JPH045293A - 有機シリコーン化合物の精製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は有機シリコーン化合物の精製法に関する。更に
、詳細には有機シリコーン化合物中の不純物を除去し、
高性能有機シリコーン化合物を製造する方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、不純物を除去する方法として精密蒸留、共沸蒸留
、および脱水剤の利用等が公知であり、これらの方法を
高純度シリコーン化合物を製造するための精製に用いる
ことは容易に考えられるが、既知の方法では水、アルコ
ール類、有機ハロゲン化物等の不純物を十分に除去する
ことは極めて困難である。

また、これらの方法により精製された有機シリコーン化
合物を絶縁膜材料とした場合、ヒロックやホイスカーが
生じ易くなる可能性が大きく、電子デバイスの性能を充
分に引き出すことが出来なくなる事が容易に推測される
。また最近、研究され、注目を浴びている０３−ＴＥ０
１（テトラエチルオルソシリケート・）系でのＣＶＤプ
ロセスの低温化を著しく妨げることが危惧される。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来、有機シリコーン化合物から不純物を分離すること
により純度を９９％以上に精製回収することは、工業的
に非常に困難であった。

本発明は、このような従来の精製法が有する欠点および
絶縁膜材料としての限界を克服し、現在および次世代の
電子工業用材料の高品質化と安定供給を目的としてなさ
れたものである。

〔課題を解決するための手段〕

そこで本発明者らは、有機シリコーン化合物中の不純物
である水、アルコール類、有機ハロゲン化物等を高度に
効率良く除去するための工業的方法を見出すべく鋭意研
究を行った結果、透過膜を用いると有機シリコーン化合
物から不純物が効果的に除去されることを見出し、本発
明を完成するに至った。

〔作　用〕

以下、本発明の詳細な説明する。本発明方法が適用でき
る化合物は実質上、透過膜を侵さないものであれば特に
制限はなく、例えばテトラエチルオルソシリケート、テ
トラメチルオルソシリケート、テトラメチルシリケート
、４−アミノブチルジメチルメトキシシラン、アリルエ
トキシシラン、アミノフェニルトリエトキシシラン、３
、−アミノプロピルトリエトキシシラン、ベンジルジメ
チルシラン、１，４−ビス（３アミノプロピルジメチル
シリル）ベンゼン、ビス（ｐ−ビフェニル）ジフェニル
シラン、シクロへキシルジメチルシラン、シクロテトラ
メチレンジメチルシラン、１，１−ジメチルサイシー１
１−クラウン−４ジメチルシラン、トリメチルイソシア
ネートビニルトリアセトキシシラン等が挙げられる。

パーベーパレーション法で使用される透過膜は、有機シ
リコーン化合物に対して不活性であり、不純物が透過し
有機シリコーン化合物が不純物に比べ透過しにくいもの
、あるいは、有機シリコーン化合物が透過し不純物が有
機シリコーン化合物に比べ透過しにくいものであれば良
い。例えば、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース、
ポリ酸化フェニレン等を表面に吸着させた水選択性透過
膜やポリジメチルシロキサン等を表面に吸着させたアル
コール選択性透過膜等がある。

パーベーパレーション法とは、例えば、透過膜を装着し
たセルのフィード側に連続的あるいは断続的に被精製化
合物を供給し、不純物濃縮側から真空に引いて膜との親
和性により不純物を分離する方法である。上記パーベー
パレーション工程において公知のパーベーパレーション
装置が特に制限を受けることなく使用され、またパーベ
ーパレーション法にもなんら制限を受けない。ただし、
−船釣にフィード室の温度は０℃〜被精製化合物の沸点
、望ましくは５℃〜被精製化合物の沸点より２０℃位低
い温度である。

透過室真空度は２ＱＱｌｏｒ＋以下、望ましくは１０ｊ
ｏｒｒ以下である。また、２次側の冷却温度は、不純物
がトラップされる温度であるが、望ましくは一１０℃以
下である。

不純物としては、例えば、アルコール類として、メチル
アルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、
アミルアルコール、ヘキシルアルコール、２−メチル−
１−ペンタノール、２−プロピオン−１−オール、ベン
ジルアルコール、エチレングリコール、グリセロール等
がアリ、有機ハロゲン化合物とし、クロロメタン、テト
ラクロロメタン、塩化エチレン、ペンタクロロエタン、
テトラクロロエチレン、臭化エチレン、ペルフルオロベ
ンゼン、クロロブロモエタン等がある。有機シリコーン
化合物中に含まれるこれらの不純物の含有率は特に制限
はないが、通常１θＷ１％以下である。

有機シリコーン化合物を以上の方法により精製すること
で、従来の精製技術では解決できなかった問題を容易に
解決でき、極めて簡便に電子デバイスに悪影響を及ぼす
不純物を除去できる。

電子デバイスの欠陥であるヒロックやホイスカーなどの
原因として、上述の不純物の存在がある。そこでこれら
の不純物を除くために、アニールやプレアニールなどの
方法が講じられるが、この操作によりクラッキング等を
引き起こす可能性が高くなる。

また最近、ＴＥ０１　（テトラエチルオルソシリケート
）を用いた新しいプロセスが盛んに研究されているが、
ここでも上述の不純物によりアニール操作を余儀なくさ
れている。この操作により著しく膜収縮が起こり、本来
、低温堆積が可能でかつ良好なステップカバレッジが得
られるというメリットが損なわれてしまうのである。

本発明は、これらのプロス段階での重大な問題を材料レ
ベルで解決するものである。

〔実施例〕

次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。

実施例ｌ Ｈ２ＯおよびＥｔＯＨ不純物を各々３．２ｗ１％。

６、９ｖｔ％含んだテトラエチルオルソシリケート（Ｔ
ＥＯ！ｉ）　　２５０ｍ１を親水性透過気化膜を装着し
たバッチ式膜分離モジュールに注入しフィード液温度９
５℃、二次側真空度Ｉ　Ｉｏｒｒ、二次側冷却温度−２
０℃で８０時間運転した後、Ｈ２ＯおよびＥｔＯＨ不純
物濃度を電量滴定式カールフィッシャー水分計およびガ
スクロマトグラフィーにより定量を行った。その結果を
以下に示す。

ＴＥＯ３精製結果 実施例２ Ｈ２Ｏ，ＥｔＯＨおよびペンジルクロライド不純物を各
々Ｑ、１ｗ１％、　　８．３ｗ＋％、　　７．２ｗｔ％
含んだアミノフェニルトリエトキシシランを連続循環式
パーベーパレーションモジュールを用い、実施例１と同
様の条件で精製を試みた経過を第１図のグラフに示す。

最終的に２００時間運転後でＨ２Ｏ，ＥｔＯＨおよびベ
ンジルクロライドの不純物濃度は各々（１，１）７３ｐ
Ｈｍ、　［１，４２６ｐｐＨ０、５１１（ｉｐｐｍに低
減した。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例２における精製経過を示すグラ
フであり、Ｈ２Ｏ，ＥｔＯＨ。 Ｃ６Ｈ５Ｃ１の各濃度（ｐｐｍ）　　（縦軸）と時間（
時）（横軸）の関係を示す。 図中 口・・・Ｈ２Ｏ ◆・・・ＥｔＯＨ ■・・・Ｃ６Ｈ，ＣＩ 第１図 精製経過 時間（時） 手続補正書 （自　発） 平成２年９月千日 東ソー・アクゾ株式会社 補正の内容 本願明細書中下記事項を訂正致します。 記 １、明細書第６頁６行目に 「アリ、」とあるを 「あり、」と訂正。 ２、同頁９行目に 「クロロブロモ・・・」とあるを ［クロロブロモ・・・」と訂正。 ３、明細書第７頁１１行目に 「プロス段階」とあるを 「プロセス段階」と訂正。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 Ｓｉ−Ｘ＿４（ I ） （式中、ＸはＲおよびＯＲであり、Ｒは同一もしくは異
   なったアルキル基および芳香族基を表わす。ただしＸは
   、全てＲであることはない。）で示される有機シリコー
   ン化合物を透過膜を用いパーベーパレーション法により
   、不純物を分離精製することを特徴とする有機シリコー
   ン化合物の精製方法。
2. （２）該不純物が水、アルコール類、有機ハロゲン化物
   の少なくとも１種または、これらの混合物である請求項
   １記載の方法。