JPH0458203A - 光導波路部品 - Google Patents
光導波路部品Info
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- JPH0458203A JPH0458203A JP16828990A JP16828990A JPH0458203A JP H0458203 A JPH0458203 A JP H0458203A JP 16828990 A JP16828990 A JP 16828990A JP 16828990 A JP16828990 A JP 16828990A JP H0458203 A JPH0458203 A JP H0458203A
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- light
- optical waveguide
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Links
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光導波路部品に関し、更に詳しくは、光導波路
からの漏れ光による悪影響を解消した光導波路部品に関
する。
からの漏れ光による悪影響を解消した光導波路部品に関
する。
(従来の技術)
光導波路部品には、例えば、第6図の平面図で示したよ
うに、互いに並行する光導波路A、 Bが、それぞれ、
所定の曲率で湾曲して形成された部品がある。
うに、互いに並行する光導波路A、 Bが、それぞれ、
所定の曲率で湾曲して形成された部品がある。
(発明が解決しようとする課題)
第6図に示した部品において、例えば光導波路Aの一端
に光pを入射すると、この光91図の点線で囲った部分
である湾曲部CAを伝搬して光導波路Aの他端から出射
していく。このとき、湾曲部CAにおいて、光の一部は
、例えば、l) I+ p!+p3で示したように、湾
曲部CAの外方に漏れ出てい(。
に光pを入射すると、この光91図の点線で囲った部分
である湾曲部CAを伝搬して光導波路Aの他端から出射
していく。このとき、湾曲部CAにおいて、光の一部は
、例えば、l) I+ p!+p3で示したように、湾
曲部CAの外方に漏れ出てい(。
また、光導波路Bに入射した光は、同じく光導波路Bの
湾曲部で、その一部がI) l+ 1)’t+ p
’sで示したように、外方に漏れ出ていく。
湾曲部で、その一部がI) l+ 1)’t+ p
’sで示したように、外方に漏れ出ていく。
このように、光導波路の外方に漏れ出た一部の光は、部
品内を迷走し、例えばp’+、 I)“t+p’sのよ
うに、光導波路Bの外方に隣接して位置する光導波路A
を伝搬する光と結合したり、または、自らが漏れ出てき
た先導波路に再結合したりする。
品内を迷走し、例えばp’+、 I)“t+p’sのよ
うに、光導波路Bの外方に隣接して位置する光導波路A
を伝搬する光と結合したり、または、自らが漏れ出てき
た先導波路に再結合したりする。
このような事態が起こると、クロストークが悪くなるな
どの不都合な問題が発生して、光導波路部品としての特
性の低下を招(。
どの不都合な問題が発生して、光導波路部品としての特
性の低下を招(。
本発明は、上記したような問題、すなわち、光導波路の
湾曲部でその外方に漏れ出た光による悪影響を解消した
光導波路部品の提供を目的とする。
湾曲部でその外方に漏れ出た光による悪影響を解消した
光導波路部品の提供を目的とする。
(課題を解決するための手段)
上記した目的を達成するために、本発明においては、湾
曲部を有する光導波路の前記湾曲部の外方に、光減衰部
または光散乱部が形成されていることを特徴とする光導
波路部品が提供される。
曲部を有する光導波路の前記湾曲部の外方に、光減衰部
または光散乱部が形成されていることを特徴とする光導
波路部品が提供される。
(作用)
本発明は先導波路部品の場合、先導波路の湾曲部から漏
れ出た光は、その湾曲部の外方に隣接して形成されてい
る光減衰部または光散乱部に到達し、そこで強制的に減
衰または散乱せしめられる。
れ出た光は、その湾曲部の外方に隣接して形成されてい
る光減衰部または光散乱部に到達し、そこで強制的に減
衰または散乱せしめられる。
そのため、他の光導波路内の光との結合や、自らが漏れ
aできた光導波路内の光との再結合は起こらなくなる。
aできた光導波路内の光との再結合は起こらなくなる。
(発明の実施例)
実施例1
第1図の平面図、および、第1図の■−■線に沿う断面
図である第2図で示した光導波路部品を、半導体材料で
製造した。
図である第2図で示した光導波路部品を、半導体材料で
製造した。
すなわち、GaAs基板11の上に、厚み3μmのA
Ro、 +Gao、 *Asから成る下部クラッド層1
2.厚み1t1mのGaAsから成るコア層13を順次
積層し、このコア層13の上に、更に、A Ro、 +
Ga@、 sASを用いて、厚み0.3μmの上部クラ
ッド層14bと光導波路形状で高さ0.7μmのリッジ
部14aを形成した。
Ro、 +Gao、 *Asから成る下部クラッド層1
2.厚み1t1mのGaAsから成るコア層13を順次
積層し、このコア層13の上に、更に、A Ro、 +
Ga@、 sASを用いて、厚み0.3μmの上部クラ
ッド層14bと光導波路形状で高さ0.7μmのリッジ
部14aを形成した。
リッジ部14aの平面形状は、第1図で示したように、
その途中が湾曲していて、コア層13におけるこのリッ
ジ部の下部が光導波路として機能する。
その途中が湾曲していて、コア層13におけるこのリッ
ジ部の下部が光導波路として機能する。
湾曲部14cの外方の隣接した上部クラ・ソド層14b
の上には、その−側がリッジ部14aの側縁に沿うよう
にして光減衰部15が形成されている。
の上には、その−側がリッジ部14aの側縁に沿うよう
にして光減衰部15が形成されている。
この光減衰部15は、漏れ出た光を吸収できるような材
料、例えば金属を、図示した個所に蒸着法で層状に装荷
して形成することができる。
料、例えば金属を、図示した個所に蒸着法で層状に装荷
して形成することができる。
この部品においては、光導波路を伝搬してきた光が湾曲
部14cで外方に漏れ出ても、その光はただちに光減衰
部15で吸収されて減衰し、部品内を迷走することがな
くなる。
部14cで外方に漏れ出ても、その光はただちに光減衰
部15で吸収されて減衰し、部品内を迷走することがな
くなる。
実施例2
第3図と第3図のIV−IV線に沿う断面図である第4
図は、第1図と第2図における光減衰部を光散乱部16
に代えた場合の実施例である。
図は、第1図と第2図における光減衰部を光散乱部16
に代えた場合の実施例である。
この光散乱部16は、上部クラッド層14bの表面にエ
ツチング処理を施して形成した凹凸パターンである。
ツチング処理を施して形成した凹凸パターンである。
この凹凸パターンとしては、光を散乱できる形態であれ
ばどのようなパターンであってもよく、例えば、凹凸が
ランダムに分布するランダムパターンや回折格子のパタ
ーンをあげることができる。
ばどのようなパターンであってもよく、例えば、凹凸が
ランダムに分布するランダムパターンや回折格子のパタ
ーンをあげることができる。
この部品においても、光導波路を伝搬してきた光が湾曲
部14cで外方に漏れ出ても、その光はただちに光散乱
部16で散乱して減衰し、部品内を迷走することがなく
なる。
部14cで外方に漏れ出ても、その光はただちに光散乱
部16で散乱して減衰し、部品内を迷走することがなく
なる。
実施例3
第5図は、並行する2本の光導波路14,14゜のそれ
ぞれの外方に、光減衰部15または光散乱部16を形成
した実施例を示す。
ぞれの外方に、光減衰部15または光散乱部16を形成
した実施例を示す。
この場合、内側に配線されている光導波路14゛から漏
れ出た光は、その外方であって他の光導波路14の内側
に形成されている光減衰部または光散乱部で消失するの
で、他の光導波路14内を伝搬する光と結合することは
なくなる。
れ出た光は、その外方であって他の光導波路14の内側
に形成されている光減衰部または光散乱部で消失するの
で、他の光導波路14内を伝搬する光と結合することは
なくなる。
(発明の効果)
以上の説明で明らかなように、本発明の光導波路部品は
、湾曲部を有する光導波路の前記湾曲部の外方に、光減
衰部または光散乱部が形成されているので、この湾曲部
から漏れ出た光は、光減衰部または光散乱部で消滅して
、部品内を迷走しなくなり、その結果、他の先導波路内
を伝搬する光との結合や、自らが漏れ出てきた光導波路
内を伝搬する光との再結合が防止され、光導波路部品の
特性低下はなくなる。
、湾曲部を有する光導波路の前記湾曲部の外方に、光減
衰部または光散乱部が形成されているので、この湾曲部
から漏れ出た光は、光減衰部または光散乱部で消滅して
、部品内を迷走しなくなり、その結果、他の先導波路内
を伝搬する光との結合や、自らが漏れ出てきた光導波路
内を伝搬する光との再結合が防止され、光導波路部品の
特性低下はなくなる。
第1図は本発明の実施例を示す平面図、第2図は第1図
の■−■線に沿う断面図、第3図は他の実施例を示す平
面図、第4図は第3FIAのIV−IV線に沿う断面図
、第5図は更に別の実施例を示す平面図、第6図は光導
波路の湾曲部における光の漏れを示す平面図である。 11・・・基板、12・・・下部クラッド層、13・・
・コア層、14.14’ ・・・光導波路、14a川I
Jッジ部、14b・・・上部クラッド層、15・・・光
減衰部、16・・・光散乱部。
の■−■線に沿う断面図、第3図は他の実施例を示す平
面図、第4図は第3FIAのIV−IV線に沿う断面図
、第5図は更に別の実施例を示す平面図、第6図は光導
波路の湾曲部における光の漏れを示す平面図である。 11・・・基板、12・・・下部クラッド層、13・・
・コア層、14.14’ ・・・光導波路、14a川I
Jッジ部、14b・・・上部クラッド層、15・・・光
減衰部、16・・・光散乱部。
Claims (1)
- 湾曲部を有する光導波路の前記湾曲部の外方に、光減衰
部または光散乱部が形成されていることを特徴とする光
導波路部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16828990A JPH0458203A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 光導波路部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16828990A JPH0458203A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 光導波路部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0458203A true JPH0458203A (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15865263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16828990A Pending JPH0458203A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 光導波路部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0458203A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999046619A1 (en) * | 1998-03-09 | 1999-09-16 | Corning Incorporated | Optical waveguide having non absorbing cladding region |
WO1999056160A3 (de) * | 1998-04-24 | 1999-12-16 | Siemens Ag | Anordnung zur optischen isolation mehrerer lichtwellenleiter |
JP2006276518A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光変調器 |
JP2007094336A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-04-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光半導体素子および光半導体素子の製造方法 |
JP2007256324A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Ngk Insulators Ltd | 波長変換素子 |
JP2017191253A (ja) * | 2016-04-14 | 2017-10-19 | 日本電信電話株式会社 | 光集積回路及びその製造方法 |
JP2019057542A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-11 | 日本電信電話株式会社 | 半導体光集積素子 |
WO2023188137A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 光導波路素子、光変調器、光変調モジュール、及び光送信装置 |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP16828990A patent/JPH0458203A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999046619A1 (en) * | 1998-03-09 | 1999-09-16 | Corning Incorporated | Optical waveguide having non absorbing cladding region |
WO1999056160A3 (de) * | 1998-04-24 | 1999-12-16 | Siemens Ag | Anordnung zur optischen isolation mehrerer lichtwellenleiter |
JP2006276518A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光変調器 |
JP4658658B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2011-03-23 | 住友大阪セメント株式会社 | 光変調器 |
JP2007094336A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-04-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光半導体素子および光半導体素子の製造方法 |
JP2007256324A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Ngk Insulators Ltd | 波長変換素子 |
JP4662872B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-03-30 | 日本碍子株式会社 | 波長変換素子 |
JP2017191253A (ja) * | 2016-04-14 | 2017-10-19 | 日本電信電話株式会社 | 光集積回路及びその製造方法 |
JP2019057542A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-11 | 日本電信電話株式会社 | 半導体光集積素子 |
WO2023188137A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 光導波路素子、光変調器、光変調モジュール、及び光送信装置 |
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