JPH0459766A - 置換2―シアノイミダゾール系化合物の製造方法 - Google Patents
置換2―シアノイミダゾール系化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、農園芸用有害生物防除剤として有用な置換2
−シアノ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾール系
化合物に容易に誘導することができる置換2−シアノイ
ミダゾール系化合物の製造方法、それらの前駆体並びに
それらの前駆体の製造方法に関する。
−シアノ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾール系
化合物に容易に誘導することができる置換2−シアノイ
ミダゾール系化合物の製造方法、それらの前駆体並びに
それらの前駆体の製造方法に関する。
(先行技術及びその問題点)
農園芸用有害生物防除剤として有用な置換2−シアノ−
1−ジメチルスルファモイルイミダゾール系化合物は本
出願人が先に出願した特開平1−131163号公報に
記載されている。また前記イミダゾール系化合物に誘導
できる重要な中間体、すなわち前記置換2−シアノイミ
ダゾール系化合物の一種である2−シアノ−4(5)−
フェニルイミダゾールについて、前記公報に下記の様な
具体的製造例が記載されている。これは、+114(5
)フェニルイミダゾールとジメチルスルファモイルクロ
ライドとを無水炭酸カリウムの存在下にアセトン中で反
応させて、1−ジメチルスルファモイル−4(5)−フ
ェニルイミダゾールを得、(21次にこのイミダゾール
とn−ブチルリチウム及びジメチルホルムアミドとをテ
トラヒドロフラン中で反応させて、1−ジメチルスルフ
ァモイル−2−ホルミル−4(5)−フェニルイミダゾ
ールを得、(3)さらに、このイミダゾールとヒドロキ
シアミン塩酸塩とをピリジン中で反応させ、次いで無水
酢酸を加えて反応させて、2−シアノ−4(5)フェニ
ルイミダゾール系化合物を得る方法である。
1−ジメチルスルファモイルイミダゾール系化合物は本
出願人が先に出願した特開平1−131163号公報に
記載されている。また前記イミダゾール系化合物に誘導
できる重要な中間体、すなわち前記置換2−シアノイミ
ダゾール系化合物の一種である2−シアノ−4(5)−
フェニルイミダゾールについて、前記公報に下記の様な
具体的製造例が記載されている。これは、+114(5
)フェニルイミダゾールとジメチルスルファモイルクロ
ライドとを無水炭酸カリウムの存在下にアセトン中で反
応させて、1−ジメチルスルファモイル−4(5)−フ
ェニルイミダゾールを得、(21次にこのイミダゾール
とn−ブチルリチウム及びジメチルホルムアミドとをテ
トラヒドロフラン中で反応させて、1−ジメチルスルフ
ァモイル−2−ホルミル−4(5)−フェニルイミダゾ
ールを得、(3)さらに、このイミダゾールとヒドロキ
シアミン塩酸塩とをピリジン中で反応させ、次いで無水
酢酸を加えて反応させて、2−シアノ−4(5)フェニ
ルイミダゾール系化合物を得る方法である。
この方法は高価な反応試薬を用い、工程数が長く、極く
低温での反応工程もあり、さらに収率も低いため、工業
的な製造方法が希求されている。
低温での反応工程もあり、さらに収率も低いため、工業
的な製造方法が希求されている。
(その問題点解決の経過)
本発明者等は、入手容易な安価な原料及び反応試薬を用
いて、工程数が短かく、マイルドな反応条件でかつ収率
が高い方法を見出すべく検討を重ね、置換l−ヒドロキ
シ−2−オキシイミノメチルイミダゾール−3−オキシ
ド系化合物を脱水・還元作用を有する化合物例えば三塩
化リンと反応させると容易に置換2−シアノイミダゾー
ル系化合物が得られること並びにこのイミダゾール系化
合物の前駆体である前記3−オキシ)系化合物が置換グ
リオキサール系化合物とグリオキザール及び鉱酸ヒドロ
キシアミンとを反応させると容易に得られることを見出
し、本発明を完成した。
いて、工程数が短かく、マイルドな反応条件でかつ収率
が高い方法を見出すべく検討を重ね、置換l−ヒドロキ
シ−2−オキシイミノメチルイミダゾール−3−オキシ
ド系化合物を脱水・還元作用を有する化合物例えば三塩
化リンと反応させると容易に置換2−シアノイミダゾー
ル系化合物が得られること並びにこのイミダゾール系化
合物の前駆体である前記3−オキシ)系化合物が置換グ
リオキサール系化合物とグリオキザール及び鉱酸ヒドロ
キシアミンとを反応させると容易に得られることを見出
し、本発明を完成した。
(発明の開示)
すなわち、本発明の第一の発明は、
一般式(■):
(式中、R1は置換されてもよいフェニル基であり、R
2は水素原子、塩素原子、置換されてもよいアルキル基
又は置換されてもよいフェニル基である)で表わされる
置t4!!2−シアノイミダゾール系化合物(以下置換
シアノイミダゾールと略す)の製造方法であって、 一般式(■): H (式中、R1は前述の通りであり、R′lは水素原子、
置換されてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェ
ニル基である)で表わされる置換1−ヒドロキシ−2−
オキシイミノメチルイミダゾール−3−オキシド系化合
物(以下置換イミダゾール−3−オキシドと略す)とリ
ン或いは硫黄の塩素化物又はオキシ塩素化物とを反応さ
せる前記置換シアノイミダゾールの製造方法である。
2は水素原子、塩素原子、置換されてもよいアルキル基
又は置換されてもよいフェニル基である)で表わされる
置t4!!2−シアノイミダゾール系化合物(以下置換
シアノイミダゾールと略す)の製造方法であって、 一般式(■): H (式中、R1は前述の通りであり、R′lは水素原子、
置換されてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェ
ニル基である)で表わされる置換1−ヒドロキシ−2−
オキシイミノメチルイミダゾール−3−オキシド系化合
物(以下置換イミダゾール−3−オキシドと略す)とリ
ン或いは硫黄の塩素化物又はオキシ塩素化物とを反応さ
せる前記置換シアノイミダゾールの製造方法である。
前記一般式(1)又はCIり中のR’sR”又はR″に
含まれる置換されてもよいフェニル基の置換基としては
、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基などが挙げ
られ、上記置換基の数は1〜5であり、置換基の数が2
以上の場合同種又は異種のいずれでもよい。また、前記
−i式([)又は(II)中のR2又はR3に含まれる
置換されてもよいアルキル基の置IIA基としてはハロ
ゲン原子が挙げられ、上記置換基の数はl又は2以上で
あり、置換基の数が2以上の場合同種又は異種のいずれ
でもよい。前記一般式(1)又は(1中のR’sR”又
はR″に含まれるハロゲン原子としては塩素原子、臭素
原子、弗素原子、沃素原子が挙げられる。また、前記一
般式(,1)又は(II)中のR1、RZ又はR3に含
まれるアルキル基又はアルキル部分としては炭素数が1
〜12のものであればよく、例えばメチル基、エチル基
、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、5
ec−ブチル基 、イソブチル基、ter t−ブチル
基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基などが挙げられる。
含まれる置換されてもよいフェニル基の置換基としては
、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基などが挙げ
られ、上記置換基の数は1〜5であり、置換基の数が2
以上の場合同種又は異種のいずれでもよい。また、前記
−i式([)又は(II)中のR2又はR3に含まれる
置換されてもよいアルキル基の置IIA基としてはハロ
ゲン原子が挙げられ、上記置換基の数はl又は2以上で
あり、置換基の数が2以上の場合同種又は異種のいずれ
でもよい。前記一般式(1)又は(1中のR’sR”又
はR″に含まれるハロゲン原子としては塩素原子、臭素
原子、弗素原子、沃素原子が挙げられる。また、前記一
般式(,1)又は(II)中のR1、RZ又はR3に含
まれるアルキル基又はアルキル部分としては炭素数が1
〜12のものであればよく、例えばメチル基、エチル基
、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、5
ec−ブチル基 、イソブチル基、ter t−ブチル
基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基などが挙げられる。
この本発明の第一の発明の反応に、前記一般式(■)に
おけるRIIJ<置換されてもよいフェニル基で、かつ
R3が水素原子の化合物を適用すると、前記一般式(1
)におけるR1が置換されてもよいフェニル基で、RZ
が水素原子の化合物を得ることができ、最も好ましい態
様である。
おけるRIIJ<置換されてもよいフェニル基で、かつ
R3が水素原子の化合物を適用すると、前記一般式(1
)におけるR1が置換されてもよいフェニル基で、RZ
が水素原子の化合物を得ることができ、最も好ましい態
様である。
この反応に用いられるリン或いは硫黄の塩素化物又はオ
キシ塩素化物としては、前記一般式(IF)で表わされ
る置換イミダゾール−3−オキシドを脱水・還元する作
用を有するものであればいずれのものでもよく、例えば
三塩化リン、オキシ塩化リン、−塩化硫黄、二塩化硫黄
、塩化チオニル、塩化スルフリル、ジクロロメチルホス
フィン、ジクロロエチルホスフィン、メチルジクロロホ
スファイト、エチルジクロロホスファイト、ジメチルク
ロロホスファイトなどが挙げられ、工業的には三塩化リ
ンが好ましい。このリン或いは硫黄の塩素化物又はオキ
シ塩素化物の使用量は一般式(If)で表わされる置換
イミダゾール−3−オキシド1モル当り通常1〜5モル
、望ましくは1.5〜3モルである。この使用量が上記
範囲より低すぎると充分な脱水・還元反応が進行しない
ので目的が達せられず、また上記範囲より高すぎると分
離困難な副生物が生成して好ましくない。この反応にお
いて、塩基及び溶媒の使用が好ましく、塩基としては、
トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン類、N、N−ジ
メチルアニリン、4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリ
ジンのような第3級アミン類などが挙げられ、この使用
量は一般式(II)で表わされる置換イミダゾール−3
−オキシド1モル当り通常0.5〜4モル、望ましくは
1.0〜2.5モルである。また溶媒としては、非プロ
トン性のものであればいずれのものでもよいが、例えば
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1. 2−
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
、1.4−ジオキサンのようなエーテル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのような
ケトン頬;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾ
ニトリルのようなニトリル頚;酢酸エチル、酢酸メチル
のようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼンのような芳香族炭化水素頽;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、こ
の使用量は一般式(n)で表わされる置換イミダゾール
−3−オキシド1重量部当り3〜30重量部、望ましく
は5〜15重量部である。
キシ塩素化物としては、前記一般式(IF)で表わされ
る置換イミダゾール−3−オキシドを脱水・還元する作
用を有するものであればいずれのものでもよく、例えば
三塩化リン、オキシ塩化リン、−塩化硫黄、二塩化硫黄
、塩化チオニル、塩化スルフリル、ジクロロメチルホス
フィン、ジクロロエチルホスフィン、メチルジクロロホ
スファイト、エチルジクロロホスファイト、ジメチルク
ロロホスファイトなどが挙げられ、工業的には三塩化リ
ンが好ましい。このリン或いは硫黄の塩素化物又はオキ
シ塩素化物の使用量は一般式(If)で表わされる置換
イミダゾール−3−オキシド1モル当り通常1〜5モル
、望ましくは1.5〜3モルである。この使用量が上記
範囲より低すぎると充分な脱水・還元反応が進行しない
ので目的が達せられず、また上記範囲より高すぎると分
離困難な副生物が生成して好ましくない。この反応にお
いて、塩基及び溶媒の使用が好ましく、塩基としては、
トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン類、N、N−ジ
メチルアニリン、4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリ
ジンのような第3級アミン類などが挙げられ、この使用
量は一般式(II)で表わされる置換イミダゾール−3
−オキシド1モル当り通常0.5〜4モル、望ましくは
1.0〜2.5モルである。また溶媒としては、非プロ
トン性のものであればいずれのものでもよいが、例えば
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1. 2−
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
、1.4−ジオキサンのようなエーテル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのような
ケトン頬;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾ
ニトリルのようなニトリル頚;酢酸エチル、酢酸メチル
のようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼンのような芳香族炭化水素頽;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、こ
の使用量は一般式(n)で表わされる置換イミダゾール
−3−オキシド1重量部当り3〜30重量部、望ましく
は5〜15重量部である。
この反応の反応温度は通常O〜100℃、望ましくは1
0〜50℃であり、反応時間は通常0.5〜24時間で
ある。
0〜50℃であり、反応時間は通常0.5〜24時間で
ある。
本発明の第一の発明の反応終了後、通常の分離、精製手
段、例えば反応混合物を水中に投入して必要により溶媒
を留去して結晶を析出させ、必要により再結晶化を行な
うことにより前記一般式(1)で表わされる置換シアノ
イミダゾールを得ることができる。
段、例えば反応混合物を水中に投入して必要により溶媒
を留去して結晶を析出させ、必要により再結晶化を行な
うことにより前記一般式(1)で表わされる置換シアノ
イミダゾールを得ることができる。
なお、この反応において、前記リン或いは硫黄の塩素化
物又はオキシ塩素化物として、オキシ塩化リン、−塩化
硫黄、二塩化硫黄、塩化チオニル又は塩化スルフリルを
用いるとき、反応条件によっては還元反応が不充分とな
る場合がある。この場合は通常の還元反応、例えば亜鉛
末/B塩酸/メタノール系の反応、鉄粉末/濃塩酸/メ
タノール系の反応、などを補足的に行うごとにより、前
記置換シアノイミダゾールを高収率で得ることができる
。
物又はオキシ塩素化物として、オキシ塩化リン、−塩化
硫黄、二塩化硫黄、塩化チオニル又は塩化スルフリルを
用いるとき、反応条件によっては還元反応が不充分とな
る場合がある。この場合は通常の還元反応、例えば亜鉛
末/B塩酸/メタノール系の反応、鉄粉末/濃塩酸/メ
タノール系の反応、などを補足的に行うごとにより、前
記置換シアノイミダゾールを高収率で得ることができる
。
次に本発明の第二の発明は、
一般式(■)′ 二
H
(式中、Rl / は1穎されてもよいフェニル基で
あり、R3/ は水素原子、置換されてもよいアルキ
ル基又は置換されてもよいフェニル基である但しR1が
フェニル基のときR3がメチル基の場合を除く)で表わ
される置換1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチルイ
ミダゾール−3−オキシド系化合物である。
あり、R3/ は水素原子、置換されてもよいアルキ
ル基又は置換されてもよいフェニル基である但しR1が
フェニル基のときR3がメチル基の場合を除く)で表わ
される置換1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチルイ
ミダゾール−3−オキシド系化合物である。
前記一般式(II) 中のR’ 又はR3に含まれ
る置換されて、もよいフェニル基又は置換されてもよい
アルキル基の置換基は前記−・殺伐(n)の場合と同様
であり、また前記一般式(■ビ 中のR′′又はR3/
に含まれるハロゲン原子、アルキル基又はアルキル部
分も前記一般式(n)の場合と同様である。前記一般式
(■)/ に含まれる化合物の中で、R1が置換されて
もよいフェニル基で、かつR3/ が水素原子の化合
物、すなわち、後記化合物階1及び4が最も好ましい。
る置換されて、もよいフェニル基又は置換されてもよい
アルキル基の置換基は前記−・殺伐(n)の場合と同様
であり、また前記一般式(■ビ 中のR′′又はR3/
に含まれるハロゲン原子、アルキル基又はアルキル部
分も前記一般式(n)の場合と同様である。前記一般式
(■)/ に含まれる化合物の中で、R1が置換されて
もよいフェニル基で、かつR3/ が水素原子の化合
物、すなわち、後記化合物階1及び4が最も好ましい。
前記一般式(■ビ で表わされる化合物は後記反応によ
って容易に得ることができる。
って容易に得ることができる。
本発明の第二の発明の代表的化合物を下記第1表に示す
。
。
第 1 表
さらに本発明の第三の発明は、
一般式(■):
H
(式中、R1は1噂されてもよいフェニル基であり、R
3は水素原子、置換されてもよいアルキル基又は置換さ
れてもよいフェニル基である)で表わされる置換イミダ
ゾール−3−オキシドの製造方法であって、 一般式(■): (式中、R1及びR3は前述の通りであり、X及びYは
それぞれ酸素原子又はヒドロキシイミノ基である)で表
わされる置換グリオキサール系化合物とグリオキサール
及び鉱酸ヒドロキシルアミンとを反応させることを特徴
とする前記置換イミダゾール−3−オキシドの製造方法
である。
3は水素原子、置換されてもよいアルキル基又は置換さ
れてもよいフェニル基である)で表わされる置換イミダ
ゾール−3−オキシドの製造方法であって、 一般式(■): (式中、R1及びR3は前述の通りであり、X及びYは
それぞれ酸素原子又はヒドロキシイミノ基である)で表
わされる置換グリオキサール系化合物とグリオキサール
及び鉱酸ヒドロキシルアミンとを反応させることを特徴
とする前記置換イミダゾール−3−オキシドの製造方法
である。
前記一般式(II)又は(III)中のR1又はR3の
各種定義は前述の通りである。また前記置換グリオキサ
ール系化合物としては、置換グリオキサール、置換グリ
オキサールモノオキシム又は置換グリオキサールジオキ
シムが挙げられる。この反応に用いられるグリオキサー
ルは通常水溶液として用いられ、この使用量は一般式(
III)で表わされる前記置換グリオキサール系化合物
1モル当り通常0.5〜2モル、望ましくは0.8〜1
.5モルである。また鉱酸ヒドロキシルアミンとしては
、塩酸ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミンな
どが挙げられる。この使用量は一般式(I[I)で表わ
される前記置換グリオキサール系化合物1モル当り通常
0.5〜6モル、望ましくは1〜4モルである。この反
応において、鉱酸ヒドロキシルアミンとして硫酸ヒドロ
キシルアミンを用いる場合、塩酸の使用が好ましく、そ
の使用■は一般式(I[I)で表わされる前記置換グリ
オキサール系化合物1モル当り通常0.5〜5モルであ
る。この反応において溶媒を用いるのが好ましく、溶媒
としては親水性の極性溶媒、例えば水;メタノール、エ
タノールのようなアルコール[;1.4−ジオキサン、
テトラヒドロフランのようなエーテル類;ギ酸、酢酸な
どのカルボン酸類などが挙げられ、工業的には水が好ま
しい。この使用量は一般式(In)で表わされる前記置
換グリオキサール系化合物1重量部当り通常2〜20重
量部、望ましくは3〜10重量部である。この反応の反
応温度は通常40〜120℃、望ましくは50〜90℃
であり、反応時間は通常1〜10時間である。
各種定義は前述の通りである。また前記置換グリオキサ
ール系化合物としては、置換グリオキサール、置換グリ
オキサールモノオキシム又は置換グリオキサールジオキ
シムが挙げられる。この反応に用いられるグリオキサー
ルは通常水溶液として用いられ、この使用量は一般式(
III)で表わされる前記置換グリオキサール系化合物
1モル当り通常0.5〜2モル、望ましくは0.8〜1
.5モルである。また鉱酸ヒドロキシルアミンとしては
、塩酸ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミンな
どが挙げられる。この使用量は一般式(I[I)で表わ
される前記置換グリオキサール系化合物1モル当り通常
0.5〜6モル、望ましくは1〜4モルである。この反
応において、鉱酸ヒドロキシルアミンとして硫酸ヒドロ
キシルアミンを用いる場合、塩酸の使用が好ましく、そ
の使用■は一般式(I[I)で表わされる前記置換グリ
オキサール系化合物1モル当り通常0.5〜5モルであ
る。この反応において溶媒を用いるのが好ましく、溶媒
としては親水性の極性溶媒、例えば水;メタノール、エ
タノールのようなアルコール[;1.4−ジオキサン、
テトラヒドロフランのようなエーテル類;ギ酸、酢酸な
どのカルボン酸類などが挙げられ、工業的には水が好ま
しい。この使用量は一般式(In)で表わされる前記置
換グリオキサール系化合物1重量部当り通常2〜20重
量部、望ましくは3〜10重量部である。この反応の反
応温度は通常40〜120℃、望ましくは50〜90℃
であり、反応時間は通常1〜10時間である。
本発明の第三の発明の反応終了後、通常の分離・精製手
段、例えば本発明の第一の発明の場合と同様の方法によ
り、前記一般式(■)で表わされる置換もミダゾール−
3−オキシドを得ることができる。
段、例えば本発明の第一の発明の場合と同様の方法によ
り、前記一般式(■)で表わされる置換もミダゾール−
3−オキシドを得ることができる。
本発明で得られる前記一般式(1)で表わされる置換シ
アノイミダゾールは、特開平1−131163号公報に
記載の方法に従って、農園芸用有害生物防除剤として有
用な2−シアノ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾ
ール系化合物に誘導することができる。
アノイミダゾールは、特開平1−131163号公報に
記載の方法に従って、農園芸用有害生物防除剤として有
用な2−シアノ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾ
ール系化合物に誘導することができる。
次に本願発明の具体的態様である実施例を記載する。
実施例1
温度計、冷却器、撹拌機及び滴下ロートを備えた四つ目
フラスコに、l−ヒドロキシ−4−フェニル−2−オキ
シイミノメチル−イミダゾール3−オキシド5.0g、
トリエチルアミン2.8g及びアセトニトリル50m1
を仕込み、撹拌下に20℃以下の温度で三塩化リン6.
3gを滴下した。
フラスコに、l−ヒドロキシ−4−フェニル−2−オキ
シイミノメチル−イミダゾール3−オキシド5.0g、
トリエチルアミン2.8g及びアセトニトリル50m1
を仕込み、撹拌下に20℃以下の温度で三塩化リン6.
3gを滴下した。
滴下終了後、室温で約16時間撹拌下に反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を水500ml中へ投
入し、撹拌して析出した結晶を濾取し、この結晶を乾燥
して、2−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール3
.6gを得た。
入し、撹拌して析出した結晶を濾取し、この結晶を乾燥
して、2−シアノ−4(5)−フェニルイミダゾール3
.6gを得た。
実施例2
温度計、冷却器、撹拌機及び滴下ロートを備えた四つロ
フラスコに、1−ヒドロキシ−4−フェニル−2−オキ
シイミノメチル−イミダゾール−3−オキシド5.0g
及び酢酸エチル25a+1を仕込み、撹拌下に塩化チオ
ニル7.0gを滴下した。
フラスコに、1−ヒドロキシ−4−フェニル−2−オキ
シイミノメチル−イミダゾール−3−オキシド5.0g
及び酢酸エチル25a+1を仕込み、撹拌下に塩化チオ
ニル7.0gを滴下した。
滴下終了後、還流下に2時間反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物に水50mj!を投入
して水洗を行った後、溶媒を留去し、(A)2−シアノ
−1−ヒドロキシ−4(5)−フェニルビミダゾール−
3−オキシド、(B)2−シアノ−1−ヒドロキシ−5
−フェニルイミダゾール、(C)4−クロロ−2−シア
ノ−1−ヒドロキシ−5−フェニルイミダゾールおよび
(D)4 (5)クロロ−2−シアノ−5(4)−フェ
ニルイミダゾールの混合物(それぞれの重量比率、A:
B:C:D=5:22:17:35)5.57gを得た
。
して水洗を行った後、溶媒を留去し、(A)2−シアノ
−1−ヒドロキシ−4(5)−フェニルビミダゾール−
3−オキシド、(B)2−シアノ−1−ヒドロキシ−5
−フェニルイミダゾール、(C)4−クロロ−2−シア
ノ−1−ヒドロキシ−5−フェニルイミダゾールおよび
(D)4 (5)クロロ−2−シアノ−5(4)−フェ
ニルイミダゾールの混合物(それぞれの重量比率、A:
B:C:D=5:22:17:35)5.57gを得た
。
上記反応で得られた混合物をメタノール301111に
溶解させ、濃塩酸5lI11を加えた後、亜鉛末3gを
少量ずつ加え還元反応を行った。
溶解させ、濃塩酸5lI11を加えた後、亜鉛末3gを
少量ずつ加え還元反応を行った。
反応終了後、得られた反応混合物を水中投入し、さらに
濃塩酸10mj!を加え析出した結晶を濾取し、2−シ
アノ−4(5)−フェニルイミダゾール及び4(5)−
クロロ−2−シアノ−5(4)−フェニルイミダゾール
の混合物を得、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
展開液:塩化メチレン)で精製して、4 (5)−クロ
ロ−2−シアノ−5(4)−フェニルイミダゾール1.
86 gを得た。
濃塩酸10mj!を加え析出した結晶を濾取し、2−シ
アノ−4(5)−フェニルイミダゾール及び4(5)−
クロロ−2−シアノ−5(4)−フェニルイミダゾール
の混合物を得、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
展開液:塩化メチレン)で精製して、4 (5)−クロ
ロ−2−シアノ−5(4)−フェニルイミダゾール1.
86 gを得た。
なお、本実施例2と同様の方法で、前記(A)〜(C)
を合成した。これらの化合物は新規化合物であり、さら
にそれぞれを通常の方法により精製して物性(融点)の
測定を行なったので下記する。
を合成した。これらの化合物は新規化合物であり、さら
にそれぞれを通常の方法により精製して物性(融点)の
測定を行なったので下記する。
化合物A;2−シアノーニーヒドロキシ−4(5)−フ
ェニルイミダゾール−3−オキシ ド 融点189〜190℃(分解) 化合ThB;2−シアノー1−ヒドロキシ−5−フェニ
ルイミダゾール 融点227〜229℃ 化合物C:4−クロロ−2−シアノ−1−ヒドロキシ−
5−フェニルイミダゾール 融点194〜195℃ 実施例3 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた四つロフラスコに、
4.5−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−オキシイミ
ノメチル−イミダゾール−3−オキシド0,5g及びジ
オキサン10II11を仕込み、撹拌下に三塩化リン0
.5 gを加え、約60℃で3時間反応させた。
ェニルイミダゾール−3−オキシ ド 融点189〜190℃(分解) 化合ThB;2−シアノー1−ヒドロキシ−5−フェニ
ルイミダゾール 融点227〜229℃ 化合物C:4−クロロ−2−シアノ−1−ヒドロキシ−
5−フェニルイミダゾール 融点194〜195℃ 実施例3 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた四つロフラスコに、
4.5−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−オキシイミ
ノメチル−イミダゾール−3−オキシド0,5g及びジ
オキサン10II11を仕込み、撹拌下に三塩化リン0
.5 gを加え、約60℃で3時間反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を水中に投入し析出し
た結晶を濾取し、この結晶を塩化メチレン−n−へキサ
ンで再結晶化しで、2−シアノ−4,5−ジフェニルイ
ミダゾール(融点;210〜212℃)0.3gを得た
。
た結晶を濾取し、この結晶を塩化メチレン−n−へキサ
ンで再結晶化しで、2−シアノ−4,5−ジフェニルイ
ミダゾール(融点;210〜212℃)0.3gを得た
。
実施例4
温度計、冷却器及び撹拌機を備えた四つロフラスコに、
4(5)−エチル−1−ヒドロキシ−5(4)−フェニ
ル−2−オキシイミノメチル−イミダゾール−3−オキ
シドIg及びジオキサンlO■lを仕込み、撹拌下に三
塩化リン1.2gを加え、約60℃で3時間反応させた
。
4(5)−エチル−1−ヒドロキシ−5(4)−フェニ
ル−2−オキシイミノメチル−イミダゾール−3−オキ
シドIg及びジオキサンlO■lを仕込み、撹拌下に三
塩化リン1.2gを加え、約60℃で3時間反応させた
。
反応終了後、得られた反応混合物を水中投入し析出した
結晶を濾取し、シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶
媒:塩化メチレン)で精製して2−シアノ−4(5)−
エチル−5(4)−フェニルイミダゾール(融点186
〜189℃)0.4gを得た。
結晶を濾取し、シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶
媒:塩化メチレン)で精製して2−シアノ−4(5)−
エチル−5(4)−フェニルイミダゾール(融点186
〜189℃)0.4gを得た。
実施例5
温度計、冷却器、撹拌機及び滴下ロートを備えた四つロ
フラスコに、4− (4−クロロフェニル)−1−ヒド
ロキシ−2−オキシイミノメチル−イミダゾール−3−
オキシド1.1g、アセトニトリル15IIIl及びト
リエチルアミン0.87gを仕込み、20℃以下に保ち
なから三塩化リン1.49 gを滴下した、滴下終了後
室温で約1時間撹拌下に反応させた。
フラスコに、4− (4−クロロフェニル)−1−ヒド
ロキシ−2−オキシイミノメチル−イミダゾール−3−
オキシド1.1g、アセトニトリル15IIIl及びト
リエチルアミン0.87gを仕込み、20℃以下に保ち
なから三塩化リン1.49 gを滴下した、滴下終了後
室温で約1時間撹拌下に反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を水中に投入し、析出
した結晶を濾取した。得られた結晶をさらにメタノール
により再結晶を行ない4 (5) −(4−クロロフェ
ニル)−2−シアノイミダゾール(融点220〜223
℃)0.48gを得た。
した結晶を濾取した。得られた結晶をさらにメタノール
により再結晶を行ない4 (5) −(4−クロロフェ
ニル)−2−シアノイミダゾール(融点220〜223
℃)0.48gを得た。
実施例6
温度針、冷却器及び撹拌機を備えた四つロフラスコに、
イソニトロソアセトフェノン7.45g。
イソニトロソアセトフェノン7.45g。
硫酸ヒドロキシルアミン12.3 g、40%−グリオ
キサール水溶液7.98g、水35m1及び濃塩酸5−
lを仕込み、撹拌下に80〜90℃で3.5時間反応さ
せた。
キサール水溶液7.98g、水35m1及び濃塩酸5−
lを仕込み、撹拌下に80〜90℃で3.5時間反応さ
せた。
反応終了後、得られた反応混合物を60〜70℃に冷却
した後、析出している結晶を濾取し、水洗及び少量のメ
タノール洗浄を行った後、乾燥させて融点218〜22
1℃(分解)の1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチ
ル−4(5)−フェニルイミダゾール−3−オキシド(
前記化合物陰1)8.1gを得た。
した後、析出している結晶を濾取し、水洗及び少量のメ
タノール洗浄を行った後、乾燥させて融点218〜22
1℃(分解)の1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチ
ル−4(5)−フェニルイミダゾール−3−オキシド(
前記化合物陰1)8.1gを得た。
実施例7
硫酸ヒドロキシルアミン12.3 gのかわりに、塩酸
ヒドロキシルアミン10.43 gを用い濃塩酸は添加
せずに前記実施例6の場合と同様に反応させて1−ヒド
ロキシ−2−オキシイミノメチル−4(5)−フェニル
イミダゾール−3−オキシド8、72 gを得た。
ヒドロキシルアミン10.43 gを用い濃塩酸は添加
せずに前記実施例6の場合と同様に反応させて1−ヒド
ロキシ−2−オキシイミノメチル−4(5)−フェニル
イミダゾール−3−オキシド8、72 gを得た。
実施例8
温度針、冷却器及び撹拌機を備えた四つロフラスコに、
ジフェニルグリオキサール5.0g、40%グリオキサ
ール水溶液5.2g、塩酸ヒドロキシルアミン6.6g
及びメタノール20IIlを仕込み、還流下に4時間反
応させた。
ジフェニルグリオキサール5.0g、40%グリオキサ
ール水溶液5.2g、塩酸ヒドロキシルアミン6.6g
及びメタノール20IIlを仕込み、還流下に4時間反
応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を水300■lに投入
し撹拌下に析出した結晶を濾取し、ジメチルスルホキシ
ド−メタノールで再結晶化して融点203℃(分解)の
4,5−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−オキシイミ
ノメチル−イミダゾール−3−オキシド(前記化合物1
に2)2.9gを得た。
し撹拌下に析出した結晶を濾取し、ジメチルスルホキシ
ド−メタノールで再結晶化して融点203℃(分解)の
4,5−ジフェニル−1−ヒドロキシ−2−オキシイミ
ノメチル−イミダゾール−3−オキシド(前記化合物1
に2)2.9gを得た。
実施例9
温度計、冷却器及び撹拌機を備えた四つロフラスコに、
α−イソニトロソブチロフェノン3.0g。
α−イソニトロソブチロフェノン3.0g。
40%グリオキサール水溶液3.2g、塩酸ヒドロキシ
ルアミン3.8g及びメタノール101Illを仕込み
、還流下に4時間反応させた。
ルアミン3.8g及びメタノール101Illを仕込み
、還流下に4時間反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を水中に投入し析出し
た結晶を濾取し、乾燥して融点180〜181℃(分解
)の4(5)−エチル−1−ヒドロキシ−2−オキシイ
ミノメチル−5(4)フェニルイミダゾール−3−オキ
シド(前記化合物ぬ3)2.97gを得た。
た結晶を濾取し、乾燥して融点180〜181℃(分解
)の4(5)−エチル−1−ヒドロキシ−2−オキシイ
ミノメチル−5(4)フェニルイミダゾール−3−オキ
シド(前記化合物ぬ3)2.97gを得た。
実施例10
α−イソニトロソブチロフェノン3.0gの代すに、4
−クロロ−α−イソニトロソアセトフェノン2gを用い
、前記実施例9の場合と同様に反応させて融点208〜
210℃(分解)の4(5)−(4−クロロフェニル)
−1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチルイミダゾー
ル−3−オキシド(前記化合物11h4)1.9gを得
た。
−クロロ−α−イソニトロソアセトフェノン2gを用い
、前記実施例9の場合と同様に反応させて融点208〜
210℃(分解)の4(5)−(4−クロロフェニル)
−1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチルイミダゾー
ル−3−オキシド(前記化合物11h4)1.9gを得
た。
(発明の効果)
本発明は、置換シアノイミダゾールの新規な製造方法、
それらの新規な前駆体並びにそれらの前駆体の新規な製
造方法に関し、この置換シアノイミダゾールは置換2−
シアノ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾール系化
合物に容易に誘導することができ、この誘導されたイミ
ダゾール系化合物は特開平1−131163号公報にも
記載されているように農園芸用有害生物防除剤として有
用である。
それらの新規な前駆体並びにそれらの前駆体の新規な製
造方法に関し、この置換シアノイミダゾールは置換2−
シアノ−1−ジメチルスルファモイルイミダゾール系化
合物に容易に誘導することができ、この誘導されたイミ
ダゾール系化合物は特開平1−131163号公報にも
記載されているように農園芸用有害生物防除剤として有
用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は置換されてもよいフェニル基であり、
R^2は水素原子、塩素原子、置換されてもよいアルキ
ル基又は置換されてもよいフェニル基である)で表わさ
れる置換2−シアノイミダゾール系化合物の製造方法で
あって、 一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は前述の通りであり、R^3は水素原子
、置換されてもよいアルキル基又は置換されてもよいフ
ェニル基である)で表わされる置換1−ヒドロキシ−2
−オキシイミノメチルイミダゾール−3−オキシド系化
合物とリン或いは硫黄の塩素化物又はオキシ塩素化物と
を反応させることを特徴とする前記置換2−シアノイミ
ダゾール系化合物の製造方法。 2、一般式(II)′ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1′は置換されてもよいフェニル基であり
、R^3′は水素原子、置換されてもよいアルキル基又
は置換されてもよいフェニル基である但しR^1′がフ
ェニル基のときR^3′がメチル基の場合を除く)で表
わされる置換1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチル
イミダゾール−3−オキシド系化合物。 3、一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は置換されてもよいフェニル基であり、
R^3は水素原子、置換されてもよいアルキル基又は置
換されてもよいフェニル基である)で表わされる置換1
−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチルイミダゾール−
3−オキシド系化合物の製造方法であって、一般式(I
II): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^3は前述の通りであり、X及び
Yはそれぞれ酸素原子又はヒドロキシイミノ基である)
で表わされる置換グリオキサール系化合物とグリオキサ
ール及び鉱酸ヒドロキシルアミンとを反応させることを
特徴とする前記置換1−ヒドロキシ−2−オキシイミノ
メチルイミダゾール−3−オキシド系化合物の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2171135A JP2879164B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 置換2―シアノイミダゾール系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2171135A JP2879164B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 置換2―シアノイミダゾール系化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0459766A true JPH0459766A (ja) | 1992-02-26 |
JP2879164B2 JP2879164B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=15917636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2171135A Expired - Lifetime JP2879164B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 置換2―シアノイミダゾール系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2879164B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0705823A1 (en) | 1994-09-08 | 1996-04-10 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. | Process for producing 1-substituted-2-cyanoimidazole compounds |
JP2020508324A (ja) * | 2017-02-23 | 2020-03-19 | アダマ・マクテシム・リミテッド | 2−シアノイミダゾール化合物の調製方法 |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP2171135A patent/JP2879164B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0705823A1 (en) | 1994-09-08 | 1996-04-10 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. | Process for producing 1-substituted-2-cyanoimidazole compounds |
US5869683A (en) * | 1994-09-08 | 1999-02-09 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Processes for producing 1-substituted-2-cyanoimidazole compounds |
JP2020508324A (ja) * | 2017-02-23 | 2020-03-19 | アダマ・マクテシム・リミテッド | 2−シアノイミダゾール化合物の調製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2879164B2 (ja) | 1999-04-05 |
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