JPH0454297B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、反射式光学記録キヤリヤの記録トラ
ツクを走査する走査ユニツトに関するものであ
る。

いわゆる光学式オーデイオデイスクプレーヤー
のためのこのような走査ユニツトについては、
「ラジオメントール（Radio Mentor）」、第45巻
（1979年）第４号第138および139頁の記事「80年
代のPCMレコード（PCM−Schallplatte ｆ‥ｒ
die achtziger Jahere）」に記載されている。
放射源としてレンズ系の光軸上に配置した半導体
レーザーを設け、未変調一次放射線ビームのビー
ム軸線をレンズ装置の光軸に一致させる。光学式
オーデイオデイスクの情報トラツクに含まれる情
報により変調された反射光ビームの一部を、二重
プリズムのビームスプリツテイング面によりハウ
ジングの管状部の側方開口を経て電子出力装置に
反射させ、この出力装置により放射線ビーム変調
を電気的変調に変換して適当な電子回路に供給す
る。

しかし、光学的走査ユニツトの二重プリズムの
位置と向きには厳密さが要求される。また未変調
一次放射線ビームは、オーデイオデイスク上の記
録面に最適な円形読取スポツトを放射線の強さの
分布が最適な一様さを示すよう正確に形成すべく
集束させねばならない。入射一次ビームのため
に、二重プリズムは、できるだけ面平行体の光学
本体にすべきであり、面平行体にすることにより
一次放射線ビームの歪みを小さくすることができ
る。電子出力装置における正確なトラツク結像
は、一次放射線ビームの光路が反射した二次放射
線ビームの光路に厳密に等しいとき可能である。
このことは、二重プリズムと電子出力装置とを正
確に相対位置決めしなければならないことを意味
し、また放射線ビームが二重プリズムに入射する
位置からスプリツテイング面に至るまで一次放射
線によりカバーされる距離を、反射した二次放射
ビームがスプリツテイング面に入射する位置から
二重プリズムより出射する位置に至るまで二次放
射線ビームにカバーされる距離に等しくすべきこ
とを意味する。更に、半導体ダイオードレーザー
から二重プリズムのスプリツテイング面に至る距
離を、狭い公差範囲内で、電子出力装置の放射線
感知手段からスプリツテイング面に至る距離に等
しくすべきである。既知の光学的走査ユニツトの
使用、即ち大量生産に適し、広く家庭用に供され
る光学的オーデイオデイスクプレーヤに使用され
る走査ユニツトを考慮すると、光学的走査ユニツ
トは低コストで製造できることが必要とされる。
更に、保守に手間がかからず交換も簡単であるこ
とが要求される。

従つて本発明の目的は、構造簡単であり、部品
点数が少なく、比較的低コストで必要とされる精
度の製造を行うことができ、大衆用機器への使用
に適する上述の型式の光学的走査ユニツトを得る
にある。この目的を達成するため、本発明第１端
部および第２端部を有し、側方開口を形成した管
状体と、 管状体の第１端部の近傍に配置し、放射線ビー
ムをビーム軸線に沿つて第２端部の方向に発射す
る放射線源と、 光軸を有しかつ管状体の第２端部の近傍に配置
し、放射線ビームを集束して読取スポツトを形成
し、この読取スポツトにより前記トラツクを走査
するとき、反射した放射線ビームが前記光軸に沿
つて逆通過するレンズ系と、 前記側方開口に隣接して前記管状体に配置し、
互いに取付け合つた第１プリズムおよび第２プリ
ズムを具える二重プリズムであつて、光軸に対し
て45゜の角度をなすビームスプリツテイング面を
有し、前記反射した放射線ビームを管状体の側方
開口を経て側方に転向する二重プリズムと、 管状体の外側に配置し、前記反射放射線ビーム
の経路上に配置して前記反射放射線ビームを電気
信号に変換する放射線感知手段と、 前記ビーム軸線を前記光軸に整列させ前記ビー
ム軸線が前記ビームスプリツテイング面に交差す
るこのスプリツテイング面における点から前記放
射線源を軸線方向に所定距離だけ離すよう前記二
重プリズムおよび前記放射線源を取付ける支持部
材と、 を具え、前記反射放射線ビームを前記放射線感知
手段上に所要スポツトとして集束させる位置に前
記支持部材を前記管状体に対して固定し、更に前
記支持部材を前記管状体に組付ける間には前記支
持部材を前記管状体に対して回転自在かつ軸線方
向に移動自在の構成にして前記ビームスプリツテ
イング面の位置を調整可能にし、前記反射放射線
ビームを前記レンズ系により前記放射線感知手段
上の前記所要スポツトに集束させることができる
構成としたことを特徴とする。

本発明による光学的発力ユニツトのプリズム装
置を構成する支持部材（以下「支持部」と称す
る）は幾つかの機能を果たす。先ず、この支持部
は、ダイオードレーザーのいわゆる「ヒートシン
ク」としての機能を果たす。即ちこの支持部は高
熱伝導率を有する部分を構成し、半導体レーザー
から発生する熱を迅速に放熱し、温度勾配を小発
くすることができる。第２に、堅牢で安定した取
付部としての機能を果たし、この支持部にビーム
スプリツタとしてのプリズムを強固に取付けるこ
とができる。支持部は、一般的な加工作業により
必要とされる精度で製造することができ、プリズ
ムを支持部に整列取付けするのはプリズムを支持
部に対して必要とされる精度で整列かつ位置決め
する適当な整列工具により行うことができる。第
３に、支持部は、光学的走査ユニツトの組立中
に、ハウジングを構成する管状体（以下「管状
部」と称する）に対するプリズム装置の調整を行
うための操作可能な構成部材としても機能し、こ
の調整により二次放射線ビームの反射部分が電子
出力装置の放射線感知手段の所要位置に正確に入
射するようにする。この目的のため、出力装置を
管状部の外部に取付け、プリズム装置をハウジン
グの管状部に対して軸線方向相対移動可能かつ相
対回転可能に構成し、測定装置によりプリズム装
置の正確な位置が測定されるまで調整する。この
正確位置が得られてから支持部をハウジングの管
状部に固着する。従つて本発明によれば、光学的
走査ユニツトの光学的放射線感知部分を正確に整
列および位置決めする上での問題は、金属支持部
の正確な製造、適当な整列工具による二重プリズ
ムの正確位置および向きでの取付け、プリズム装
置の取付け、試行錯誤的な出力装置に対するプリ
ズム装置の正確位置の決定、そして最後にこのよ
うに見出したハウジングの管状部に対するプリズ
ム装置の正確位置での固定といつた簡単な作業に
軽減される。

プリズム装置の支持部に対する二重プリズムの
取付けを簡単にするため本発明の好適な実施例に
おいては、プリズム装置の支持部の放射線源に対
向する遊端を放射線源のビーム軸線に対して45゜
の角度をなすよう傾斜させ、この遊端の傾斜部に
は、ビーム軸線およびこのビーム軸線に交差する
傾斜部の垂線により規定される平面に平行な溝孔
を形成してこの溝孔の両側に傾斜面を形成し、二
重プリズムの第１プリズムを溝孔に横切つて張り
渡し、２個の傾斜面に取付け、第２プリズムを溝
孔に嵌合させ、かつ第１プリズムに取付ける。こ
の実施例によれば幾つかの利点がある。即ち支持
部の軸線に対して45゜の角度をなす面の形成は機
械加工により要求される公差範囲内に比較的簡単
に行うことができる。この傾斜面は、二重プリズ
ムを取付ける際の基準面として使用することがで
きる。各プリズムは、互いに独立的に整列工具を
使用することにより所要位置に調整位置決めする
ことができる。第１プリズムだけを支持部に取付
ける。第２プリズムは第１プリズムに取付ける
が、支持部には取付けない。この取付方法は、二
重プリズムの反射面は操作中に生ずる応力を受け
ず、半導体ダイオードレーザーにより支持部が加
熱されることにより生ずる主に熱応力を受けるだ
けであるという利点がある。

本発明の他の実施例においては、支持部は更に
他の機能をも果たす。この実施例は、管状部の一
部を内部位置決めカムとして構成し、このカムを
プリズム装置の溝孔に遊隙を介して嵌合させ、管
状部に対するプリズム装置の回転方向の粗調整を
行うよう構成する。この実施例の利点は、支持部
をハウジングに対して調整する前に、支持部をほ
ぼ正確な位置に嵌合することができ、ハウジング
に対するプリズム装置の上述の調整を行うための
時間を大幅に節約することができる点である。

２個のプリズムを支持部に取付けるには、第１
プリズムを、プリズム装置の支持部の２個の傾斜
面および第２プリズムの双方に対して、第１プリ
ズムの幅全体にわたり塗布した透明セメント層に
より取付けた実施例を使用すると有利である。こ
の実施例の場合、２個のプリズムのうちの一方に
のみセメント層を設けるだけでよく、このことは
大量生産でセメントを使用する上で見られる問題
点を大いに軽減する。本発明によれば、使用に適
するセメントとしては、例えば紫外線硬化セメン
トがあり、この種のセメントは光学素子を互いに
接合するものとして市販されている。この種のセ
メントは透明であり、紫外線に当たると極めて迅
速に硬化する。

上述の記事に記載の光学的走査ユニツトにおい
ては、反射した二次放射線ビームをビームスプリ
ツテイング光学素子により２個のサブビームに分
割し、各ビームを出力装置の放射線感知ダイオー
ドと共同して作動するようにしている。このビー
ムスプリツテイング光学素子は、二重プリズムの
反射二次放射線ビームが出射していく側面に配置
する。この側面位置にビームスプリツテイング光
学素子を配置する本発明の実施例においては、こ
の光学素子全体を硬化した透明セメントにより構
成する。この実施例は幾つかの利点がある。ビー
ムスプリツテイング素子を二重プリズムの第１プ
リズムに一体に形成した既知の光学的走査ユニツ
トに比較すると、一層簡単な形状の第１プリズム
を使用することができる。個別に製造されるビー
ムスプリツテイング光学素子は寸法が極めて小さ
く、脆弱である。従つてこの光学素子の製造、取
扱い、第１プリズムに対する要求される精度での
整列には相当な困難が伴う。このような問題は本
発明のこの実施例を使用することにより回避する
ことができる。光学素子は、プリズム装置のこの
側面にセメント滴を塗布し、次に適当な形状のダ
イスをセメント滴に対して正確位置に押し付け、
最後にセメントを硬化させることによつて形成す
ることができる。更に紫外光線の作用により硬化
するセメントを使用すると有利である。この実施
例は上述の実施例の利点もさることながら他の大
きな利点がある。調整工具によつて行うことがで
きるダイスの正確な整列および位置決めによつて
ビームスプリツテイング光学素子の屈折端縁のプ
リズム装置支持部の中心軸線に対する従つて光軸
に対する正確な向きおよび位置を常に正確に規定
することができ、この規定はビームスプリツテイ
ング素子が形成される第１プリズムの側面の向き
には無関係に行うことができる。即ちこれはこの
側面とダイスとの間の空間全体に透明セメントが
充満しているためである。

次に図面につき、本発明の実施例を説明する。

光学的走査ユニツト（第１図参照）に管状部
（管状体）１を設け、この管状部１は第１端部２
と第２端部３を有し、また側方開口４をこの管状
部に設ける。市販されている形式のレーザー装置
６としての放射線源（以下「レーザー」と略称す
る）５を第１端部２の近傍に配置する。このレー
ザー装置に、金属包囲部材７と、ガラス窓８と、
真ちゆう製の支持部９と、複数個の連結ピン１０
と、強度制御用感光ダイオード１１と、端子貫通
絶縁部１２とを設ける。レーザー５により未変調
一次放射線ビーム１３をビーム軸線１４に沿つて
放射し、このビーム軸線は管状部１の軸線に一致
させる。管状部の第２端部３の近傍にレンズ系を
配置し、このレンズ系は、２個のレンズ１５，１
６と図示しない複数個のレンズよりなる対物レン
ズ１７とにより構成する。レンズ１５，１６をレ
ンズ取付部材１８に取付け、このレンズ取付部材
１８を管状部１に圧入する。これらレンズ１５，
１６はともにレーザー５から発生する末広がりの
放射線ビームを平行ビームに変換する。更に対物
レンズ１７により放射線ビームを集束して光学デ
イスク２１の情報面２０に放射線読取スポツト１
９を形成する。この情報面２０は透明被覆２２に
よりカバーし、この被覆を通して放射線ビーム１
３を集束させる。情報面２０の位置において起り
うる変動にも放射線スポツト１９を追従させるこ
とができるようにするため、ビーム軸線１４に一
致する光軸の方向に或る限定範囲内で対物レンズ
１７を移動可能にする。このため、対物レンズ１
７を、２個の平行板ばね２３，２４により対物レ
ンズ２５に移動可能に懸垂し、対物ユニツトを円
筒状スリーブ２６により管状部１に対して摺動自
在にする。管状の永久磁石本体２７を可動対物レ
ンズ１７の周囲に取付け、この本体２７を軸線方
向に磁化し、図面に示すような極性の磁気領域を
設ける。この磁石本体の周りに環状コイル２８を
配置し、このコイル２８をユニツト２５の固定部
に取付け、このコイルに制御電流を供給し、対物
レンズ１７の集点位置を制御する。

レーザー５とレンズ系との間に二重プリズム２
９を配置する。このプリズムに、第１プリズム２
９Ａと第２プリズム２９Ｂとを設け、ビーム軸線
１４に対して45゜の角度をなすビームスプリツテ
イング面３０によりこれらプリズムを互いに取付
ける。このスプリツテイング面は、光学デイスク
２１により反射されかつ情報面２０の記録トラツ
クにより変調された反射二次放射線ビーム３１を
管状部１の側方開口４に通過するよう転向する作
用を行う。この二次放射線ビームを電子出力装置
３３の放射線感知手段３２に集束させ、この出力
装置３３は管状部の外部に配置する。この放射線
感知手段３２により放射線ビーム変調を電気的変
調に変換する。

プリズム装置３４を管状部の第１端部２に取付
ける。このプリズム装置は、アルミニウム製の支
持部材（以下「支持部」と称する）３５により構
成し、この支持部３５に二重プリズム２９および
レーザー装置６の双方を互いに規定の公差範囲内
で半径方向および軸線方向に整列させて配置す
る。支持部３５に、管状部１の外部に突出し、管
状部１よりも直径が僅かに大きい大径部３６を設
け、この大径部３６にレーザー装置６を取付け
る。支持部の大径部３６と管状部の第１端部２と
の間に空隙「ａ」を空ける。プリズム装置３４は
管状部１に対して軸線方向に特定調整範囲内で移
動可能にし、従つて空隙「ａ」の大きさは管状部
に対するプリズム装置の移動量によつて決まる。
更にプリズム装置を管状部に対して少なくとも限
定範囲内で回転自在にする。組立中にプリズム装
置３４と管状部１を相対的に移動および回転させ
ることによつて、反射した放射線ビーム３１が放
射線感知手段３２に照射する位置を調整すること
ができる。二次放射線ビーム３１が側方開口４を
経て特定公差範囲内で出力装置３３の放射線感知
手段３２に照射する位置が一度決まつた後にプリ
ズム装置を管状部に対して固定する。調整作業中
に、特別な測定構成の測定装置を放射線感知手段
３２に連結し、反射した二次放射線ビームにより
生じた電気信号を直接読取ることができるように
する。

プリズム装置３４の支持部３５のレーザー５に
対向する側の開放端部をビーム軸線１４に対して
45゜の角度の傾斜をつける。このようにして得ら
れた傾斜部３７（第３図参照）に溝孔３８を形成
し、ビーム軸線１４とこのビーム軸線に交差し傾
斜部に直交する垂線とを含む平面に対してこの溝
孔３８を平行にする。溝孔３８の両側にそれぞれ
傾斜面３７Ａ，３７Ｂが位置する。二重プリズム
の第１プリズム２９Ａを溝孔３８を横切つて張り
渡し、傾斜面３７Ａ，３７Ｂに取付ける。第２プ
リズム２９Ｂを溝孔３８内に掛合させ、第１プリ
ズム２９Ａに取付ける。第１プリズム２９Ａの所
定位置にスプリツテイング面３０Ａの幅全体にわ
たり層状に塗布した紫外線硬化性透明セメントを
固着する。このセメント層は図示しない。このセ
メント層により第１プリズム２９Ａを２個の傾斜
面３７Ａ，３７Ｂに連結するとともに、第１プリ
ズム２９Ａおよび第２プリズム２９Ｂの面３０
Ａ，３０Ｂ（第３図参照）を相互連結する。

第１プリズム２９Ａに側面３９を設け、この側
面３９を経て反射した二次放射線ビーム３１が二
重プリズム２９から出射するようにする。この側
面にビームスプリツテイング光学素子４０を配置
する。この光学素子４０に２個の面４１Ａ，４１
Ｂ（第４図参照）を設け、これら面を直線４２に
おいて交差させる。この直線４２はビームスプリ
ツテイング素子の屈折端縁を構成し、またこの直
線はレンズ系のビーム軸線１４に完全に平行にす
べきである。光学素子４０全体を硬化した透明セ
メントにより形成する。

レーザー装置６の支持部９は真ちゆうにより形
成し、環状部分４３を設ける。レーザー装置の製
造中、ビーム軸線１４が支持部９の環状部分４３
の軸線に正確に一致するよう半導体レーザー５を
支持部に配置することに注意すべきである。この
環状部分をプリズム装置に圧嵌し、プリズム装置
の環状止部４４に衝合させる。このことによりレ
ーザー５のプリズム装置に対する正確な心決めを
確実にすることができる。プリズム装置３４の支
持部３５の厳密な寸法にすべき部分は環状止部４
４とビーム軸線１４が傾斜面３７の平面に交差す
る点Ｑとの間の距離である。支持部３５のこの部
分の寸法だけは極めて精密にし、公差は30ミクロ
ンとする。支持部の管状部に摺動嵌合させる円筒
状部分の直径は規格ISO h7のすべりばめに適合
させるとよい。支持部３５の円筒状部の外面を取
付ジグに配置し、位置を正確に規定する止部に衝
合させる。上述したように、第１プリズム２９Ａ
のビームスプリツテイング面３０Ａの側に透明な
紫外線硬化セメント層を設ける。またこのセメン
ト層を傾斜面３７Ａ，３７Ｂに載置し、矢印Ｐ
１，Ｐ２，Ｐ３の方向に精密位置決めカムにより
押圧する。２重矢印で示した矢印Ｐ３はこの矢印
の位置において側面３９が固定基準カムに圧着す
ることを示す。矢印Ｐ１，Ｐ２の方向にばね圧力
を加える。この結果第１プリズム２９Ａは傾斜面
３７Ａ，３７Ｂの正確な位置に厳密に整列すると
ともに、矢印Ｐ１，Ｐ２の矢頭を結ぶ直線に沿う
正確な整列が得られる。第２プリズム２９Ｂは第
１プリズムの下方で溝孔３８に掛合させ、２重矢
印Ｐ４，Ｐ５の矢頭で示す位置に調整工具の２個
の固定止部を当接し、矢印Ｐ６の方向に作用する
可動位置決めカムにより生ずる力を加える。この
結果、第２プリズム２９Ｂの反射面３０Ｂは第１
プリズム２９Ａの反射面３０Ａに圧着する。更
に、矢印Ｐ４，Ｐ５を結ぶ軸線４６に対する整列
も得られる。第１プリズム２９Ａを支持部３５の
傾斜面３７に取付け、これと同時にこの位置に紫
外光線を照射することにより第２プリズム２９Ｂ
を第１プリズムに取付ける。

ビームスプリツテイング素子４０を形成するた
め、紫外光線の作用の下で硬化する透明セメント
滴を第１プリズム２９Ａの側面３９に塗布する。
調整工具のガラス製ダイス５２（第５図参照）を
必要とされる精密さで位置決めし、このガラス製
ダイスを経て紫外放射線により照射して透明セメ
ント滴を硬化する。レーザー装置６の近傍に２個
のスペーサ４７，４８を取付けたときプリズム装
置を管状部１に取付ける準備が完了する。

出力装置３３のためのプラスチツクホルダ４９
を管状部１の周りに射出成形により形成する。管
状部１の側方開口４とは反対側にホルダ４９の材
料の一部が管状部内に進入することができる通口
を設ける。この材料が成形されると位置決めカム
５０となり、このカム５０はプリズムユニツトの
溝孔３８に遊隙を介して、嵌合し、これにより回
転方向のプリズム装置の粗調整をすることができ
る。

プリズム装置の製造後、カム５０を溝孔３８に
嵌合させることによつてプリズム装置を管状部に
挿入する。次に出力装置３３を電気的測定装置に
連結し、プリズム装置を測定しつつ調整範囲内で
軸線方向および回転方向に反射二次放射線ビーム
か放射線感知手段３２に正確に照射するまで手動
調整を行う。管状部の第１端部の限定された部分
５１の位置において管状部１をプリズム装置３４
の支持部にレーザー溶接により連結し、従つて調
整範囲内において反射放射線ビーム３１が側方開
口４を経て放射線感知手段の特定の公差領域を照
射する位置に固定することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による光学的走査ユニツトと
光学デイスクの一部の実寸を３倍に拡大して示し
た縦断面図、第２図は、第１図の光学的走査ユニ
ツトの実寸の約２倍の平面図、第３図は、第１図
の倍率とほぼ同一に拡大して示した光学的走査ユ
ニツトのプリズム装置と他の若干の部分の分解斜
視図、第４図は、ビームスプリツテイング光学素
子を設けた第１プリズムの相当拡大した斜視図、
第５図は、第４図のビームスプリツテイング光学
素子の製造中の状態を示す平面図である。 １…管状部（管状体）、２…管状部の第１端部、
３…管状部の第２端部、４…側方開口、５…放射
線源（レーザー）、６…レーザー装置、９…レー
ザー装置の支持部、１３…未変調一次放射線ビー
ム、１４…ビーム軸線、１５，１６…レンズ、１
７…対物レンズ、１９…読取スポツト、２０…情
報面、２１…光学デイスク、２２…透明被覆、２
５…対物ユニツト、２６…円筒状スリーブ、２９
…二重プリズム、２９Ａ…第１プリズム、２９Ｂ
…第２プリズム、３０…ビームスプリツテイング
面、３１…反射二次放射線ビーム、３２…放射線
感光手段、３３…電子出力装置、３４…プリズム
装置、３５…プリズム装置の支持部（支持部材）、
３７…プリズム装置の傾斜部、３８…溝孔、３９
…第１プリズムの側面、４０…ビームスプリツテ
イング光学素子、４９…電子出力装置のホルダ、
５０…位置決めカム。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 反射式光学記録キヤリヤの記録トラツクを走
   査する走査ユニツトにおいて、 第１端部２および第２端部３を有し、側方開口
   ４を形成した管状体１と、 管状体の第１端部２の近傍に配置し、放射線ビ
   ーム１３をビーム軸線１４に沿つて第２端部３の
   方向に発射する放射線源５と、 光軸を有しかつ管状体の第２端部３の近傍に配
   置し、放射線ビーム１３を集束して読取スポツト
   １９を形成し、この読取スポツト１９により前記
   トラツクを走査するとき、反射した放射線ビーム
   が前記光軸に沿つて逆通過するレンズ系１５，１
   ６，１７と、 前記側方開口４に隣接して前記管状体１に配置
   し、互いに取付け合つた第１プリズム２９Ａおよ
   び第２プリズム２９Ｂを具える二重プリズムであ
   つて、光軸に対して45゜の角度をなすビームスプ
   リツテイング面３０を有し、前記反射した放射線
   ビーム３１を管状体１の側方開口４を経て側方に
   転向する二重プリズム２９と、 管状体１の外側に配置し、前記反射放射線ビー
   ム３１の経路上に配置して前記反射放射線ビーム
   を電気信号に変換する放射線感知手段３２と、 前記ビーム軸線を前記光軸に整列させ前記ビー
   ム軸線１４が前記ビームスプリツテイング面３０
   に交差するこのスプリツテイング面３０における
   点Ｑから前記放射線源５を軸線方向に所定距離だ
   け離すよう前記二重プリズム２９および前記放射
   線源を取付ける支持部材３５と、 を具え、前記反射放射線ビーム３１を前記放射線
   感知手段３２上に所要スポツトとして集束させる
   位置に前記支持部材３５を前記管状体１に対して
   固定し、更に前記支持部材３５を前記管状体１に
   組付ける間には前記支持部材３５を前記管状体１
   に対して回転自在かつ軸線方向に移動自在の構成
   にして前記ビームスプリツテイング面３０の位置
   を調整可能にし、前記反射放射線ビーム３１を前
   記レンズ系１５，１６，１７により前記放射線感
   知手段３２上の前記所要スポツトに集束させるこ
   とができる構成としたことを特徴とする光学的走
   査ユニツト。 ２ 前記支持部材３５の放射線源５に対向する遊
   端を放射線源のビーム軸線１４に対して45゜の角
   度をなすよう傾斜させ、 この遊端の傾斜部３７には、ビーム軸線１４お
   よびこのビーム軸線に交差する傾斜部の垂線によ
   り規定される平面に平行な溝孔３８を形成してこ
   の溝孔の両側に傾斜面３７Ａ，３７Ｂを形成し、 二重プリズムの第１プリズム２９Ａを、溝孔３
   ８を横切らせて張り渡し、２個の傾斜面３７Ａ，
   ３７Ｂに取付け、 第２プリズム２９Ｂを溝孔３８に嵌合させ、か
   つ第１プリズム２９Ａに取付けた ことを特徴とする特許請求の範囲１記載の光学的
   走査ユニツト。 ３ 管状体１の一部を内部位置決めカム５０とし
   て構成し、このカム５０をプリズム装置３４の溝
   孔３８に遊〓を介して嵌合させ、管状体に対する
   支持部材３５の回転方向の粗調整を行うように構
   成したことを特徴とする特許請求の範囲２記載の
   光学的走査ユニツト。 ４ 第１プリズム２９Ａを、支持部材３５の２個
   の傾斜面３７Ａ，３７Ｂおよび第２プリズム２９
   Ｂの双方に対して、第１プリズムの幅全体にわた
   り塗布した透明セメント層により取付けたことを
   特徴とする特許請求の範囲２または３記載の光学
   的走査ユニツト。 ５ 二重プリズム２９を、前記反射放射線ビーム
   ３１が出射する側面３９にビームスプリツテイン
   グ光学素子４０を担持して前記反射放射線ビーム
   を２個のサブビームに分割するものとして構成し
   た上述の特許請求の範囲１ないし４項のいずれか
   一項に記載のユニツトにおいて、このビームスプ
   リツテイング光学素子全体を硬化した透明セメン
   トにより構成したことを特徴とする光学的走査ユ
   ニツト。