JPH0450661B2 - - Google Patents
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- JPH0450661B2 JPH0450661B2 JP56191381A JP19138181A JPH0450661B2 JP H0450661 B2 JPH0450661 B2 JP H0450661B2 JP 56191381 A JP56191381 A JP 56191381A JP 19138181 A JP19138181 A JP 19138181A JP H0450661 B2 JPH0450661 B2 JP H0450661B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- cutting
- substrate
- power
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- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザー光により基板に同心円状の溝
又は信号をカツテイングする同心円溝カツテイン
グ装置に関する。
又は信号をカツテイングする同心円溝カツテイン
グ装置に関する。
従来の同心円状溝カツテイング装置について第
１図により説明する。１はレーザー発振器、２は
前記レーザー発振器１から出力されるレーザー光
のパワーを制御するレーザー変調器、３は前記レ
ーザー変調器２を駆動するレーザー変調器駆動
部、４は同心円状に溝又は信号をカツテイングさ
れる円盤状の基板５を回転させるターンテーブル
部、６はレーザー光の前記基板５への照射位置イ
を変化させるためにレーザー光学系７を移動させ
る送り機構、８はこれらの制御回路部である。こ
のような装置においては、基板５に同心円状に溝
又は信号をカツテイングする場合、第３図に示す
ように基板５の周方向に対してカツテイング期間
Ａとカツテイングしない期間Ｂとがあり、また基
板５の半径方向に対してもカツテイングする期間
Ｃとカツテイングしない期間Ｄ，Ｅとがある。Ｒ
は基板５の半径を示す。同心円状の溝又は信号の
カツテイングをするには、基板５が１回転する間
にレーザー変調器２を駆動させ、カツテイング期
間Ａ及びカツテイングしない期間Ｂをつくり、そ
のあとカツテイングしない状態のままレーザー光
照射位置イを１ピツチ分だけ半径方向に移動させ
て再びカツテイング期間Ａ及びカツテイングしな
い期間Ｂをつくる。ここで期間Ｂがない状態もあ
りうる。以下同様の動作を繰り返してカツテイン
グ基板を完成させる。第２図ａにレーザー変調器
駆動部３から出力される駆動信号を示す。１ピツ
チ分移動する毎にレーザーパワーのオン信号が出
ている。第２図ｂに１ピツチ分の詳細タイムチヤ
ートを示す。Ｆは同心円状カツテイング期間、Ｇ
は１ピツチ移動期間、Ｈは１サイクル分の期間、
ａは記録信号、ｂは溝カツテイング信号である。
従来の同心円状溝カツテイング装置においては、
第３図に示すようなカツテイングを行なう場合、
カツテイング期間Ａはレーザー変調器２の出力を
制御して溝又は信号をカツテイングし、カツテイ
ングしない期間Ｂ及び１ピツチ移動期間Ｇはレー
ザー変調器２の出力を最小になるように制御して
カツテイングしなければならない。またカツテイ
ング期間Ａの間はサーボ回路等によりレーザーパ
ワーを安定なレベル状態にして溝又は信号をカツ
テイングする必要があつた。したがつて、従来装
置には下記の如く問題がある。
１図により説明する。１はレーザー発振器、２は
前記レーザー発振器１から出力されるレーザー光
のパワーを制御するレーザー変調器、３は前記レ
ーザー変調器２を駆動するレーザー変調器駆動
部、４は同心円状に溝又は信号をカツテイングさ
れる円盤状の基板５を回転させるターンテーブル
部、６はレーザー光の前記基板５への照射位置イ
を変化させるためにレーザー光学系７を移動させ
る送り機構、８はこれらの制御回路部である。こ
のような装置においては、基板５に同心円状に溝
又は信号をカツテイングする場合、第３図に示す
ように基板５の周方向に対してカツテイング期間
Ａとカツテイングしない期間Ｂとがあり、また基
板５の半径方向に対してもカツテイングする期間
Ｃとカツテイングしない期間Ｄ，Ｅとがある。Ｒ
は基板５の半径を示す。同心円状の溝又は信号の
カツテイングをするには、基板５が１回転する間
にレーザー変調器２を駆動させ、カツテイング期
間Ａ及びカツテイングしない期間Ｂをつくり、そ
のあとカツテイングしない状態のままレーザー光
照射位置イを１ピツチ分だけ半径方向に移動させ
て再びカツテイング期間Ａ及びカツテイングしな
い期間Ｂをつくる。ここで期間Ｂがない状態もあ
りうる。以下同様の動作を繰り返してカツテイン
グ基板を完成させる。第２図ａにレーザー変調器
駆動部３から出力される駆動信号を示す。１ピツ
チ分移動する毎にレーザーパワーのオン信号が出
ている。第２図ｂに１ピツチ分の詳細タイムチヤ
ートを示す。Ｆは同心円状カツテイング期間、Ｇ
は１ピツチ移動期間、Ｈは１サイクル分の期間、
ａは記録信号、ｂは溝カツテイング信号である。
従来の同心円状溝カツテイング装置においては、
第３図に示すようなカツテイングを行なう場合、
カツテイング期間Ａはレーザー変調器２の出力を
制御して溝又は信号をカツテイングし、カツテイ
ングしない期間Ｂ及び１ピツチ移動期間Ｇはレー
ザー変調器２の出力を最小になるように制御して
カツテイングしなければならない。またカツテイ
ング期間Ａの間はサーボ回路等によりレーザーパ
ワーを安定なレベル状態にして溝又は信号をカツ
テイングする必要があつた。したがつて、従来装
置には下記の如く問題がある。
第２図に示す如くレーザーパワーをオンして
いる期間がオフしている期間に比べて極めて短
かいレーザーパワーのサーボをかけることが困
難である。
いる期間がオフしている期間に比べて極めて短
かいレーザーパワーのサーボをかけることが困
難である。
レーザーパワーがオンしている期間を長くし
て安定なレーザーパワーサーボをかけようとす
ると、ターンテーブルをゆつくり回転させてカ
ツテイング時間を長くする必要がある。
て安定なレーザーパワーサーボをかけようとす
ると、ターンテーブルをゆつくり回転させてカ
ツテイング時間を長くする必要がある。
レーザー変調器２は通常レーザーパワーが零
になるようにしておき、カツテイング期間Ａの
時のみオンにする必要があり、レーザー変調器
２に無理がかかり易い。
になるようにしておき、カツテイング期間Ａの
時のみオンにする必要があり、レーザー変調器
２に無理がかかり易い。
本発明は上記問題点を解消した同心円状溝カツ
テイング装置の提供を目的とする。
テイング装置の提供を目的とする。
すなわち本発明は、ターンテーブルに搭載され
た基板に同心円上の溝又は信号をカツテイングす
るためのレーザー光を発生するレーザー発振器
と、前記レーザー光のパワーを制御するレーザー
変調器と、このレーザー変調器を通過したレーザ
ー光をモニターしてレーザー変調器を制御するこ
とにより前記基板に照射するレーザー光のパワー
を調節するサーボ回路部と、前記基板に照射する
レーザー光の光路を開閉するシヤツタとを設け、
所定の位置にレーザー照射位置に移動する期間、
前記サーボ回路部を動作状態とし、移動後のカツ
テイング期間には前記サーボ回路部を不動作と
し、かつ前記シヤツタをレーザー光のパワーを下
げた状態で開閉して前記基板に溝または信号をカ
ツテイングするように構成したものであり、レー
ザー光のパワーがシヤツタが閉じた状態で調整
し、かつレーザーパワーを一旦下げた状態でシヤ
ツタを開くため、レーザー照射光の記録パワーが
一定で、シヤツタの動作時間の影響をうけない、
安定な溝又は信号のカツテイングを行なえるもの
である。
た基板に同心円上の溝又は信号をカツテイングす
るためのレーザー光を発生するレーザー発振器
と、前記レーザー光のパワーを制御するレーザー
変調器と、このレーザー変調器を通過したレーザ
ー光をモニターしてレーザー変調器を制御するこ
とにより前記基板に照射するレーザー光のパワー
を調節するサーボ回路部と、前記基板に照射する
レーザー光の光路を開閉するシヤツタとを設け、
所定の位置にレーザー照射位置に移動する期間、
前記サーボ回路部を動作状態とし、移動後のカツ
テイング期間には前記サーボ回路部を不動作と
し、かつ前記シヤツタをレーザー光のパワーを下
げた状態で開閉して前記基板に溝または信号をカ
ツテイングするように構成したものであり、レー
ザー光のパワーがシヤツタが閉じた状態で調整
し、かつレーザーパワーを一旦下げた状態でシヤ
ツタを開くため、レーザー照射光の記録パワーが
一定で、シヤツタの動作時間の影響をうけない、
安定な溝又は信号のカツテイングを行なえるもの
である。
以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明す
る。第４図において、９はレーザー発振器、１０
は前記レーザー発振器９より出るレーザー光のパ
ワーを制御するレーザー変調器、１１は前記レー
ザー変調器１０を駆動するレーザー変調器駆動
部、１２は同心円状に溝又は信号をカツテイング
される円盤状の基板１３を回転させるためのター
ンテーブル部、１４はレーザー光の基板１３への
照射位置を変化させるためにレーザー光学系１５
を移動させる送り機構、１６ａ，１６ｂはレーザ
ーパワーをモニターし、レーザー変調器駆動部１
１を制御してレーザーパワーを調節するサーボ回
路部、１７はレーザー光の光路を開閉するシヤツ
タ、１８は前記シヤツタ１７の駆動回路部、１９
は制御回路部である。
る。第４図において、９はレーザー発振器、１０
は前記レーザー発振器９より出るレーザー光のパ
ワーを制御するレーザー変調器、１１は前記レー
ザー変調器１０を駆動するレーザー変調器駆動
部、１２は同心円状に溝又は信号をカツテイング
される円盤状の基板１３を回転させるためのター
ンテーブル部、１４はレーザー光の基板１３への
照射位置を変化させるためにレーザー光学系１５
を移動させる送り機構、１６ａ，１６ｂはレーザ
ーパワーをモニターし、レーザー変調器駆動部１
１を制御してレーザーパワーを調節するサーボ回
路部、１７はレーザー光の光路を開閉するシヤツ
タ、１８は前記シヤツタ１７の駆動回路部、１９
は制御回路部である。
カツテイング信号がない場合、つまり第３図に
おける期間Ｂ，Ｄ，Ｅにおける動作について先ず
説明する。カツテイング信号が入つたとき安定な
レーザー光を得ることが必要なので、カツテイン
グ信号がない場合はレーザーパワーのサーボ回路
部１６ａ，１６ｂを第５図ａ及び第６図ａに示す
ようにオンにしておき、また基板１３にレーザー
光が照射されないようにシヤツタ１７によりレー
ザー光を遮光しておく。このようにすることによ
り、カツテイング時以外の時のレーザーパワーを
安定な状態でオンさせておき、しかも基板１３は
レーザー光を照射させないでおくことができる。
おける期間Ｂ，Ｄ，Ｅにおける動作について先ず
説明する。カツテイング信号が入つたとき安定な
レーザー光を得ることが必要なので、カツテイン
グ信号がない場合はレーザーパワーのサーボ回路
部１６ａ，１６ｂを第５図ａ及び第６図ａに示す
ようにオンにしておき、また基板１３にレーザー
光が照射されないようにシヤツタ１７によりレー
ザー光を遮光しておく。このようにすることによ
り、カツテイング時以外の時のレーザーパワーを
安定な状態でオンさせておき、しかも基板１３は
レーザー光を照射させないでおくことができる。
次にカツテイング信号が入つた場合における動
作について説明する。レーザーパワーのサーボ回
路部１６ａ，１６ｂをオフにし、レーザーパワー
のモニター値をコンデンサ等でホールドする。レ
ーザー変調器１０及び駆動回路部１８へ制御回路
部１９から第５図ｂ，ｃ及び第６図ｂ，ｃに示す
ような駆動信号が入力される。このときシヤツタ
１７は、第５図ｃ及び第６図ｃに示すように、レ
ーザー変調器１０の駆動信号にカツテイング信号
を重畳し、駆動信号が中間値より零レベルに近づ
きレザーパワーがオフの状態になつた時に開き、
第５図ｄ及び第６図ｄに示すカツテイング期間を
経て、レーザーパワーが再びオフになつた状態の
ときに閉じる。かくして基板１３に溝又は信号が
カツテイングされる。
作について説明する。レーザーパワーのサーボ回
路部１６ａ，１６ｂをオフにし、レーザーパワー
のモニター値をコンデンサ等でホールドする。レ
ーザー変調器１０及び駆動回路部１８へ制御回路
部１９から第５図ｂ，ｃ及び第６図ｂ，ｃに示す
ような駆動信号が入力される。このときシヤツタ
１７は、第５図ｃ及び第６図ｃに示すように、レ
ーザー変調器１０の駆動信号にカツテイング信号
を重畳し、駆動信号が中間値より零レベルに近づ
きレザーパワーがオフの状態になつた時に開き、
第５図ｄ及び第６図ｄに示すカツテイング期間を
経て、レーザーパワーが再びオフになつた状態の
ときに閉じる。かくして基板１３に溝又は信号が
カツテイングされる。
このようにカツテイングが一旦終り、シヤツタ
１７が閉じた後、レーザーパワーのサーボ回路部
１６ａ，１６ｂは再びオンされる。このときレー
ザパワーのモータ値はコンデンサ等でホールドさ
れていたので、短期間で安定な値になり、サーボ
がすぐに安定状態になる。以上がターンテーブル
１回転についての動作であるが、その後送り機構
１４によりレーザー光照射位置が基板１３の半径
方向に１ピツチ分送られ、以下同様の動作が繰り
返される。
１７が閉じた後、レーザーパワーのサーボ回路部
１６ａ，１６ｂは再びオンされる。このときレー
ザパワーのモータ値はコンデンサ等でホールドさ
れていたので、短期間で安定な値になり、サーボ
がすぐに安定状態になる。以上がターンテーブル
１回転についての動作であるが、その後送り機構
１４によりレーザー光照射位置が基板１３の半径
方向に１ピツチ分送られ、以下同様の動作が繰り
返される。
本発明は以上説明したように実施し得るもので
ある、これによれば下記のような効果を得ること
ができる。
ある、これによれば下記のような効果を得ること
ができる。
レーザー照射位置を所定位置に移動する期間
レーザーパワーのサーボをかけているので、サ
ーボがかけ易くレーザーパワーを一定に保持し
易いことから、溝又は信号を安定にカツテイン
グし得る。
レーザーパワーのサーボをかけているので、サ
ーボがかけ易くレーザーパワーを一定に保持し
易いことから、溝又は信号を安定にカツテイン
グし得る。
カツテイング期間以外のところでレーザーパ
ワーのサーボをかけているので、サーボをかけ
る時間だけカツテイングする時間を短かくでき
る。
ワーのサーボをかけているので、サーボをかけ
る時間だけカツテイングする時間を短かくでき
る。
レーザーパワーのサーボのためのレベルはレ
ーザー変調器の零及び飽和点の中間レベルを使
えるので、レーザー変調器に無理がかからな
い。
ーザー変調器の零及び飽和点の中間レベルを使
えるので、レーザー変調器に無理がかからな
い。
シヤツタの開閉はレーザーパワーを下げて行
うため、シヤツタの開閉時間に影響されない精
度のよいカツテイングが行える。
うため、シヤツタの開閉時間に影響されない精
度のよいカツテイングが行える。
シヤツタを用いてレーザー照射を基板に行わ
ないようにしてレーザーパワーの調整を行うの
で、レーザーパワーの調整時間とは無関係に回
転している基板へのレーザー照射パワー等の設
定を行うことができ精度のよいカツテイングが
可能となる。
ないようにしてレーザーパワーの調整を行うの
で、レーザーパワーの調整時間とは無関係に回
転している基板へのレーザー照射パワー等の設
定を行うことができ精度のよいカツテイングが
可能となる。
第１図は従来の同心円溝カツテイング装置の全
体構成図、第２図ａ，ｂは同装置の動作を説明す
るタイムチヤート、第３図は基板に対するカツテ
イング部分の説明図、第４図は本発明の一実施例
における同心円溝カツテイング装置の全体構成
図、第５図ａ〜ｄは同装置の動作を説明するタイ
ムチヤート、第６図ａ〜ｄは第５図ａ〜ｄに示す
タイムチヤートの１ピツチ分の拡大図である。 ９……レーザー発振器、１０……レーザー変調
器、１２……ターンテーブル部、１３……基板、
１６ａ，１６ｂ……サーボ回路部、１７……シヤ
ツタ。
体構成図、第２図ａ，ｂは同装置の動作を説明す
るタイムチヤート、第３図は基板に対するカツテ
イング部分の説明図、第４図は本発明の一実施例
における同心円溝カツテイング装置の全体構成
図、第５図ａ〜ｄは同装置の動作を説明するタイ
ムチヤート、第６図ａ〜ｄは第５図ａ〜ｄに示す
タイムチヤートの１ピツチ分の拡大図である。 ９……レーザー発振器、１０……レーザー変調
器、１２……ターンテーブル部、１３……基板、
１６ａ，１６ｂ……サーボ回路部、１７……シヤ
ツタ。
Claims (1)
- １ ターンテーブルに搭載された基板に同心円上
の溝または信号をカツテイングするためのレーザ
ー光を発生するレーザー発振器と、前記レーザー
光のパワーを制御するレーザー変調器と、このレ
ーザー変調器を通過したレーザー光をモニターし
てレーザー変調器を制御することにより前記基板
に照射するレーザー光のパワーを調節するサーボ
回路部と、前記基板に照射するレーザー光の光路
を開閉するシヤツタとを設け、所定の位置にレー
ザー照射位置を移動する期間、前記サーボ回路部
を動作状態とし、移動後のカツテイング期間には
前記サーボ回路部を不動作とし、かつ前記シヤツ
タをレーザー光のパワーを下げた状態で開閉して
前記基板に溝または信号をカツテイングするよう
に構成したことを特徴とする同心円状溝カツテイ
ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56191381A JPS5893591A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | 同心円状溝カッティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56191381A JPS5893591A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | 同心円状溝カッティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5893591A JPS5893591A (ja) | 1983-06-03 |
| JPH0450661B2 true JPH0450661B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=16273642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56191381A Granted JPS5893591A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | 同心円状溝カッティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5893591A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0746438B2 (ja) * | 1984-11-20 | 1995-05-17 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学的情報記録再生装置 |
| US8164818B2 (en) | 2010-11-08 | 2012-04-24 | Soladigm, Inc. | Electrochromic window fabrication methods |
| US9885934B2 (en) | 2011-09-14 | 2018-02-06 | View, Inc. | Portable defect mitigators for electrochromic windows |
| US9507232B2 (en) | 2011-09-14 | 2016-11-29 | View, Inc. | Portable defect mitigator for electrochromic windows |
| EP2825911B1 (en) | 2012-03-13 | 2018-05-09 | View, Inc. | Pinhole mitigation for optical devices |
| US9341912B2 (en) | 2012-03-13 | 2016-05-17 | View, Inc. | Multi-zone EC windows |
| CN107552950B (zh) | 2012-05-18 | 2021-01-01 | 唯景公司 | 限制光学装置中的缺陷 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125620A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-02 | ||
| JPS54164152A (en) * | 1978-06-17 | 1979-12-27 | Ricoh Kk | System of adjusting quantity of light |
-
1981
- 1981-11-27 JP JP56191381A patent/JPS5893591A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125620A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-02 | ||
| JPS54164152A (en) * | 1978-06-17 | 1979-12-27 | Ricoh Kk | System of adjusting quantity of light |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5893591A (ja) | 1983-06-03 |
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