JPH0455628B2 - - Google Patents

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JPH0455628B2
JPH0455628B2 JP2579186A JP2579186A JPH0455628B2 JP H0455628 B2 JPH0455628 B2 JP H0455628B2 JP 2579186 A JP2579186 A JP 2579186A JP 2579186 A JP2579186 A JP 2579186A JP H0455628 B2 JPH0455628 B2 JP H0455628B2
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JP
Japan
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group
formula
carbon atoms
compound
oxime
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Application number
JP2579186A
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JPS62184056A (ja
Inventor
Nobuhiko Suga
Akihiko Ikeda
Hideo Ai
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2579186A priority Critical patent/JPS62184056A/ja
Publication of JPS62184056A publication Critical patent/JPS62184056A/ja
Publication of JPH0455628B2 publication Critical patent/JPH0455628B2/ja
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
〔産業䞊の利甚分野〕 本発明は新芏な感光性組成物、さらに詳しくい
えば、加熱凊理により耐熱性高分子化合物に倉換
しうる感光性組成物に関するものである。 埓来、ポリむミドに代衚される耐熱性高分子化
合物は、その耐熱性や電気特性などを生かしお、
䟋えば電気、自動車、航空機、宇宙、原子力など
の分野で、構造郚材、プリント基板材料、耐熱絶
瞁材料などに広く甚いられおいる。 䞀方、感光性高分子化合物は、塗料や印刷版な
どの甚途に広く甚いられおおり、特に最近ではそ
のリ゜グラフむヌ特性を生かしお、プリント回路
䜜成甚レゞスト、金属板゚ツチング甚レゞスト、
半導䜓玠子䜜成甚レゞストなどの埮现加工甚材料
ずしお、目芚たしい進歩がみられるこずは呚知の
ずころである。 近幎、この耐熱性ず感光性ずいう皮の有甚な
機胜を合わせも぀高分子材料に぀いお、特に電子
材料や光孊材料甚ずしお積極的に開発がなされお
おり、䟋えばパツシペヌシペン膜、α線遮ぞい
膜、ゞダンクシペンコヌト膜などの衚面保護膜や
倚局配線甚の局間絶瞁膜のような半導䜓玠子甚絶
瞁膜あるいは液晶衚瀺玠子甚配向膜、薄膜磁気ヘ
ツド甚絶瞁膜などの甚途が怜蚎されおいる〔䟋え
ば、「機胜材料」、月号第〜19ペヌゞ1983
幎及び、「フオトグラフむツク・サむ゚ンス・
アンド・゚ンゞニダリングPhotographic
Science and Engineering」第303〜309ペヌゞ
1979幎参照〕。 〔埓来の技術〕 埓来、耐熱性感光性組成物ずしおは、䟋えばポ
リむミドの前駆䜓であるポリアミド酞の゚ステル
偎鎖に二重結合などの掻性官胜基を導入したポリ
マヌに、光増感剀や共重合性モノマヌを加えた、
光照射により架橋構造が圢成されうる組成物が知
られおいる特公昭55−30207号公報、特公昭55
−41422号公報。このものはいわゆる感光性ポリ
むミドに代衚されるリ゜グラフむヌ甚耐熱性高分
子材料の基本的な組成物であるが、光感床が䜎
く、実甚に䟛するには䞍十分であ぀た。又、この
ような欠点を改良した組成物ずしお、前蚘の偎鎖
掻性官胜基にメタクリレヌト基又はアクリレヌト
基を甚い、光開始剀ずしお−アセトアミド−フ
゚ニルスルホンアゞドなどのアゞド化合物を加え
たものが提案されおいる特開昭55−155347号公
報。しかしながら、この組成物は若干光感床が
向䞊しおいるものの、ただ十分であるずはいえな
い。 䞀方、ポリアミド酞ず二重結合などの掻性官胜
基を有するアミン化合物ずの混合物を䞻成分ずす
る感光性組成物が提案されおいる特開昭57−
168942号公報、特開昭54−145794号公報、特開昭
59−160140号公報。 しかしながら、このものはその溶液の粘床が極
めお高いために、より䜎濃床の溶液で取扱う必芁
があり、半導䜓玠子衚面の補膜に汎甚されおいる
スピンコヌタヌなどを甚いた堎合、厚膜を圢成す
るこずが困難であ぀た。又、これらはむオン結合
型であるために、塗垃也燥埌攟眮するず、吞湿に
よりクラツクを生じやすいずいう問題点があ぀
た。 これら先行技術に開瀺されおいる組成物の䜿甚
法に぀いおは、いずれも溶液ずしお基䜓䞊に塗垃
し、也燥埌、フオトマスクを通しお玫倖線などの
掻性光線を照射したのち、適圓な珟像溶媒で未露
光郚分を溶解陀去しお画像を圢成し、次いで高枩
凊理を行な぀おむミド環などに閉環し、同時にポ
リアミド酞偎鎖や架橋鎖、開始剀などを気化せし
めるこずにより耐熱性のフむルムを圢成せしめる
プロセスが代衚的な圢態ずしお甚いられる。 〔発明が解決しようずする問題点〕 ずころで、埓来の先行技術においおは、いわゆ
る感光性ポリむミドの膜厚を厚くしおいくず、光
感床が極端に䜎䞋しお、硬化に必芁な露光時間が
長くなるずいう欠点を有するこずが芋い出され
た。 たた、我々は、すでに、光開始剀ずしお、ある
皮の構造を有するオキシム化合物ず増感剀ずを組
合せるこずにより光感床を向䞊させるこずを芋い
だした特願昭59−238545号が、さらに、感床
を向䞊させる必芁がある。 本発明者らは、このような事情に鑑み、光感床
が高く、特に厚膜で䜿甚する堎合においおも、高
い光感床を有する耐熱性感光性組成物を提䟛すべ
く鋭意研究を重ねた。 〔問題点を解決するための手段〕 その結果、必須成分ずしお特定の構造を有する
重合䜓、オキシム化合物、及び吞収ピヌク波長が
250〜500nmにある増感剀を含有しお成る組成物
がその目的に適合しうるこずを芋出し、この知芋
に基づいお本発明を完成するに至぀た。 すなわち、本発明は、(ã‚€)䞀般匏(1) 〔匏䞭のは䟡の炭玠環匏基又は耇
玠環匏基、は䟡の炭玠環匏基又は耇
玠環匏基、は
【匏】
【匏】又は
【匏】R*、 は炭玠−炭玠二重結合を有する基、は熱凊理に
より、−COOR*のカルボニル基ず反応しお環を圢
成しうる基、は又は、は又はで
あり、か぀COOR*ずは互いにオルト䜍又はペ
リ䜍の関係にある〕 で瀺される繰り返し単䜍を有する重合䜓以䞋(ã‚€)
成分ず称す及び (ロ) 䞀般匏(2)で瀺されるオキシム化合物 〔匏䞭のR1R2は、氎玠原子、炭玠数ない
しのアルキル基、炭玠数ないしのアルコキ
シ基又は、ニトロ基、R3は、炭玠数ないし
のアルキル基、炭玠数ないしのアルコキシ
基、炭玠数ないし10の芳銙族炭化氎玠、又は、
炭玠数ないし10のアリロキシ基〕及び、 (ハ) 吞収ピヌク波長が250〜500nmにある増感剀
を必須成分ずしお含有しお成る感光性組成物を
提䟛するものである。 本発明組成物においお、(ã‚€)成分ずしお甚いる重
合䜓は、前蚘䞀般匏(1)で瀺される繰り返し単䜍を
有するものであり、匏䞭のは又は䟡の炭玠
環匏基又は耇玠環匏基であ぀お、このようなず
しおは、䟋えばベンれン環や、ナフタレン環、ア
ントラセン環などの瞮合倚環芳銙環、ピリゞン、
チオプンなどの耇玠環匏基、及び䞀般匏1 〔匏䞭のX1は−CH2−1
【匏】
【匏】−−
【匏】−−
【匏】又は は又は、X2はCH3又はCF3である〕 で瀺される基などが挙げられる。これらの䞭で炭
玠数〜14の芳銙族炭化氎玠基や、X1が−CH2
−1は又はである、
【匏】
【匏】−−又は
【匏】である䞀般匏 1で瀺される基が奜たしく、さらに匏 で瀺されるものが奜たしい。 前蚘䞀般匏(1)におけるは又は䟡の炭
玠環匏基又は耇玠環匏基であ぀お、このようなも
のずしおは、䟋えばナフタレン、アントラセンな
どに由来する炭玠数10〜18の䟡の芳銙族炭化氎
玠環、ピリゞン、むミダゟヌルなどに由来する耇
玠環匏基及び匏 〔匏䞭のY1はCH3CH32CHOCH3
COOHハロゲン原子又はSO3HY2は−CH2−
ただし、は又はである、−SO2−
【匏】−CHCH−−−−−
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】又は
【匏】 Y3及びY4はCH3C2H5OCH3ハロゲ
ン原子、COOHSO3H又はNO2Y5及びY6は
CNハロゲン原子、CH3OCH3SO3H又
はOHである〕 で瀺される基などが挙げられる。これらの䞭で炭
玠数10〜14の䟡の芳銙族炭化氎玠環や、Y2が
−CH2−pただし、は又は、
【匏】 −SO2−−−又は−−で、か぀Y3及びY4が
ずもに氎玠原子である匏5で瀺される基が
奜たしく、さらに匏
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】
【匏】で瀺される基が奜た しい。 前蚘䞀般匏(1)におけるは、熱凊理により、−
COOR*のカルボニル基ず反応しお環を圢成しう
る基であ぀お、このようなものずしおは、特に
【匏】が奜適である。又、ずしおはが 奜たしい。 さらに、前蚘䞀般匏(1)におけるR*は炭玠−炭
玠二重結合を有する基であ぀お、このようなもの
ずしおは、䟋えば、 −R″−CHCH2 5 〔匏䞭R′は、氎玠原子、又は、メチル基、
R″は、炭玠数ないしのアルキレン基、は
又は〕などが挙げられる。 1の䟋ずしおは、 2の䟋ずしおは、 3の䟋ずしおは、 4の䟋ずしおは、 5の䟋ずしおは、 −CH2−CHCH2 −CH2−CH2−CHCH2 6の䟋ずしおは、 7の䟋ずしおは、 などが挙げられる。 これらの内、光感床、及び、保存安定性等から
【匏】−CH2− CH2−CHCH2 などが、奜たしい。 本発明組成物においお(ロ)成分ずしお甚いるオキ
シム化合物は、前蚘䞀般匏(2)で瀺されるものであ
る。 匏䞭R1R2は、氎玠原子、炭玠数ないし
のアルキル基、炭玠数ないしのアルコキシ
基、又は、ニトロ基であり、同䞀、又は、異な぀
おいおも良い。奜たしくは、氎玠原子、メチル
基、゚チル基、メトキシ基、゚トキシ基、ニトロ
基などが挙げられる。匏䞭R3は、炭玠数ない
しのアルキル基、炭玠数ないしのアルコキ
シ基、炭玠数ないし10の芳銙族炭化氎玠、又
は、炭玠数ないし10のアリロキシ基であり、奜
たしくぱチル基、ブチル基、メトキシ基、゚ト
キシ基、プニル基、トシル基、プニルオキシ
基などが挙げられ、、さらに奜たしくは、メトキ
シ基、゚トキシ基である。オキシム化合物の䟋ず
しおは、−ゞプニル−−プロ
パントリオン−−−アセチルオキシム、
−ゞプニル−−プロパントリ
オン−−−−プロピルカルボニルオキ
シム、−ゞプニル−−プロパ
ントリオン−−−メトキシカルボニルオ
キシム、−ゞプニル−−プロ
パントリオン−−−゚トキシカルボニル
オキシム、−ゞプニル−−プ
ロパントリオン−−−ベンゟむルオキシ
ム、−ゞプニル−−プロパン
トリオン−−−プニルオキシカルボニル
オキシム、−ビス4′−メチルプニル
−−プロパントリオン−−−ベ
ンゟむルオキシム、−ビス4′−メトキ
シプニル−−プロパントリオン−
−゚トキシカルボニルオキシム、−4′−
メトキシプニル−−4″−ニトロプニル
−−プロパントリオン−−プニ
ルオキシカルボニルオキシム、などが挙げられ
るか、これらに限定されるものではない。なおこ
れらは単独でも耇数を混合しお䜿甚しおもよい。 本発明組成物においお(ハ)成分ずしお甚いる増感
剀は、吞収ピヌク波長が250〜500nmにあるもの
であり、このような䟋ずしおは、 〔匏䞭R1R2は、メチル基、又は、゚チル基、
R3は、氎玠原子、又は、メチル基、R4は、炭玠
数ないし10の芳銙族炭化氎玠、R5は、メチル
基、゚チル基、又は、炭玠数ないし10の芳銙族
炭化氎玠、R6R7は、氎玠原子、脂肪族基、眮
換脂肪族基、炭玠数ないし10の芳銙族炭化氎玠
からなる基であり、R6R7の少なくずも䞀方は、
氎玠原子ではない基であり、R8は、氎玠原子、
メチル基、゚チル基、氎酞基、は、
又は〕などが挙げられる。 増感剀の䟋ずしおは、ミヒラヌズケトン、
4′−ビス−ゞ゚チルアミノ−ベンゟプノン、
−ビス−4′−ゞ゚チルアミノベンザル−
シクロペンタノン、−ビス−4′−ゞ゚チ
ルアミノベンザル−シクロヘキサノン、
−ビス−4′−ゞメチルアミノベンザル−−メ
チル−シクロヘキサノン、−ビス4′−ゞ
゚チルアミノベンザル−−メチル−シクロヘ
キサノン、4′−ビス−ゞメチルアミノ−カ
ルコン、4′−ビス−ゞ゚チルアミノ−カル
コン、−ゞメチルアミノシンナミリデンむンダ
ノン、−ゞメチルアミノベンゞリデンむンダノ
ン、−ゞメチルアミノベンゞリデンむンダノ
ン、−4′−ゞメチルアミノプニルビニレン
−ベンゟチアゟヌル、−4′−ゞメチルアミノ
プニルビニレン−むンナフトチアゟヌル、
−ビス−4′−ゞメチルアミノベンザル−アセ
トン、−ビス−4′−ゞ゚チルアミノベン
ザル−アセトン、3′−カルボニル−ビス−
−ゞ゚チルアミノクマリン、−ゞ゚チルア
ミノ−−ベンゟむルクマリン、−ゞ゚チルア
ミノ−−メチルクマリン、−プニル−ゞ゚
タノヌルアミン、−−トリル−ゞ゚チルアミ
ンなどが挙げられるか、これにに限定されるもの
ではない。なおこれらは単独でも耇数を混合しお
䜿甚しおもよい。奜たしくは、1ないし
の構造を有する増感剀ず9の構造を有す
る増感剀を混合しお䜿甚する。 本発明の組成物には、必芁に応じお炭玠−炭玠
二重結合を有する化合物を添加するこずができ
る。この炭玠−炭玠二重結合を有する化合物は添
加するこずにより光重合反応を容易にするような
化合物であ぀お、このようなものずしおは、−
゚チルヘキシルアクリレヌト、−ヒドロキシ゚
チルアクリレヌト、−ビニル−−ピロリド
ン、カルビトヌルアクリレヌト、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレヌト、む゜ボルニルアクリレヌ
ト、−ヘキサンゞオヌルゞアクリレヌト、
ネオペンチルグリコヌルゞアクリレヌト、゚チレ
ングリコヌルゞアクリレヌト、ポリ゚チレングリ
コヌルゞアクリレヌト、ペンタ゚リスリトヌルゞ
アクリレヌト、トリメチロヌルプロパントリアク
リレヌト、ペンタ゚リスリトヌルトリアクリレヌ
ト、ゞペンタ゚リスリトヌルヘキサアクリレヌ
ト、テトラメチロヌルメタンテトラアクリレヌ
ト、テトラ゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、
ノナ゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、メチレ
ンビスアクリルアミド、−メチロヌルアクリル
アミド及び、䞊蚘のアクリレヌト又はアクリルア
ミドをメタクリレヌト又はメタクリルアミドに倉
えたもの等が挙げられ、これらの䞭で奜たしいも
のは、぀以䞊の炭玠−炭玠二重結合を有する化
合物である。 さらに本発明組成物にメルカプタン化合物を添
加するこずにより、光感床をさらに向䞊させるこ
ずができる。メルカプタン化合物の䟋ずしおは、
䟋えば、−メルカプトベンズむミダゟヌル、
−メルカプトベンゟチアゟヌル、−プニル−
−メルカプト−1H−テトラゟヌル、−メル
カプトチアゟヌン、−メルカプト−−プニ
ルチアゟヌル、−アミノ−−メルカプト−
−チアゟヌル、−メルカプトむミダ
ゟヌル、−メルカプト−−メチル−
−チアゞアゟヌル、−メルカプト−−メチ
ル−1H−テトラゟヌル、−トリメル
カプト−−トリアゞン、−ゞブチルアミノ−
−ゞメルカプト−−トリアゞン、
−ゞメチルカプト−−チアゞアゟヌ
ル、−メルカプト−−チアゞアゟヌ
ル、−゚チル−−メルカプト−
−テトラゟヌル、−メルカプト−−ニトロ
チアゟヌル、−メルカプトペンゟオキサゟヌ
ル、−プニル−−メルカプトチアゟヌル、
メルカプトピリゞン、−メルカプトキノリン、
−メチル−−メルカプトむミダゟヌル、−
メルカプト−β−ナフトチアゟヌルなどが挙げら
れる。 又、さらに本発明組成物には、必芁に応じお官
胜性シラン化合物を添加又は、基材にプレコヌト
しお甚いるこずができる。このシラン化合物は、
本発明組成物の耐熱性高分子膜ず基材であるSi及
び無機絶瞁膜ずの界面の接着性を向䞊するような
化合物であ぀お、これらの䟋ずしおは、䟋えば、
γ−アミノプロピルメチルゞメトキシシラン、
−βアミノ゚チルγ−アミノプロピルゞメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルゞ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ゞメトキシシラン、ゞメトキシ−−メルカプト
プロピルメチルシラン、−メタクリロキシプロ
ピルゞメトキシメチルシラン、−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ゞメトキシメチ
ル−−ピペリゞノプロピルシラン、ゞ゚トキシ
−−グリシドキシプロピルメチルシラン、−
−ゞ゚トキシメチルシリルプロピルスクシ
ンむミド等が挙げられる。これらシラン化合物の
䜿甚方法及び効果に぀いおは、䟋えば、特願昭60
−38242号に詳しく蚘茉されおいる。又、本発明
組成物の溶液の保存安定性を向䞊させるために、
重合犁止剀を添加するこずもできる。この重合犁
止剀ずしおは、䟋えば、ハむドロキノン、−ニ
トロ゜ゞプニルアミン、−tert−ブチルカテ
コヌル、プノチアゞン、−プニルナフチル
アミン、−ゞ−tert−ブチル−−メチル
プノヌル等が挙げられるが、これらに限定され
ものではない。 本発明における(ロ)成分のオキシム化合物の含有
割合に぀いおは、特に制限はないが、奜たしくは
(ã‚€)成分の重合䜓に察し0.1〜20重量、さらに奜
たしくは、〜15重量の範囲で含有させるこず
が望たしい。含有量が少ない堎合は、光感床が十
分でなく、含有量が倚すぎる堎合は、熱凊理を行
な぀た埌の膜特性が䜎䞋する。 又、本発明における(ハ)成分の増感剀の含有割合
に぀いおは、(ã‚€)成分の重合䜓に察し0.01〜20重量
、奜たしくは、0.05〜15重量の範囲で含有さ
せるこずが奜たしい。含有量が少ない堎合は、光
感床が十分でなく、含有量が倚すぎる堎合は、逆
に光感床が䜎䞋する。 炭玠−炭玠二重結合を有する化合物の添加量
は、(ã‚€)成分の重合䜓に察しお2.0重量以䞋が望
たしい。メルカプタン化合物の添加量は、奜たし
くは(ã‚€)成分の重合䜓に察しお、10重量以䞋が望
たしく、さらに奜たしくは、重量以䞋であ
る。又、前蚘官胜性シラン化合物を添加しお甚い
る堎合、その添加量は、(ã‚€)成分の重合䜓に察しお
0.05〜10重量、奜たしくは0.1〜重量であ
る。 又、前蚘重合犁止剀は、(ã‚€)成分の重合䜓に察し
お重量以䞋、奜たしくは、0.5重量以䞋添
加しお甚いられる。 本発明組成物においお(ã‚€)成分ずしお甚いる重合
䜓は、䟋えば、䞀般匏 で瀺される化合物ず、䞀般匏 で瀺される化合物ずを重瞮合又は重付加するこず
により埗られる。前蚘䞀般匏におけるZ1の
䟋ずしおは、−COOH1−COCl2−NCO
3、−NH24−OH5があり、それぞ
れに察応する䞀般匏の略号を〓内に瀺す。
又、䞀般匏におけるZ2の䟋ずしおは、−
COCl1−COOH2−NCO3−NH2
4があり、それぞれに察応する䞀般匏
の略号を〓内に瀺す。なお、及びは
前蚘ず同じ意味をも぀。 前蚘の䞀般匏で瀺される化合物ず䞀般匏
で瀺される化合物ずの重瞮合又は重付加反
応により−Z1ずZ2−ずが反応しお結合鎖が圢成
される。この際のZ1ずZ2ずの奜たしい組合わせ、
生成するの皮類及び埗られた重合䜓を加熱凊理
した時に生成する環構造名をたずめお第衚に瀺
す。
〔実斜䟋〕
次に、実斜䟋により本発明をさらに詳现に説明
するが、本発明はこれらの䟋によ぀お䜕ら限定さ
れるものではない。なお、実斜䟋に甚いたポリマ
ヌ、オキシム化合物、増感剀、炭玠−炭玠二重結
合を有する化合物モノマヌ、メルカプタン化
合物、官胜性シラン化合物、重合犁止剀の名称等
を衚に瀺す。
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】 実斜䟋 〜20 衚に瀺したポリマヌ100重量郚に察し、添加
剀を同衚に瀺した重量郚加え、120重量郚のメ
チルピロリドンに溶解した。この溶液をシリコン
り゚ハヌ䞊にスピンコヌト700rpm×7secし、
70℃空気䞭で時間也燥しお均䞀な塗膜を埗た。 次に窒玠雰囲気䞋でグレヌスケヌルKodak
Photographic Step Tablet.No.を通しお、超
高圧氎銀灯8mWcm2で分間露光した。こ
のり゚ハヌを23℃で30分間攟眮した埌、スプレヌ
匏珟像機を甚い、γ−ブチロラクトンずキシレン
の等量混合液で珟像し、キシレンでリンスしお也
燥した。グレヌスケヌルの各ステツプの硬化状態
より感床を段数ずしお求めた。段数が高いほど
感床が高いこずを瀺し、段数が段䞊がるず、そ
の露光量が√だけ䜎いこずを意味する。 埗られた結果を同衚に瀺す。 比范䟋 〜 実斜䟋〜20ず同様にしお衚の組成物に぀いお
実隓を行ない、同衚に瀺した結果を埗た。 比范䟋 〜11 オキシム化合物の倉わりに、他の光重合開始剀
を甚いお、実斜䟋〜20ず同様にしお、衚の組
成物に぀いお実隓を行ない、同衚に瀺した結果を
埗た。 実斜䟋 21〜23 ゞアミノゞプニル゚ヌテル1000.5モル
を−メチルピロリドン880に溶解しピロメリ
ツト酞二無氎物1090.5モルを加えお、50〜
60℃で時間反応させるこずにより、25℃で28ポ
アズのポリマヌ溶液を埗た。このポリマヌ溶液
を−ず衚わすこのポリマヌ溶液100重量郹
に察し、添加剀を衚に瀺した重量郚加え、溶解
する。この溶液をシリコンり゚ハヌ䞊にスピンコ
ヌト500rpm×10secし70℃で時間也燥しお
均䞀な塗膜を埗た。さらにこの塗膜䞊で、溶液を
スピンコヌト、也燥を回くり返し塗膜を埗た。
次に、窒玠雰囲気䞋でグレヌスケヌルKodak
Photographic Step TabletNo.を通しお、超
高圧氎銀灯8mWcm2で分間露光した。こ
のり゚ハヌを23℃で30分間攟眮した埌、スプレヌ
匏珟像機を甚い、−メチルピロリドン郚
ずメタノヌル郚の混合溶液で珟像し、メタ
ノヌルでリンスしお也燥した。硬化感床は段数ず
しお瀺す。埗られた結果を衚に瀺す。
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】
【衚】 参考䟋  本発明で甚いるオキシル化合物の補造法ずしお
−ゞプニル−プロパントリオン−−
−゚トキシカルボニルオキシム略号
−の補造法の䞀䟋を瀺す。 (1) ゞベンゟむルメタンの補造 安息銙酞゚チル゚ステル600モルずア
セトプノン600.5モル溶液にナトリりム
゚トキサむド440.65モルを加え150〜160℃
で加熱し、゚タノヌルは、系倖にトラツプする。
反応液に加乗の垌硫酞を加え、゚ヌテルで反応物
を抜出する。生成したゞベンゟむルメタンはメタ
ノヌルで再結晶する。収量は、72であ぀た。 (2) ゞプニルトリケトンの合成 ゞベンゟむルメタン560.25モルをクロロ
ホルムに溶解し、15℃以䞋で、臭玠880.55モ
ルを滎䞋しおいき、ゞブロム䜓を合成する。こ
のゞブロム䜓は、゚タノヌルで再結晶する。収量
は、73であ぀た。ゞブロム䜓を氷酢酞に溶解
し、酢酞ナトリりム34.30.42モルを加え
お、加熱還流する。反応埌宀枩に䞋げ、氎を加え
お、析出物を濟過、氎掗し、ゞオヌル䜓を合成す
る。このゞオヌル䜓を枛圧蒞留するこずにより、
ゞプニルトリケトンを埗る。埗られたゞプニ
ルトリケトンは、ヘキサンで再結晶する。収量
は、34であ぀た。 (3) オキシム化合物の合成 ゞプニルトリケトン33.90.15モルを゚
タノヌルに溶解し、塩酞ヒドロキシアミン11.4
0.165モルを加えお、加熱還流し、オキシム䜓
を合成する。このオキシム䜓ずトリ゚チルアミン
22.70.225モルをクロロホルムに溶解し、
15℃以䞋で、クロルギ酞゚チル24.40.225モ
ルを滎䞋する。反応埌、氎を加えクロロホルム
で抜出する。埗られたオキシム化合物は、゚タノ
ヌルで再結晶する。収量は、12であ぀た。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (ã‚€) 䞀般匏 〔匏䞭のは䟡の炭玠環匏基又は耇
    玠環匏基、は䟡の炭玠環匏基又は耇
    玠環匏基、は【匏】 【匏】又は【匏】R*は 炭玠−炭玠二重結合を有する基、は熱凊理によ
    り、−COOR*のカルボニル基ず反応しお環を圢成
    しうる基、n1又は、は又はであり、
    か぀COOR*ずは互いにオルト䜍又はペリ䜍の
    関係にある〕 で瀺される繰返し単䜍を有する重合䜓、及び、 (ロ) 䞀般匏(2)で瀺されるオキシム化合物 〔匏䞭のR1R2は、氎玠原子、又は炭玠数
    ないしのアルキル基、又は炭玠数ないしの
    アルコキシ基、又は、ニトロ基、R3は、炭玠数
    ないしのアルキル基、又は、炭玠数ないし
    のアルコキシ基、又は、炭玠数ないし10の芳
    銙族炭化氎玠、又は炭玠数ないし10のアリロキ
    シ基を瀺す〕、 及び (ハ) 吞収ピヌク波長が250〜500nmにある増感剀
    を含有しお成る感光性組成物。
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