JPH0458234A - 焦点板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカメラ等に使用される焦点板に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

従来−眼レフカメラ等の焦点板の製造方法として、まず
表面に微細凹凸を持つ焦点板用母型を製造し、これから
金型をとってプラスチック材料の表面に微細凹凸を転写
するといった方法が知られている。

この焦点板用母型の製造方法としては、従来、ガラス等
の母材の表面に砂掛けをほどこすことにより微細凹凸を
形成させるといった方法がとられていた。このような方
法では製造された焦点板用母型から作られる焦点板は、
ボケ味が自然である点に関しては評価が高い反面、暗く
ザラツキが目立つといった欠点があった。その原因はこ
のような製法による焦点板の表面の微細凹凸は第７図に
示すように非常にランダム性が高いことにある。

この欠点をなくす為に、焦点板表面の微細凹凸を第８図
に示すような規則的微細凹凸にすることが考え出され、
種々の製造方法が提案されているが、その中の一つとし
て規則的微細パターンを有するマスク原板を用い、これ
を基板に塗布された感光材料の表面に近接させて露光し
、その感光材料表面に露光量に応じた微細凹凸を形成さ
せる焦点板用母型の製造方法がある。

この方法は、半導体等の製造に用いられるいわゆるプロ
キシミティ露光法を焦点板用母型製造にそのまま用いた
もので、第５図に示すような規則的微細パターンのマス
ク原板と表面に感光材料を塗布した基板とを第４図に示
すように距離Δｄ離して露光する（Δｄをプロキシミテ
ィと言う）。

感光材料表面にマスク原板の規則的微細パターンとプロ
キシミティ（Δｄ）に応じた照度分布ができ、露光後現
像処理をすれば、照度分布に応じた微細凹凸が感光材料
表面に形成され、これが焦点板用母型となる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の如き従来の技術において、規則的微細パターンを
有するマスク原板を用いたプロキシミティ露光法による
焦点板用母型から作られる焦点板は、ザラツキ感がなく
明るいといった長所がある反面、多線ボケを生しる等ボ
ケ味が不自然であり、また、挟角拡散光（素通し光に近
い拡散光）が多くなりピント合わせがしずら（なるとい
った問題点があった。ボケ味が不自然となるのは、規則
的微細パターンを有するマスク原板を用いているので、
焦点板表面の微細凹凸も規則的構造となって回折格子と
同等の作用を持つことになり、拡散光が回折の次数に対
応した特定方向に限定されてしまう為である。次に挟角
拡散光が多（なってしまう原因であるが、これはプロキ
シミティ露光法そのものに起因するものである。という
のはΔｄ＝０すなわち密着露光の場合、感光材料表面に
第１０図（ａ）に示すような微細凹凸が形成されるとす
ると、Δｄを大きくしていくと回折効果のため第１Ｏ図
（ｂ）、さらに大きくしていくと第１Ｏ図（Ｃ）、さら
にさらに大きくしていくと第１０図（ｄ）に示すような
微細凹凸となる。＠細凹凸と拡散特性との関係は微妙で
あるが、一般に微細凹凸に平坦部が多いとき、また微細
凹凸の山谷の差が少ないときには挟角拡散光が多くなる
。しかるに、第１０図を見ると、Δｄが小さいときには
山谷の差は大きいが平坦部が多（、Δｄを大きくすると
逆に平坦部はなくなるが山谷の差もなくなってしまう０
以上のことから明かなように、プロキシミティ露光法は
挟角拡散光が多くなるという問題点をもっている。

焦点板の表面の微細凹凸のランダム性が強いと、ボケ味
は自然であるが暗くザラツキが目立ち、逆にランダム性
がなく規則的であると、明るくザラツキ感はないがボケ
味が不自然なものになってしまうことは上述した通りで
あるが、特開昭６３−２２１３２９には適度なランダム
性を持たせる方法が提案されている。この方法はプロキ
シミテイ露光法において、微細パターンの規則的配置に
適度なランダム性を持たせたマスク原板を使用するとい
うものである。このような製法による焦点板は、十分な
明るさを待ち、ザラツキ感もあまり目立たず、ボケ味も
それほど不自然ではないといった長所がある反面、配置
のランダム性ゆえその表面の微細凹凸は第９図に示すよ
うに粗密部分ができ結果として挟角拡散光が多くなって
しまうという問題点があった。またランダム微細パター
ンを有するマスク原板は製造コストが高いといった問題
点もあった。

本発明の目的は、上述したランダム微細パターンを有す
るマスク原板を使用する方法とは異なる方法で適度なラ
ンダム性を導入し、同時に、プロキシミティ露光法その
ものの欠点である挟角拡散光が多くなるという問題点を
解決することにより、十分な明るさを持ち、ザラツキ感
もあまり目立たず、ボケ味もそれほど不自然ではなく、
優れた拡散特性をもつ焦点板の製造方法を提供すること
にある。

〔課題を解決する為の手段〕

上記問題点の解決のために本発明では、微細凹凸を設け
た基板２０面に、前記微細凹凸が残存するように感光材
料２１を塗布し、該感光材料２１に微細パターンを露光
した後に現像処理によって得られる複合微細凹凸を有す
る焦点板用母型を用いて、前記複合微細凹凸を電鋳によ
って金属に移しとり、該金属の複合微細凹凸を光学素材
に転写して焦点板を製造することを課題解決の手段とす
るものである。

（作用〕 本発明においては、露光後形成される感光材料表面の微
細凹凸の形状は、従来の平面基板を用いたときに形成さ
れる感光材料表面の微細凹凸とあらかじめ設けられた基
板の微細凹凸とが重なり合った形状となる。このように
重ね合わせることで、使用したマスク原板が規則的微細
パターンを持つものであっても、感光材料表面に形成さ
れる微細凹凸はランダム性を持つものとなる。またこの
ような微細凹凸を持つ焦点板による光の拡散は、従来の
平面基板を使用したときの微細凹凸を持つ焦点板による
光の拡散よりも、あらかじめ設けられた基板の微細凹凸
による影響で、相対的に広角拡散光が増し、挟角拡散光
が減ることになるので、従来の如き不都合は解消する。

〔実施例〕

次に本発明の内容を第１図〜第６図に示す実施例によっ
て順次説明する。

第１図は本発明の実施例に使用する基板２０の概略縦断
面図であり、ガラス素材を使用し、感光材料を塗布する
以前の基板面に平均粒子ピッチが５〜１００μｍの砂か
けを実施した後に化学腐食によって平均の山谷差を５μ
ｍ以下に抑えて微細凹凸を形成した。

第２図は基板２０に感光材料２１を塗布した状態を示す
概略縦断面図であり、第２図（Ａ）は本実施例の微細凹
凸を有する基板の使用状態を示し、第２図（Ｂ）は比較
のために従来の平面基板を使用した状態を示している。

実施例においては感光材料２１にポジ型レジストを用い
て、基板表面にスピンコードを行なった。

その結果、塗布された感光材料２１の表面には第２図（
Ａ）に示す如く、すでに基板上に形成された微細凹凸に
影響を受けた新たな微細凹凸が形成される。

尚、実施例では感光材料２１にポジ型レジストを用いて
基板上にスピンコードで処理したがこれにこだわるもの
ではなく、感光材料として、例えばネガ型レジスト、ゼ
ラチン乾板等を用いてもよ（、これらを使用してスプレ
ーコートで処理してもよい。

第４図は感光材料を塗布した基板に微細パターンを露光
する段階を説明する図である。

第４図において、基板２０に塗布された感光材料２１は
微細パターン２３を有するマスク原板２２を介して露光
光２４によって露光される。また、露光に際し、マスク
原板２２と感光材料２１を塗布した基板２０との間隔Δ
ｄは１０〜１００μｍに設定した。

第５図は実施例で用いてマスク原板を示し、ガラス基板
上にクロムでピッチ１５〜３０μｍの規則的周期点を中
心とする半径５〜１５μｍの円型パターン２３を印刷し
たものであり、本実施例の露光にはこれを使用した。

前記露光後に現像処理をすることによって感光材料２１
表面には、あらかじめ基板に設けた微細凹凸とマスク原
板による露光によって得られる微細凹凸による複合され
た微細凹凸が形成される。

第３図は現像処理を実施した後の基板２０に塗布された
感光材料２１の状態を示す概略縦断面図であり、第３図
（Ａ）は実施例、第３図（Ｂ）は比較のために従来例を
示している。従来例と実施例とを比較して明らかなよう
に、従来例は感光材料２１の表面に規則的な微細凹凸が
形成されているが本実施例は基板２０にあらかじめ形成
された微細凹凸による感光材料２１での残存凹凸上に新
らたに微細凹凸が形成されて、複合微細凹凸が形成され
ている０以上のようにして焦点板用の母型を製作した。

実施例で明らかのように、規則的微細パターンを備えた
マスク原板２２を使用しても不規則（ランダム性のある
）微細凹凸を製作することが出来る。

このようにして製作した母型の複合微細凹凸を電鋳によ
って金属に移しとり、更に光学素材に転写して焦点板が
製造出来る。

またこうして製造した焦点板用母型より作成される焦点
板の拡散特性は、平面基板を用いた第３図（ｂ）を母型
とした場合は第６図（ｂ）のようになるのに対して、本
発明である基板を用いた第３図（ａ）を母型とした場合
には第６図（ａ）のような拡散特性曲線となる。拡散特
性曲線とは、横軸に示した角度より小さい角度範囲に拡
散される光量の、拡散光全体に対する割合（縦軸）をグ
ラフにしたものであるから、第６図を比較すれば明かな
ように、本発明の第６図（ａ）の方が相対的に広角拡散
光が多く、挟角拡散光が少なくなってより好ましい拡散
特性になっていることがわかる。

上記実施例で得られる焦点板のランダム性及び拡散特性
は、マスク原板の微細パターン形状と基板の微細凹凸形
状との異なる組合せにより、所望の特性に変化させるこ
とができる。またマスク原板の微細パターン形状と基板
の微細凹凸形状の同一の組合せにおいても、基板に塗布
する感光材料の膜厚、露光量あるいはプロキシミティ（
Δｄ）を変えることにより、ランダム性及び拡散特性の
異なったものが得られる。このように本発明によれば、
様々なランダム性及び拡散特性を持つ焦点板を製作する
ことが出来、その中から、所望のランダム性及び拡散特
性を有する焦点板を選択すれば良い。

〔発明の効果〕

上記のように本発明によればあらかじめ基板に微細凹凸
を設けて、感光材料を塗布し、その感光材料に微細パタ
ーンを露光して現像処理をするようにしたので複合微細
凹凸が得られるので容易に所望のランダム性を導入出来
る効果があるばかりでなく、相対的に挟角拡散光をおさ
え、広角拡散光を増やすことが出来る効果もある。

よって十分な明るさを持ち、ザラツキ感もあまり目立た
ず、ボケ味も不自然でなく、優れた拡散性をもつ焦点板
が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図は本発明の詳細な説明するための図面で
、このうち第２図、第３図及び第６図は本発明の場合を
（ａ）とし従来のプロキシミティ露光法の場合を（ｂ）
としたものであり、第１図は微細凹凸を有する基板の断
面図、第２図は感光材料を塗布した基板の断面図、第３
図は感光材料表面に形成された微細凹凸の断面図、 第４図はマスク露光法の説明図、 第５図はマスク原板の説明図、 第６図は拡散特性曲線、 である。 第７図〜第１０図は従来技術による焦点板を説明するた
めの図面で、 第７図は非常にランダム性のある微細凹凸を有する焦点
板の断面図、 第８図は規則的な微細凹凸を有する焦点板の断面図、 第９図は適度なランダム性のある微細凹凸を有する焦点
板の断面図、 第１０図は従来のマスク露光法により形成される微細凹
凸の形状を説明するための説明図であり、プロキシミテ
ィ（Δｄ）の小→大に順に（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（ｄ）と
変化する様子を説明する焦点板の概略縦断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２０・−・・−・基板、　　　２１・・・・・・感光材
料、２２・・・・・・マスク原板、２３・・・・・・微
細パターン。 第１図 第２＠ 第３ｍ 第 図 第 図 第 図 第 図 第 ０　Ｍ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 微細凹凸を設けた基板面に、前記微細凹凸が残存するよ
   うに感光材料を塗付し、該感光材料に微細パターンを露
   光した後に現像処理によって得られる複合微細凹凸を有
   する焦点板用母型を用いて、前記複合微細凹凸を電鋳に
   よって金属に移しとり、該金属の複合微細凹凸を光学素
   材に転写する焦点板の製造方法。