with only two possible levels of programmation
- H01L29/7882—Programmable transistors with only two possible levels of programmation charging by injection of carriers through a conductive insulator, e.g. Poole-Frankel conduction
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Supply Devices, Intensifiers, Converters, And Telemotors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、空気式アクチユエータのピストンま
たはダイヤフラムを制御信号により要求される位
置に駆動するため空気供給源を採用したボジシヨ
ナにおける空気式コンバータに関する。
たはダイヤフラムを制御信号により要求される位
置に駆動するため空気供給源を採用したボジシヨ
ナにおける空気式コンバータに関する。
周知の形式の空気式ポジシヨナにおいては、信
号カプセルがベーンの一端に取り付けられてお
り、リレー構造体がベーンの他端に取り付けられ
る。信号カプセルとリレー構造体の中間のベーン
に近接してノズルが配置される。ノズルは、圧縮
空気源により連続的に加圧される。信号カプセル
に加えられる空気入力制御信号が増大すると、ベ
ーンはノズルに向つて動かされ、ベーンとノズル
間の間隙は減じ、ノズルの背圧は増大する。背圧
は、供給圧力に抗して、リレー構造体を動かし、
空気供給源弁および排気弁を比例的に開閉して、
空気供給または排気を調節して最終制御要素を変
位する圧力差信号を供給する。リレー構造体が移
動する量は、ベーンがノズルから離れる距離によ
り決定される。ベーンのノズルからの離間は、ノ
ズルの背圧を減じ、リレー構造体の運動を停止せ
しめる。最終制御要素の変位運動は、レンジスプ
リングによりベーンにフイードバツクされる。レ
ンジスプリングと入力信号の間に力平衡が達成さ
れると、リレー構造体は中立位置に戻る。最終制
御要素はそのとき入力制御信号と平衡状態とな
る。入力制御信号が減ずると順序は逆にとる。
号カプセルがベーンの一端に取り付けられてお
り、リレー構造体がベーンの他端に取り付けられ
る。信号カプセルとリレー構造体の中間のベーン
に近接してノズルが配置される。ノズルは、圧縮
空気源により連続的に加圧される。信号カプセル
に加えられる空気入力制御信号が増大すると、ベ
ーンはノズルに向つて動かされ、ベーンとノズル
間の間隙は減じ、ノズルの背圧は増大する。背圧
は、供給圧力に抗して、リレー構造体を動かし、
空気供給源弁および排気弁を比例的に開閉して、
空気供給または排気を調節して最終制御要素を変
位する圧力差信号を供給する。リレー構造体が移
動する量は、ベーンがノズルから離れる距離によ
り決定される。ベーンのノズルからの離間は、ノ
ズルの背圧を減じ、リレー構造体の運動を停止せ
しめる。最終制御要素の変位運動は、レンジスプ
リングによりベーンにフイードバツクされる。レ
ンジスプリングと入力信号の間に力平衡が達成さ
れると、リレー構造体は中立位置に戻る。最終制
御要素はそのとき入力制御信号と平衡状態とな
る。入力制御信号が減ずると順序は逆にとる。
ノズルは、ベーン上において信号カプセルおよ
びリレー構造体に関して本質的に支点として機能
する。信号カプセル、ノズルおよびリレー間の動
作上の関係は、ベーンに沿うこれらの３つの部材
位置に依存する。所与の位置にて運動は固定され
る。
びリレー構造体に関して本質的に支点として機能
する。信号カプセル、ノズルおよびリレー間の動
作上の関係は、ベーンに沿うこれらの３つの部材
位置に依存する。所与の位置にて運動は固定され
る。
従来、広いスパンにわたり利得を調節できる簡
単な構造の空気式ポジシヨナは存在しなかつた。
それゆえ、本発明の目的は、円板ないしデイスク
の回転によつて、広いスパンにわたり利得を調節
できる簡単な構造の空気式ポジシヨナを提供する
ことである。
単な構造の空気式ポジシヨナは存在しなかつた。
それゆえ、本発明の目的は、円板ないしデイスク
の回転によつて、広いスパンにわたり利得を調節
できる簡単な構造の空気式ポジシヨナを提供する
ことである。
本発明にしたがえば、リレー構造体の運動の大
きさ、したがつて空気供給または排気の量は、ベ
ーン、信号カプセルおよびリレー構造体に関して
ノズルの位置を変えることにより変化される。信
号カプセルの移動は、入力スパンの１％より大き
い圧力変化に対しては固定されるから、リレー構
造体の運動または移動は、ノズルの位置に依存す
る。
きさ、したがつて空気供給または排気の量は、ベ
ーン、信号カプセルおよびリレー構造体に関して
ノズルの位置を変えることにより変化される。信
号カプセルの移動は、入力スパンの１％より大き
い圧力変化に対しては固定されるから、リレー構
造体の運動または移動は、ノズルの位置に依存す
る。
リレー構造体の中心の実際の運動は、信号カプ
セルおよびリレー構造体に関するノズルの位置に
依存する。ノズルにより設定される支点は、信号
カプセルおよびリレー構造体間の中間に位置づけ
られると、中心構造体の運動は信号カプセルの運
動に等しい。ノズルにより設定される支点が信号
カプセルにより近くに移動されると、中心構造体
は、ノズル背圧をその平衡レベルに戻すためより
大きく移動しなければならない。ノズルにより設
定される支点が中心構造体により近く位置づけら
れると、中心構造体はノズル背圧を復旧するため
により少なく移動すればよいことになる。供給お
よび排気弁が開く量は中心構造体の運動に直接関
係づけられるから、ノズルの位置でポジシヨナの
空気供給および利得を制御できる。このようにし
て、ポジシヨナの利得は広いスパンに亘つて調節
できる。
セルおよびリレー構造体に関するノズルの位置に
依存する。ノズルにより設定される支点は、信号
カプセルおよびリレー構造体間の中間に位置づけ
られると、中心構造体の運動は信号カプセルの運
動に等しい。ノズルにより設定される支点が信号
カプセルにより近くに移動されると、中心構造体
は、ノズル背圧をその平衡レベルに戻すためより
大きく移動しなければならない。ノズルにより設
定される支点が中心構造体により近く位置づけら
れると、中心構造体はノズル背圧を復旧するため
により少なく移動すればよいことになる。供給お
よび排気弁が開く量は中心構造体の運動に直接関
係づけられるから、ノズルの位置でポジシヨナの
空気供給および利得を制御できる。このようにし
て、ポジシヨナの利得は広いスパンに亘つて調節
できる。
本発明にしたがえば、空気式ポジシヨナは、Ｏ
状のベーンと、円板（ないしデイスク）上に回転
できるように取り付けられたノズルを備える。円
板の回転で、ノズルは０輪状のベーンの長さに沿
つて移動され、ノズルの出口から出る空気がベー
ンの長さに沿つて異なる位置でベーンを打つこと
ができるようになつている。
状のベーンと、円板（ないしデイスク）上に回転
できるように取り付けられたノズルを備える。円
板の回転で、ノズルは０輪状のベーンの長さに沿
つて移動され、ノズルの出口から出る空気がベー
ンの長さに沿つて異なる位置でベーンを打つこと
ができるようになつている。
第１図に示されている空気式ポジシヨナ１０
は、リレーハウジング１２に装着された入力また
は信号カプセルアセンブリ１１を含む。
は、リレーハウジング１２に装着された入力また
は信号カプセルアセンブリ１１を含む。
信号カプセルアセンブリ１１は、円筒形のハウ
ジング１５内において可動の中心支持体１４に接
続されたロツド１３を有する。中心支持体１４
は、軸線方向に離間されたダイヤフラム１６，１
７により半径方向の境界が形成されている。ダイ
ヤフラム１６，１７は、中心支持体１４およびハ
ウジング１５の上・下端部に機械的に結合され、
チヤンバ１８を形成している。中心支持体１４
は、チヤンバ１８内の圧力に応答して移動して得
る。
ジング１５内において可動の中心支持体１４に接
続されたロツド１３を有する。中心支持体１４
は、軸線方向に離間されたダイヤフラム１６，１
７により半径方向の境界が形成されている。ダイ
ヤフラム１６，１７は、中心支持体１４およびハ
ウジング１５の上・下端部に機械的に結合され、
チヤンバ１８を形成している。中心支持体１４
は、チヤンバ１８内の圧力に応答して移動して得
る。
中心支持体１４の軸方向下端部には、ベーンア
センブリが図面に配向されるように接続されてい
る。ベーンアセンブリはリンク２１を備えてお
り、該リンクは、平坦なＯ状のストリツプ（第３
図参照）の形態を有するベーン２２の第１の端部
に、リンク２１に取り付けられた第１の可撓性の
膜２３により接続されており、ベーンに対する第
１の枢支点を形成している。Ｏ状ベーン２２の反
対の第２の端部は、第２の可撓性の膜２４を介し
て垂直接続リンク２５に接続されている。しかし
て、このリンク２５は、第２可撓性膜から吊さ
れ、その下端部の横方向に延びるスタプ２６で終
端している。
センブリが図面に配向されるように接続されてい
る。ベーンアセンブリはリンク２１を備えてお
り、該リンクは、平坦なＯ状のストリツプ（第３
図参照）の形態を有するベーン２２の第１の端部
に、リンク２１に取り付けられた第１の可撓性の
膜２３により接続されており、ベーンに対する第
１の枢支点を形成している。Ｏ状ベーン２２の反
対の第２の端部は、第２の可撓性の膜２４を介し
て垂直接続リンク２５に接続されている。しかし
て、このリンク２５は、第２可撓性膜から吊さ
れ、その下端部の横方向に延びるスタプ２６で終
端している。
ノズル３０は、Ｏ状のベーン２２にそれと垂直
に整列して並置されている。ノズルは、第２図に
略示されるように加圧空気源に接続されている。
ノズル３０の出口から出る空気は、ベーン２２に
当たる。ノズル３０は、中心ステム３２の回りに
回転可能に嵌合された円板３１内に取り付けられ
ている。円板３１がステム３２の回りに回転する
と、ノズル３０は、ベーン２２上をその両端部間
において円弧に沿つて移動してその長さに関して
再位置設定され、ノズル３０の出口がベーン２２
と連続的に垂直に整列されるようになる。ベーン
２２がノズル３０の出口に対して接近、離間運動
すると、その間に形成されるギヤツプは変わり、
空気流出量、したがつてノズルの上流のノズル背
圧管３９の背圧が変わる。ノズル３０は、膜２
３，２４にて丁着されたベーン部材２２に対して
空気圧により力を加える。この力がどこで加えら
れるかに依存して、ベーン部材は２２は、ノズル
を支点ないし枢支点として枢動するがごとくに動
作する。
に整列して並置されている。ノズルは、第２図に
略示されるように加圧空気源に接続されている。
ノズル３０の出口から出る空気は、ベーン２２に
当たる。ノズル３０は、中心ステム３２の回りに
回転可能に嵌合された円板３１内に取り付けられ
ている。円板３１がステム３２の回りに回転する
と、ノズル３０は、ベーン２２上をその両端部間
において円弧に沿つて移動してその長さに関して
再位置設定され、ノズル３０の出口がベーン２２
と連続的に垂直に整列されるようになる。ベーン
２２がノズル３０の出口に対して接近、離間運動
すると、その間に形成されるギヤツプは変わり、
空気流出量、したがつてノズルの上流のノズル背
圧管３９の背圧が変わる。ノズル３０は、膜２
３，２４にて丁着されたベーン部材２２に対して
空気圧により力を加える。この力がどこで加えら
れるかに依存して、ベーン部材は２２は、ノズル
を支点ないし枢支点として枢動するがごとくに動
作する。
第１に示されるように、垂直接続リンク２５
は、リレー中心構造体２８の連結リンク２７に取
り付けられている。
は、リレー中心構造体２８の連結リンク２７に取
り付けられている。
リレー中心構造体２８は、リレーハウジング１
２の細長部分内に、垂直接続リンク２５と平行な
方向に直線運動するように取り付けられている。
第２図はポジシヨナの空気通路、室、および弁を
ノズル、入力カプセルおよびリレー構造体との関
係において略示する線図である。
２の細長部分内に、垂直接続リンク２５と平行な
方向に直線運動するように取り付けられている。
第２図はポジシヨナの空気通路、室、および弁を
ノズル、入力カプセルおよびリレー構造体との関
係において略示する線図である。
動作について説明すると、空気流は、加圧空気
源（図示せず）に接続されたノズル３０の出口か
ら連続的に放出され、中心支持体１４およびリレ
ー中心構造体２８に可動的に取り付けられたＯ状
のベーン２２を打つように方向づけられている。
チヤンバ１８に対する入力が増すと、信号カプセ
ル１１およびベーン２２はノズル３０に向つて動
く。ベーン２２がノズル３０の出口に向つて移動
せしめられると、出口の制限のため、ノズル背圧
管３９したがつてノズル背圧室４０内の背圧は増
す。このため、リレー中心構造体２８は、供給圧
力基準室３３により加えられる圧力に抗して（図
面の配向において）上方に移動し、ベーン２２は
ノズル30の出口から離間するに至る。リレー中心
構造体２８が二次出力室４２に向つて移動する
際、二次出力室４２の弁はリレー中心構造体２８
上に乗つており、一次供給室３４を運動の割合で
開放する。一次室弁４３は、一次供給室３５上に
座着されており、リレー中心構造体２８の運動の
割合で中心構造体をリレー排気口３６に開放す
る。この正味の結果として、二次出力室の出力は
増加し、一次出力室４６の出力は減少する。一次
室弁上にはばね４１により、二次室弁４４上には
ばね４５により正の力が維持されている。一次出
力室４６と二次出力室４２間の圧力差は、最終制
御要素（図示せず）を変位するのに利用される。
こゝで、「一次」および「二次」なる用語は単に
それぞれの室を区別するためにのみ使用される。
源（図示せず）に接続されたノズル３０の出口か
ら連続的に放出され、中心支持体１４およびリレ
ー中心構造体２８に可動的に取り付けられたＯ状
のベーン２２を打つように方向づけられている。
チヤンバ１８に対する入力が増すと、信号カプセ
ル１１およびベーン２２はノズル３０に向つて動
く。ベーン２２がノズル３０の出口に向つて移動
せしめられると、出口の制限のため、ノズル背圧
管３９したがつてノズル背圧室４０内の背圧は増
す。このため、リレー中心構造体２８は、供給圧
力基準室３３により加えられる圧力に抗して（図
面の配向において）上方に移動し、ベーン２２は
ノズル30の出口から離間するに至る。リレー中心
構造体２８が二次出力室４２に向つて移動する
際、二次出力室４２の弁はリレー中心構造体２８
上に乗つており、一次供給室３４を運動の割合で
開放する。一次室弁４３は、一次供給室３５上に
座着されており、リレー中心構造体２８の運動の
割合で中心構造体をリレー排気口３６に開放す
る。この正味の結果として、二次出力室の出力は
増加し、一次出力室４６の出力は減少する。一次
室弁上にはばね４１により、二次室弁４４上には
ばね４５により正の力が維持されている。一次出
力室４６と二次出力室４２間の圧力差は、最終制
御要素（図示せず）を変位するのに利用される。
こゝで、「一次」および「二次」なる用語は単に
それぞれの室を区別するためにのみ使用される。
制御要素の変位運動は、レンジスプリング５０
を介して空気式ポジシヨナ１０にフイードバツク
される。レンジスプリングは、例えば、ピボツト
腕５１によりロツド１３に枢着的に接続される。
かくして、レンジばね５０は、入力すなわち作動
圧力とともに、所望に応じてベーン２２を動か
す。レンジスプリング５０と入力信号間に力の平
衡が達成されると、リレー中心構造体２８は中立
位置に戻り、一次室弁４３および二次室弁４４を
閉じる。
を介して空気式ポジシヨナ１０にフイードバツク
される。レンジスプリングは、例えば、ピボツト
腕５１によりロツド１３に枢着的に接続される。
かくして、レンジばね５０は、入力すなわち作動
圧力とともに、所望に応じてベーン２２を動か
す。レンジスプリング５０と入力信号間に力の平
衡が達成されると、リレー中心構造体２８は中立
位置に戻り、一次室弁４３および二次室弁４４を
閉じる。
リレー中心構造体の移動運動は、ノズル３０の
位置に依存する。
位置に依存する。
上述のように、入力が増大すると、信号カプセ
ル１１およびベーン２２はノズル３０に向つて移
動する。この結果、ノズル背圧室４０の圧力が増
加し、リレー中心構造体２８を移動させる。リレ
ー中心構造体２８は、ベーン２２の信号カプセル
１１からのとは反対の端部に機械的に結合され
る。リレー中心構造体２８の運動方向は、ベーン
２２にネガテイブフイードバツクを与え、それを
ノズルから離間させる。リレー中心構造体の運動
は、ベーン２２がノズル３０から十分に離間して
ノズル背圧室４０をその平衡レベルに戻すまで続
く。リレー中心構造体２８の実際の運動は、信号
カプセル１１およびリレー中心構造体枢支点２
３，２４に関するノズル３０の位置に依存する。
もしもノズル３０が２つの枢支点２３，２４間の
中間に位置づけられると、リレー中心構造体２８
の運動は、信号カプセル１１の運動に等しい。も
しもノズル３０が信号カプセル枢支点２４により
近く移動されると、リレー中心構造体２８は、ノ
ズル背圧室４０をその平衡レベルに戻すようによ
り大きく移動しなければならない。ノズル３０を
リレー中心構造体枢支点２３により近く位置づけ
ると、リレー中心構造体２８は、ノズル背圧室を
その平衡レベルに復旧するためにはより少なく移
動するだけでよいことになる。一次および二次弁
４３，４４が開閉する量は、リレー中心構造体２
８の運動に直接関係づけられるから、ノズル３０
の位置で空気式ポジシヨナ１０の空気供給ないし
利得を制御できる。
ル１１およびベーン２２はノズル３０に向つて移
動する。この結果、ノズル背圧室４０の圧力が増
加し、リレー中心構造体２８を移動させる。リレ
ー中心構造体２８は、ベーン２２の信号カプセル
１１からのとは反対の端部に機械的に結合され
る。リレー中心構造体２８の運動方向は、ベーン
２２にネガテイブフイードバツクを与え、それを
ノズルから離間させる。リレー中心構造体の運動
は、ベーン２２がノズル３０から十分に離間して
ノズル背圧室４０をその平衡レベルに戻すまで続
く。リレー中心構造体２８の実際の運動は、信号
カプセル１１およびリレー中心構造体枢支点２
３，２４に関するノズル３０の位置に依存する。
もしもノズル３０が２つの枢支点２３，２４間の
中間に位置づけられると、リレー中心構造体２８
の運動は、信号カプセル１１の運動に等しい。も
しもノズル３０が信号カプセル枢支点２４により
近く移動されると、リレー中心構造体２８は、ノ
ズル背圧室４０をその平衡レベルに戻すようによ
り大きく移動しなければならない。ノズル３０を
リレー中心構造体枢支点２３により近く位置づけ
ると、リレー中心構造体２８は、ノズル背圧室を
その平衡レベルに復旧するためにはより少なく移
動するだけでよいことになる。一次および二次弁
４３，４４が開閉する量は、リレー中心構造体２
８の運動に直接関係づけられるから、ノズル３０
の位置で空気式ポジシヨナ１０の空気供給ないし
利得を制御できる。
円板ないしデイスクの回転によつて、広いスパ
ンにわたり利得を調節できる簡単な構造のポジシ
ヨナが得られる。
ンにわたり利得を調節できる簡単な構造のポジシ
ヨナが得られる。
第１図は本発明の空気式ポジシヨナの垂直断面
図、第２図は本発明を利用したポジシヨナの概略
線図、第３図は第１図のＯ状ベーンの平面図、第
４図は第１図のＯ状ベーンの立面図である。 １０：空気式ポジシヨナ、１１：信号カプセル
組立体、１２：リレーハウジング、１３：ロツ
ド、１４：中心支持体、１５：円筒型ハウジン
グ、１６，１７：ダイヤフラム、１８：チヤン
バ、２１：リンク、２２：Ｏ状ストリツプ、２
３，２４：可撓性の膜、２５：垂直接続リンク、
２７：接続リンク、２８：リレー中心構造体、３
０：ノズル、３１：円板、３２：中心ステム、３
３：供給圧力基準室、３４：二次供給室、３５：
一次供給室、３６：リレー排気口、３９：ノズル
背圧管、４２：二次出力室、４３：一次室弁、４
４：二次室弁、４５：ばね、４６：一次出力室。
図、第２図は本発明を利用したポジシヨナの概略
線図、第３図は第１図のＯ状ベーンの平面図、第
４図は第１図のＯ状ベーンの立面図である。 １０：空気式ポジシヨナ、１１：信号カプセル
組立体、１２：リレーハウジング、１３：ロツ
ド、１４：中心支持体、１５：円筒型ハウジン
グ、１６，１７：ダイヤフラム、１８：チヤン
バ、２１：リンク、２２：Ｏ状ストリツプ、２
３，２４：可撓性の膜、２５：垂直接続リンク、
２７：接続リンク、２８：リレー中心構造体、３
０：ノズル、３１：円板、３２：中心ステム、３
３：供給圧力基準室、３４：二次供給室、３５：
一次供給室、３６：リレー排気口、３９：ノズル
背圧管、４２：二次出力室、４３：一次室弁、４
４：二次室弁、４５：ばね、４６：一次出力室。
Claims (1)
- １ 加圧空気源に接続されたノズルと、該ノズル
の出口に隣接して並置された平坦なベーンと、該
ベーンの第１端部に動作上結合されており、ベー
ンを前記出口に関して枢動し、前記出口からの空
気の流出量を可変的に制限してノズルの背圧を変
化させる入力手段と、前記ベーンの第２端部に動
作上結合されており、出力信号を発生するための
手段とを備え、前記ノズルが、前記ベーンの第１
および第２端部間の部分に並置される形式の空気
式ポジシヨナにおいて、前記ベーンが、Ｏ状の凹
部を有するＯ状のトロリツプと、該ストリツプの
前記第１および第２端部間においてＯ状の凹部中
に延びる細長いステムと、該ステムに回転可能に
取りつけられたデイスクとを備え、前記ノズルの
出口がデイスクおよびノズルの全運動範囲に対し
て前記ベーンの第１および第２端部間、すなわち
前記ストリツプの前記第１および第２端部間の前
記Ｏ状の凹部の回りの円弧状の通路に沿つてベー
ンと連続的に整列するように、前記ノズルが前記
デイスクとともに運動するようデイスクに装着さ
れており、そしてさらに、一端にて前記ベーンの
第１端部に、他端にて前記入力手段に結合される
第１の可撓性の膜と、前記ベーンの第２端部と前
記信号発生手段の間に接続される第２の可撓性の
膜とを備え、前記信号発生手段が、円筒状リレー
ハウジングと、該リレーハウジング内に摺動可能
に受容されるリレー中心構造体と、該リレー中心
構造体と可撓性膜との間に機械的に結合されたリ
ンクとを備えることを特徴とする空気式ポジシヨ
ナ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US65517584A | 1984-09-27 | 1984-09-27 | |
| US655175 | 1984-09-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6182004A JPS6182004A (ja) | 1986-04-25 |
| JPH0463241B2 true JPH0463241B2 (ja) | 1992-10-09 |
Family
ID=24627830
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60126410A Granted JPS6180866A (ja) | 1984-09-27 | 1985-06-12 | 不揮発性半導体メモリ・セル |
| JP60211208A Granted JPS6182004A (ja) | 1984-09-27 | 1985-09-26 | 空気式ポジショナ |
Family Applications Before (1)
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|---|---|---|---|
| JP60126410A Granted JPS6180866A (ja) | 1984-09-27 | 1985-06-12 | 不揮発性半導体メモリ・セル |
Country Status (4)
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1985
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1986
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Patent Citations (2)
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