JPS5811518B2 - 金属−ダイヤモンドの複合メッキ方法 - Google Patents

金属−ダイヤモンドの複合メッキ方法

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JPS5811518B2
JPS5811518B2 JP52087179A JP8717977A JPS5811518B2 JP S5811518 B2 JPS5811518 B2 JP S5811518B2 JP 52087179 A JP52087179 A JP 52087179A JP 8717977 A JP8717977 A JP 8717977A JP S5811518 B2 JPS5811518 B2 JP S5811518B2
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plating
diamond
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nickel
diamond powder
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中野譲
長尾一郎
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【発明の詳細な説明】 本発明はニッケルやコバルトなどの金属イオンを含むメ
ッキ液中に金属の無電解メッキにより被膜を設けたダイ
ヤモンドパウダーを分散せしめたメッキ液を用い、被処
理物に析出させ、金属−ダイヤモンドの複合被膜を得る
方法に関するものであり、ダイヤモンドパウダーの共析
金属に対する析出比を高め、又析出金属に埋没したダイ
ヤモンドパウダーの密着度を向上し、析出ダイヤモンド
周辺のスローイングパワーを向上させる事を目的とする
ものである。
ニッケルメッキとダイヤモンドパウダーの複合メッキは
ダイヤモンドの高硬度及び高耐摩耗性の性質を利用し、
切削工具先端、耐摩耗性を高度に要求する部品に施され
、実用に供される。
しかるにダイヤモンドはその結晶が共有結合で1014
Ω/cm3にも達する絶縁体であり、メッキ液中でイオ
ン化しないため通常のメッキ方法によればほとんど金属
との共析はしない。
したがって実用に供せる程度、即ち2〜3%以上ダイヤ
モンドを含む複合メッキを得るためには第1図に示すよ
うにメッキ液1をスクリュー2により強制攪拌し、ダイ
ヤモンドパウダー3を液中で沈澱させず均等に分散せし
め、かつ被処理物4表面にダイヤモンドパウダーの粒子
が衝突する頻度を向上させる事により、ダイヤモンドパ
ウダーの析出比率の高い複合メッキを得るものである。
なお、ここで5は陽極板を示している。
しかし、このように強制攪拌を実施しても、通常の攪拌
程度ではダイヤモンドパウダーの析出比率は約15%(
容積比)くらいが限度で、それ以上は困難である。
しかし、実用上では、複合メッキ中のダイヤモンドパウ
ダーの析出比率は高い方がよく、その比率は約20〜4
0%(容積比)が最も有効と推定される。
又、単なる強制攪拌の場合に得られる銅やニッケルメッ
キ被膜6では、ダイヤモンド粒子の析出周辺の金属のス
ローイングパワーが悪く、第2図に示すように表面に出
たダイヤモンド3の密着度は悪い。
これは明らかにダイヤモンドに電気伝導性がない為に起
るものである。
本発明は上記従来の欠点を除去するものであり、以下実
施例をもって説明する。
実施例 1 ダイヤモンドパウダーの表面に無電解銅メッキの被膜を
約0.1μ施し、このダイヤモンドパウダーをニッケル
メッキの電気メツキ液中に分散し、強制攪拌を施しニッ
ケルとの共析を行なった。
なお無電解銅メッキの液組成は次の通り 硫酸銅 5グ/l 酒石酸す・リウムカリウム 25?/l 水酸化ナトリウム 71/1 37%ホルマリン液 1011/lPH115 温度 24℃ 又、電解複合メッキの液組成並びに電解条件は次の通り
、 硫酸ニッケル 330グ/l 塩化ニッケル 45グ/l 硼酸 37グ/l PH1−5/4.5 浴温 45〜60℃ 電流密度 2〜10A/dm メッキ厚 0.01〜6mm 銅被膜を施していないダイヤモンドの複合ニッケルメッ
キを同一メッキ液濃度で、液温、電流密度、攪拌強さを
も同一にして並列テストを行ない得られた被膜を比較し
てみた。
得られたダイヤモンドパウダーの共析比率は、銅メッキ
なしの場合12%(容積比)に対して銅メッキを施した
場合23%(容積比)であり、又その析出断面の状編は
第3図に示すごと(被処理物40表面に予め銅被膜Iを
施したダイヤモンド粒子30表面及び周辺にも、ニッケ
ル被膜8が析出していた。
又、これら得られた被膜をサンドペーパー1000#に
て軽く同一条件で研磨テス・を行ない比較したが、銅メ
ッキなしの場合表面のダイヤモンド粒子の約50%脱落
する研磨条件では銅メッキを施した被膜の方は約15%
のダイヤモンド粒子の脱落しか見られず、銅メッキを施
した場合の方がダイヤモンド粒子の密着度が高い事が判
明した。
実施例 2 ニッケルの無電解メッキをダイヤモンドパウダーに施し
、ダイヤモンドに無電解ニッケルメッキの被膜を形成し
た後、この無電解ニッケルメッキ被覆ダイヤモンドパウ
ダーを電気ニッケルメッキ液中に分散し、強制攪拌を行
ない、ニッケルーダイヤモンドの複合メッキを施した所
、ダイヤモンドパウダーの共析比率が18%(容積比)
のものを得た。
なお、無電解ニッケルメッキの液組成並びに膜厚は次の
通り、 硫酸ニッケル 30?/l 次亜リン酸ナトリウム 10?/! 酢酸ナトリウム 10?/l PH4〜6 温度 90℃ メッキ厚 0.0001〜0.01m1又
、ニッケルーダイヤモンドの複合メッキの液組成並びに
電解条件は次の通り、 硫酸ニッケル 330グ/l 塩化ニッケル 45?/1 硼酸 37?/l PH1,5/4.5 浴温 45〜60℃ 電流密度 2〜10A/dm” メッキ厚 0.01〜6tt 得られた被膜を実施例1と同様、サンドペーパー100
0#にて、軽く同一条件で研磨テストを行ない、比較し
たが、ニッケルメッキなしの場合、表面のダイヤモンド
粒子が約40%脱落する研磨条件では、ニッケルメッキ
を施した被膜の方は約13%のダイヤモンド粒子の脱落
しかみられず、無電解ニッケルメッキを施した場合の方
がダイヤモンド粒子の密着度が高いことが判明した。
実施例 3 無電解銅メッキをダイヤモンドパウダーに施し、これを
含むコバルトメッキ液中で、コバルト−ダイヤモンド複
合メッキを得られた。
この場合、銅メッキを施さないダイヤモンドパウダーよ
りもコバルトとの密着度は大巾に高くなった。
なお、無電解銅メッキの液組成並びに膜厚は次の通り。
硫酸銅 5グ/l 酒石酸ナトリウムカリウム 25?/l 水酸化ナトリウム 7グ/1 37%ホルマリン液 10m1/lPH11,5 温度 24℃ メッキ厚 0.0001〜0.01mm又、
コバルト−ダイヤモンド複合メッキの液組成並びに電解
条件は次の通り。
塩化コバルト 100グ/l 硫酸コバルト 100P/J 塩化アンモニウム 100グ/1 次亜リン酸ソーダ 5グ/l PH5,5 浴温 55℃ 電流密度 5.4A/di2 メツキ厚 0・01〜1mm 上記実施例から明らかなように本発明の方法によればダ
イヤモンドパウダーの析出比率が高い複合メッキが行な
え、ダイヤモンド共析金属の密着度が大きいため研摩耗
性が要求される部品に使用した場合その効果は極めて大
きい。
又、被処理物の側面や内面が複雑な形状の場合であって
も電気メッキにより均一な複合メッキをすることが可能
となる等の優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図はメッキ装置の断面図、第2図は従来の方法によ
り得られた場合メッキ被膜の断面図、第3図は本発明の
実施例を示す複合メッキ被膜の断面図である。 1・・・・メッキ液、2・・・・・・スクリュー、3・
・ダイヤモンドパウダー、4・・・・・・被処理物、5
・・・・・・陽極板、6・・・・・・メッキ被膜、1・
・・・・・銅被膜、8・・・・・・ニッケル被膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ダイヤモンドパウダーの表面に金属の無電解メッキ
    を施しで被膜を設け、上記金属被膜を設けたダイヤモン
    ドパウダーを金属イオンを含む電気メツキ液中に分散せ
    しめ、被処理物上に共析させる事を特徴とする金属−ダ
    イヤモンドの複合メッキ方法。
JP52087179A 1977-07-19 1977-07-19 金属−ダイヤモンドの複合メッキ方法 Expired JPS5811518B2 (ja)

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JPS5421926A JPS5421926A (en) 1979-02-19
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