JPH0453949B2 - - Google Patents

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JPH0453949B2
JPH0453949B2 JP60100908A JP10090885A JPH0453949B2 JP H0453949 B2 JPH0453949 B2 JP H0453949B2 JP 60100908 A JP60100908 A JP 60100908A JP 10090885 A JP10090885 A JP 10090885A JP H0453949 B2 JPH0453949 B2 JP H0453949B2
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JP
Japan
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plating
copper
powder
inorganic powder
solution
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JP60100908A
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JPS61258868A (ja
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Tokuzo Kanbe
Yaozo Kumagai
Jiro Takahira
Kunihiko Nozaki
Tomoji Hatanaka
Kazuyoshi Ootani
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は銅被覆を有する無機粉体の製造方法に
係り無電解めつきによる無機粉体に対して均一
な、しかも密着性のある導電性にすぐれた銅被覆
を有する粉体の製造方法に関する。 本発明の方法で製造される銅被覆を有する無機
粉体は電磁波シールド材用フイラー、導電性塗料
用フイラー、導電性ペースト用フイラー、粉末治
金用フイラー等に用いることができる。 〔従来の技術〕 めつき浴中の金属イオンを、還元剤の作用によ
つて還元析出させる無電解めつきは、ニツケル、
コバルト、銅等あるいはこれらの合金のめつきに
広く採用されており、非金属基質上にもめつきで
きることから、無機粉体へのめつきにも適してい
る。例えば、「実務表面技術」1980年9月号8〜
12頁には、このような無機粉体への適用例が概説
されている。しかしながら、粉体の一粒一粒に、
めつきむらが少なく又密着性が優れためつきを施
すことは、該文献に概説されるような化学めつき
法をもつてしても容易なことではなく、特に銅め
つきの場合には困難である。 無機粉体の銅めつきに付きむらがある場合、銅
めつき量が多い割合には、それを使用した導電性
塗料および電磁波シールド材の導電性及び電磁波
シールド性が悪く、又樹脂成分との混練の際、剥
離する等の不都合がある。無機粉体へ銅を化学め
つきする方法として、特公昭58−17825号公報に
無機粉体を第1錫塩の酸性溶液に浸漬し、つい
で、パラジウム塩の酸性溶液に浸漬して(いわゆ
るセンシタイジングーアクチベーシヨンプロセ
ス)触媒化処理を行つた後、無電解銅めつき液
(ロツシエル塩浴、EDTA塩浴)に浸漬、撹拌し
てめつきを行うことにより、銅被覆を有する無機
粉体を得る方法が記載されている。しかしなが
ら、これらの通常の化学めつき法では、無機粉体
を実質的に完全に被覆しうるような均一なめつき
層を形成させることは困難である上に、無機粉体
とめつき層との結合力即ち密着性が不充分であ
る。 また、特開昭59−157268号公報には、粉体を化
学めつき浴中に浸漬し、その表面に金属を被覆す
る化学めつき法において、粉体の90%以上の個数
の粒子の移動速度が5cm/秒以下となるような浴
の流動状態下で一定時間、初期めつき処理を続け
る方法が記載されている。しかし、この方法にお
いても“付きむら”は防止し得ても密着性につい
ての改良はなされていない。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは“付きむら”がなく、且つ、密着
性の優れた銅被覆を有する無機粉体の製造方法を
提供することを、その目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は表面に貴金属を付着した無機粉体に銅
を化学めつきするに当り、銅化学めつき液の温度
およびPHをコントロールして化学めつきの開始か
ら少なくとも5分間の初期銅めつき速度を、0.5
mg/cm2・hr以下に保持することを特徴とす銅被覆
を有する無機粉体の製造方法である。 本発明において、銅被覆と対象とする表面に貴
金属を補足した無機粉体は、公知の種々の方法に
従つて作ることができる。例えば、塩化第1錫の
酸性溶液に浸漬した後、貴金属の酸性溶液に浸漬
する方法、塩化第1錫及び貴金属の混合酸性溶液
に浸漬処理した後、塩酸溶液で処理する方法、貴
金属捕捉性表面処理剤を用いて表面処理した粉体
を貴金属を含む溶液で処理する方法等が知られて
おり、これらの何れの方法をも採用できる。 表面に貴金属を付着した無機粉体とは、化学め
つきを行う場合通常行われる前処理により無機粉
体の表面に貴金属を付着させたものであり、無機
粉体の表面に貴金属をイオン状態あるいは、元素
状態で補足していることをいう。銅めつきは、そ
の貴金属を核としてめつきされる。 表面に貴金属を捕捉した無機粉体として、パラ
ジウム、白金、ロジウム、金などの貴金属が、無
機粉体100重量部に対して、3×10-3〜3×10-4
重量部捕捉されたものが好ましい。 無機粉体としては、銅化学めつきに対して、安
定性の良いものがあれば制限はなく、マスコパイ
トマイカ、フロゴパイトマイカ、合成のフツ素系
マイカなどの板状マイカ、チタン酸カリウムウイ
スカー、ウオラストナイト、アスベスト、セピオ
ライトなどの針状鉱物、シリカ、アルミナ、タル
ク、シラスバルーン、グラフアイト、ガラスフレ
ーク、ガラスフアイバー、カーボンフアイバー、
シリコンフアイバー、窒化珪素、炭化珪素等が例
示できる。特に、形状については制限がなく、板
状、針状、繊維状、粒状、など種々の形状のもの
が使用できる。 銅化学めつき液としては、通常の化学銅めつき
液を用いることができる。即、銅源としては、硫
酸銅、塩化銅、硝酸銅等の塩類、又銅イオンの錯
化剤としては、EDTA塩、ロツシエル塩類等、
還元剤としては、ホルマリン、パラホルムアルデ
ヒド等およびPH調整剤としては、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウムの水溶液を用いる。更に液の
安定剤として、界面活性剤、シアン塩類等を微量
添加することができる。具体的には、硫酸銅3.6
%、EDTA塩7.3%、ホルマリン2.6%、苛性ソー
ダ0.3%の液が使用できる。 銅めつき速度を、0.5mg/cm2・hr以下に保持す
るためには種々の方法があるが、銅めつき速度
は、各イオン濃度、還元剤濃度、温度およびPHに
依存するのでイオン濃度および還元剤濃度を一定
に設定し、温度及びPHをコントロールすることに
より、銅めつき速度をコントロールすることがで
きる。即、PHを下げることにより、また温度を低
くすることによりめつき速度を小さくすることが
できる。通常は、温度を一定に設定してPHをコン
トンロールする方法が、容易に行いうる方法であ
る。 本発明において、めつき開始後のPHを、開始期
のPHより低く保持することにより、めつき反応の
開始から少なくとも5分間の初期銅めつき速度
を、0.5mg/cm2・hr以下に保持することができる。
しかしながら、余り低くすることは反応が実質的
に停止してしまうので実際的でない。めつき速度
は、0.1mg/cm2・hr以下では実際的でなく、0.6
mg/cm2・hrを越えると泡の発生が激しくなり、
“付きむら”を生じ、密着性が低下する。 この銅めつき速度でのめつきを、少なくとも5
分間保持することがめつきの“付きむら”の防止
及び密着性に必要である。これは粉体の表面に均
一に実質的に第1層の銅皮膜が形成されるのに相
当する。 具体的実施方法として、化学めつき液をあらか
じめ所定の温度に上げ、NaOH溶液でその温度
に最適な初期PH値に調整する。この初期PH値は、
その化学めつき液でめつきが開始する下限値(粉
体を投入して数秒〜数十秒以内にめつきが開始す
るPH値)とする。貴金属を補足した無機粉体を、
この化学めつき液に投入すると、反応が開始しPH
値は急速に低下するが、NaOH溶液を添加する
等の手段により、銅めつき速度を0.5mg/cm2・hr
以下で一定に保持することができる。この状態で
のめつきを、5〜20分、好ましくは10〜15分行
う。その後のめつきは、任意のめつき速度で所望
のめつき量に達するまで行うことができる。 例えば、PHを10〜9程度に調整してめつきを開
始し、5〜10分間そのPHに保持して、初期めつき
速度を調整した後、PHを11程度に上昇させ、比較
的高速でめつきを終了させることにより、付きむ
ら”がない、かつ、密着性の良好な銅被覆を有す
る無機粉体が得られる。また、PHを10〜9程度に
保持して、比較的低速でめつきを終了させること
も可能である。 〔作用〕 本発明者らは、化学めつきによる無機粉体の銅
被覆の“付きむら”および密着性に関し鋭意研究
した結果、初期銅めつき速度が大きく影響するこ
とを見出し、本発明を完成した。 無機粉体の対する化学銅めつきの場合、粉体の
比表面積が0.1m2/g以上と大きいため、一旦め
つきが開始されると、めつき速度が加速度的に速
くなり、H2ガスが急速に発生して、細かい粉末
はH2ガスと共に浮上してしまうとか、又銅が粉
体の上に析出せず、単独に析出する現象が現れ、
“付きむら”が発生し、また、密着性が低下する。 本発明において、初期めつき速度を低く保持
し、一定量の銅を低速でめつきすることにより、
その後のめつき速度にかかわりなく、H2ガスの
急激な発生を防止でき、粉末がH2ガスに包含さ
れて表面に浮上することが防止されると同時に、
銅めつきの“付きむら”が防止され、緻密で均一
な密着性の強い銅被覆が無機粉体の表面に形成さ
せる。 〔実施例〕 本発明を実施例により、さらに詳細に説明す
る。ただし本発明の範囲は、下記実施例により何
等限定されるものではない。 実施例 1 平均粒径150meshのフロゴパイトマイカ(比表
面積;0.2m2/g)750gを、エポキシ樹脂(エポ
キシ4g、ポリアミド4g)を溶解したエタノー
ルアセトン混合溶液中に30分間浸漬し、次いで濾
過し、溶媒を揮散させた後、100℃で1時間硬化
した。次にこのようにして表面処理されたマイカ
750gを、塩化パラジウムの塩酸酸性水溶液
(PdCl2濃度1×10-4g/ml)1500mlに室温で1時
間浸漬したのち、濾過して下地処理を行い、表面
にパラジウムを捕捉したマイカを得た。 次に、この表面にパラジウムを捕捉したマイカ
を、次の組成を有する銅無電解めつき液30に投
入しめつき反応を行つた。反応温度65℃、初期PH
11.5で反応を開始し、その後、NaOH液を滴下し
てPHを9.5に保持し、銅の析出速度0.36mg/cm2
hrで反応を行つた。反応時間は30分であつた。 その結果、銅含有率27.1%、体積充填率(vf)
18%における粉体の体積固有抵抗値3.0×10-3Ω・
cm、色調が輝銅色の銅被覆を有するマイカが得ら
れた。又、得られた銅被覆を有するマイカは、均
一なめつき被覆が得られていることが、走査型電
子顕微鏡による観察により確認された。 銅無電解めつき液の組成 CuSO4・5H2O 40g/ EDTA・4Na 80g/ HCHO(35%) 73ml 実施例 2 平均粒径325meshのフロゴパイトマイカ300g
を、実施例1と同一の方法で表面処理を行い、更
に塩化パラジウム溶液で下地処理を行い、表面に
パラジウムを捕捉したマイカを得た。このマイカ
を、実施例1と同一仕様の銅無電解めつき液30
に投入し、めつき反応を行つた。反応温度は65
℃、初期PH10.5で反応を開始し、NaOH溶液を滴
下してPHを9.0に保持して、銅の析出速度を0.20
mg/cm2・hrに調整し、10分間反応を行い、次い
で、PHを10.0に調整して、銅の析出速度を0.52
mg/cm2・hrとして、さらに10分間反応を継続し全
反応を終了した。 その結果、銅含有率48%、体積充填率(vf)18
%における粉体の体積固有抵抗値2×10-3Ω・
cm、色調が銅色の銅被覆を有するマイカが得られ
た。実施例1の場合と同様に均一なめつき被覆が
得られた。 実施例 3 平均粒径150meshのガラスフレーク450gをγ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのア
ルコール溶液で表面処理した後、実施例1と同一
の方法でエポキシ樹脂(エポキシ+ポリアミド)
による表面処理及び塩化パラジウム溶液で下地処
理を行い、表面にパラジウムを捕捉したガラスフ
レークを得た。このガラスフレークを、実施例1
と同一仕様の無電解めつき液30に投入し、めつ
き反応を行つた。反応温度70℃、初期PH11.0で反
応を開始し、その後、NaOH溶液を滴下してPH
を9.5に保持し、銅の析出速度0.42mg/cm2・hrで
5分間反応を行い、引続きいてPHを9.0に保持し
て、0.32mg/cm2・hrの銅の析出速度で全反応を終
了した。反応時間は50分であつた。 その結果、銅含有率37%、体積充填率(vf)18
%における粉体の体積固有抵抗値3.5×10-3Ω・
cm、色調輝銅色の、均一な銅被覆を有するガラス
フレークを得た。 応用例 1 電磁波シールド材への応用 実施例1で得た平均粒径150meshの銅被覆マイ
カ(Cu含有率27.1%、粉体の体積固有抵抗値(vf
=18%における)3.0×10-3Ω・cm)を、次の組成
のニツケルめつき液を用いて、温度45℃、陰極電
流密度1A/dm2の条件で、内側に隔膜を設けた
バレル190mmφ×250mm)中において電気めつきを
行つた。その結果、銅含有率20.5%、ニツケル含
有率21.0%、金属化率41.5%、粉体の体積固有抵
抗値(vf=18%における)7.5×10-3Ω・cm、真比
重3.77のCu−Ni2層コートマイカが得られた。こ
の2層コートマイカを、ポリプロピレンに体積充
填率12.5%になるようにニーダーを用いて混練
し、圧縮成形して複合材(60×30×2mm)を製造
した。製造した複合材の体積固有抵抗値は、6.5
×10-1Ω・cmであつた。また、矩形導波管を用い
た4000MHzにおける電磁波透過損失率は、装置の
測定限界である40dB以上であつた。 ニツケルめつき液組成 NiSO4・6H2O 250g/ NiCl2・6H2O 50g/ H3BO3 50g/ PH 3.0 応用例 2 電磁波シールド塗料への応用 実施例2で得た平均粒径325meshの銅被覆マイ
カ(Cu含有率48%、粉体の体積固有抵抗値(vf
=18%における)2.0×10-3Ω・cm)を、酸化防止
剤(CBブライト菱江化学株式会社製)10%水溶
液に5分間浸漬し、濾過した後100℃で2時間乾
燥し酸化防止処理を行つた。この結果、体積固有
抵抗値(vf=18%における)は、3.5×10-3Ω・cm
となつた。次に、樹脂バインダーとして、アクリ
ル系塗料のアクリツクNo.2026Gクリヤー及びシン
ナーに、乾燥塗膜中の体積充填率が30%となる量
のこのフイラーを混合し、塗料を作成した。次
に、得られた塗料をABS樹脂にスプレーで塗装
し、厚さが50μの塗膜を得た。乾燥後、塗膜の厚
さ、表面抵抗および電磁波シールド性能(電界シ
ールド特性)を測定した。その結果は次表の通
り。
〔発明の効果〕
本発明の方法で製造した銅被覆を有する無機粉
体は、実施例及び応用例にも示したごとく、優れ
た体積固有抵抗値を有し、また、該粉体を使用し
た電磁波シールド材(塗膜)も、優れた電磁波シ
ールド性能を示す。これらの諸特性は、緻密で均
一な、かつ、密着性に優れた銅被覆を有する無機
粉体であることを示している。 本発明は、緻密で均一な、かつ、密着性に優れ
た銅被覆を有する無機粉体の、工業的規模で生産
を可能とする製造方法を提供するものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 表面に貴金属を付着した無機粉体に銅を化学
    めつきするに当り、化学めつきの開始から少なく
    とも5分間の初期銅めつき速度を、銅化学めつき
    液の温度及びPHをコントロールして、0.5mg/
    cm2・hr以下に保持することを特徴とする銅被覆を
    有する無機粉体の製造方法。
JP60100908A 1985-05-13 1985-05-13 銅被覆を有する無機粉体の製造方法 Granted JPS61258868A (ja)

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JP60100908A JPS61258868A (ja) 1985-05-13 1985-05-13 銅被覆を有する無機粉体の製造方法

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