JPH04504912A - 測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定するための測定センサ - Google Patents

測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定するための測定センサ

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JPH04504912A JP3503950A JP50395091A JPH04504912A JP H04504912 A JPH04504912 A JP H04504912A JP 3503950 A JP3503950 A JP 3503950A JP 50395091 A JP50395091 A JP 50395091A JP H04504912 A JPH04504912 A JP H04504912A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測 定するための測定センサ技術分野 本発明は、請求の範囲第1項の上位概念に記載の測定媒体の中に含まれているガ ス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定するための測定センサと、請 求の範囲第11項の上位概念に記載のガス混合気又は液体を電流測定式で測定す るために測定センサを用いる測定センサの使用方法と、請求の範囲第12項の上 位概念に記載のガス混合気又は液体の中の塩素又は水素を電流測定式で測定する ために測定センサを用いる測定センサの使用方法とに関する。
背景技術 生物゛学的及び生物化学的プロセスを監視するために及び飲料製造工場及び醸造 工場おいて、膜により被覆されている測定センサ特に電流測定式センサが、測定 媒体の中に含まれているガス及び/非イオン性化合物例えば酸素を測定するため に用いられる場合が増加している。この形式の測定センサの最適な機能例えば短 い応答時間、高い感度、小さい検出可能な濃度最少値、良好な長時間安定性を得 るために、例えば温度変動により惹起される、測定媒体と測定センサの内部室と の間の圧力差が大幅に回避されるか又は補償されるなければならないことに注意 する必要がある。とりわけ、この形式の測定センサが蒸気殺菌可能であり、従っ て蒸気殺菌の際に生じる圧力差が測定センサの機能を損なわないことが必要であ る。換言すれば、測定媒体とセンサ内部室との間の高い圧力差による膜の変形を 阻止する手段を実現する必要がある0例えば米国特許第2913386号明細書 に記載の補強されていないガス透過性の膜を有する測定センサの場合には十分な 圧力安定性は大規模な装置コストによってのみしか実現できない、膜の望ましく ない変形に抗するために種々の方法が試され、次の手段が実現された。
a)適切な装置による圧力補償。
b)測定センサの内部室へ向かう方向での測定媒体の圧力勾配の維持。
C)膜の補強。
a)に記載の圧力補償は、例えば米国特許第4252627号明細書に記載の電 解質により充填されている内部室を有する酸素電極の場合にはセンサケーシング が、センサ内部室に測定媒体を接続するための介在を行う空隙を設けられること により実現される。これにより迅速かつ正確な圧力補償が実現されることが可能 である。しかしこの場合、測定媒体の中の揮発性化合物が阻止されずにセンサ内 部室に侵入するおそれがある、これにより電解室の組成が変質するか、又は電解 室が存在しない場合には、センサ内部室の中に存在するガス相が変質する。いず れの場合にも測定誤差が生じることがある。
a)に記載の圧力補償は、可撓性膜の使用によるか又は例えば米国特許第445 5213号明細書に記載の液体の滴を用いるか又はセンサケーシングの中で可能 なピストンにより実現されることが可能である。更に圧力補償は、センサ内部室 がある特定の値の過圧になると開く弁を用いて実現されることが可能である。
このようにして内部圧力をある程度の限界内に保持することが可能であるが、し かし弁を設けることにより装置コストが著しく増加し、多数の用途において望ま しいセンサの小型化が狙まれる。
b)に記載の圧力勾配の調整は例えば、センサ内部室が大気に対して開いており 、従って膜が測定媒体の圧力により下敷きに押圧されることにより実現される。
これにより膜は、電解室膜の維持のために必要な下敷きの粗さが過剰に大きく選 択されず、圧力がある特定の最大値を越えない場合にはほとんど変形しない。内 部室がガスにより充填されているセンサの場合には満足のいく機能は、大気の侵 入により測定が影響されることがない場合には保証される。
以上の説明から、十分な圧力安定性と、ひいては膜の望ましくない変形の阻止と は、a)及びb)に記載の手段による場合には著しい装置コストを伴うことが分 かる。これは、単一で補強されずガス透過性を有する膜を備えるすべての測定セ ンサに当嵌る。
C)に記載の裏補強方法のコストはより小さい、補強は、米国特許第37185 62号明細書から公知のように例えば強化材例えばステンレススチール等の堅牢 な材料の綱又は有孔プレートを埋込むことにより実現できる。この米国明細書は 、多孔織物が強化材として埋込れている選択的透過性を有する材料例えばシリコ ンゴムから成る膜を有する電極装置に関する。この場合に強化材として重合体か ら成る綱又はスチール網が優先的に使用される。このような膜は化学的耐性を有 しない、化学的耐性の欠如は、シリコンゴムから形成されている場合に特に著し い、化学的耐性の欠如は、とりわけ腐食性の洗浄剤に対して著しい、このような 膜は、生物的又は生物化学的プロセスにおいて使用される場合に例えば細菌繁殖 により汚染されやすく、これにより測定ガス又は揮発性化合物が、測定センサの センサ内部室の中に設けられているセンサ素子部分へ阻止されずに到達する。高 い透過性を特徴とするシリコンゴムの代りに、ふう化炭化水素例えばポリテトラ フルオロエチレン(PTFE)すなわち「テフロン」から成る膜が使用される場 合には膜は非常に良好な化学的耐性を有するが、しかし測定ガスに対する膜の透 過性がシリコンゴムの透過性のおおよそ10の2乗倍小さい欠点を有する。
米国特許第3718563号明細書から、2つの層から形成されている膜を有す るポーラログラフイー形測定センサが公知である。この場合、媒体側に配置され ている第1の層は、シリコンゴムの透過性にほぼ等しい透過性を有する材料から 形成されており、これに対してセンサ内部室に対向して位置する第2の層は、ガ ス及び水蒸気に対する透過性が第1の層に比して大幅に高い疏水性材料から成る 。これら2つの層は互いに接合されていない。しかしこれらの層は、電解質溶液 及び/又は測定ガスが層の間の中間質の中に侵入することが阻止されるようにセ ンサケーシングの中に固定されている。膜のこの構造により、陰極で消費される 測定ガスが、1つの層から形成されている膜すなわち単一層膜の場合に比して大 幅に迅速に補給されることが実現される。このようにして、2つの層から形成さ れているこの膜により長時間にわたり測定ガスの欠乏が攪拌しなくても回避され 、これにより正確な測定結果が得られ、この膜を備える測定センサの応答時間が 短くなる。しかし、媒体側に配置されている第1の層の化学的耐性がその材料特 性に起因して小さく、生物学的又は生物化学的プロセスに使用される場合には細 菌繁殖により汚染されやすい欠点がある。
前述の欠点を回避するためにスイス特許CH−P S・・・・・・(特許申請第 02503/88−9号)で、膜を2つの層から形成することが提案された。こ の場合、媒体側に配置されている第1の層は、化学的に耐性の材料から成り、細 菌繁殖に対する耐性を有する。第1の層の材料に比してより高い透過性を有する 材料から成る第2の層の中には支持剤が埋込られる。この膜を備える測定センサ は前述の測定センサと異なり、高い化学的耐性、細菌繁殖に対する耐性、膜の安 定性を有利な特徴として有する。しかしこの膜を備える測定センサは、測定セン サの蒸気殺菌を必要とする用途のためには測定媒体とセンサ内部室との間のより 大きい圧力差に対して十分に耐性を有しない。
技術的課題 本発明の課題は、特に蒸気殺菌を行っている間に生じる温度変動により生じる、 測定媒体と測定センサ内部室との間のたとえ10バールを越える領域内の圧力差 に対しても狂わず、化学的耐性を有し、汚れにくい特性を有する、液状又はガス 状の測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を測定するた めの測定センサを提供することにある。
上記課題は本発明により請求の範囲第1項の特徴部分に記載の特徴を有する測定 センサにより解決される。
膜が少なくとも3つの層の組合せから成り、両方の外側層に比して測定ガス及び /又は非イオン性化合物(簡単のために以降において測定試料と呼ぶ)に対する 透過性が大幅に高い中間層と、外側に位置する両方の層とが化学的耐性を有しか つ汚れに(く、さらにセンサケーシングの中に圧力補償装置が埋込れていること により、たとえ測定媒体とセンサ内部室との間の圧力差がほぼ20バールであっ ても膜の変形が実際の上で完全に回避され、陰極で消費される測定試料の補給が 特別の措置又は装置コストなしに保証され、腐食性化学物質による膜の損傷又は 細菌繁殖による汚染が阻止される。
冒頭に記載の形式の測定センサの有利な実施例は請求の範囲第2項から第10項 に記載されている。
請求の範囲第2項に記載の実施例により、層が互いに分離することが回避され、 膜の非常に良好な安定性が保証される。
請求の範囲第3項に記載の実施例に対応して第1の層及び第3の層のための材料 を選択し、請求の範囲第4項に記載の実施例に対応して第2の層を第1の層及び 第3の層と組合せることにより、一方では作動中に測定媒体に接触する膜表面の 高い化学的耐性が保証され、他方では第1の層と第3の層とのために選択された 材料の間の透過性差に起因して測定試料の補給が保証され、従って測定時間が長 くてもセンサ内部室の中の測定試料が欠乏せず、従って測定結果が狂うことがな い。
請求の範囲第5項に記載の実施例に対応して中間の第2の層の中に強化材を埋込 むことにより膜の非常に良好な形状安定性が実現される。この場合、ステンレス スチール網が特に優先的に使用される。
請求の範囲第6項に記載の実施例に対応してセンサケーシングの中に膜を不動に 固定しかつ密閉することにより、測定センサの作動中に測定ガス及び/又は非イ オン化合物の交換が膜を介してしか行われず、測定センサにおけるその他のすべ ての領域は測定媒体及び周囲に対して気密に密閉され、従って例えば測定媒体含 まれている揮発性物質又は周囲からの大気等の汚れの侵入が効果的に阻止される 。この効果は、請求の範囲第7項に記載の実施例により大幅に強化される。更に この実施例により測定センサの簡単な組立が可能にある。
請求の範囲第8項に記載の実施例に対応する圧力補償装置により測定媒体とセン サ内部室との間の正負両方向の圧力勾配が迅速に減少されることが可能となる。
請求の範囲第9項及び第10項に記載の実施例は、一方では例えば部分的に洗浄 の際に使用される腐食性の化学物質により腐食に対する高い耐性を保証し、他方 では例えば蒸気殺菌を行っている際に生じる高温の作用に対する高い耐性を保証 する。
更に、センサケーシングが汚れたり細菌繁殖により汚染される原因となる、セン サケーシングの表面の凹凸又は亀裂が回避される。
冒頭に記載の測定センサは、ガス混合気又は液体の中の酸素を電流測定式で測定 するために用いると特に有利である。しかしこのような測定センサは、ガス混合 気又は液体の中の塩素又は水素を測定するためにも用いることが可能である。
次に本発明を実施例に基づき図を用いて詳細に説明する。
図面の簡単な説明 第1図は膜の断面図、第2図は開放状態の測定センサの部分的に断面の側面図、 第3図は第2図の断面部分の正面図である。
発明の最良の実施形態 第1図は、3つの層から形成されている膜2を示す。
以下において膜2は3層膜と呼ばれる。膜2は第1の層4と、例えばステンレス スチール製綱の強化材(基材)8が中に埋込れている第2の層6と、第3の層1 0とを有する。装着状態ではセンナ内部室に対向して位置する第1の層は好適に は、有利にはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であるぶつ化重合体のシ ートから成り、最大0.1mmの厚さを有する。センサ内部室に面しない側の第 1の層4の表面の上に第2の層6が装着されている。第2の層6は有利にはシリ コンゴムから形成されている。第2の層6は、有利には酸素である測定するガス 及び/又は非イオン化合物のための透過性を有する。第2の層のこの透過性は、 第1の層の同透過性の約10の2乗倍だけ大きい。第2の層6の中に支持材9と して埋込れているステンレススチール製網は、力学的に安定な合成樹脂材料の綱 又は織物により置換されることも可能である。このステンレススチール製網は通 常は20から100μmの厚さを有する。綱の厚さは、30から150amの範 囲内にある第2の層5のその都度の厚さに依存する。
第1の層4から対向方向を背けて位置する第2の層6の表面の上に第3の層10 が装着されている。第3の層10は、第1の層と同一のふう化重合体か又は同様 の透過性を有する材料のシートから形成されている。
第3の層10の厚さは、第1の層4の厚さより薄く、通常は30μmを越えない 、第3の層10は、隣接している第2の層5を完全に被覆している。これにより 第3の層10は、測定媒体に含まれているか又は洗浄中に使用された浸食性の化 学物質対して第2の層5を作動中に有効に保護する。第3の層10は、その材料 が疏水性なので塵埃が付着しに(<、細菌の繁殖から保護する。3つの層は互い にしっかりと接合され、従って一体的な膜2が形成されている。これは、第2の 層6に対向して位置する第1の層6の表面及び第3の層の表面が、膜の製造時に 接合の前に疏水化されるか又はカップリング剤によりコーティングされることに より実現されることが可能である。親水化は例えばエツチングにより行うことが できる。
第2図は、測定媒体の中に含まれているガス及び非イオン化合物の測定に用いる ことができる、膜モジュール14を有する測定センサ12を示す、膜モジュール 14は、例えばステンレススチール製の管状ケーシング16により形成され、電 極シャフト18に接続されることが可能である。膜モジュールI4は第1の端部 領域20の中に膜24のための保持部材22を有する。膜24はその構成におい て、第1図に示されている3層膜として形成されている膜に対応する。膜24を 担持している端部領域20に対して反対側に位置する第2の端部領域の中に膜モ ジュール14は雌ねじ28を有する。更に第1の端部領域18と第2の端部領域 との間に圧力補償装置30が配置されている。圧力補償装置30は、例えば加硫 可能なふっ素ゴム等の高弾性で化学的及び熱的な耐性を有する材料から成るチュ ーブにより形成され、ケーシングI6の壁の中に嵌込れている。膜モジュール1 4に接続されることが可能な有利にはステンレススチールから成る電極シャフト 18は雄ねじ32を有する。雄ねじ32は膜モジュール14の雌ねじ2日に対応 し、電極シャフト18に膜モジュール14を螺合することを可能にする。電極シ ャフト18の中には有利にはガラス製の内部体34が固定されている。更に電極 シャフト18は管継紐部材36を有する。管継紐部材36は内部体34を部分的 に包囲し、内部体34と共働して中空室38を包囲している。内部体34は、内 部体34における、管継紐部材36に隣接している部分の中に第1の電極40を 有する。電8i40は例えば銀製リングにより形成され、陽極として用いられる 。更に内部体34は、陰極を形成する第2の電極42を有する。電極42は、電 極42における、管継紐部材36に面しない側の端部領域の中で固定され、有利 には内部体34の中に溶封されている白金ワイヤにより形成されている。更に電 極シャフト18は、電極シャフト18における、雄ねじ32に隣接し管継紐部材 36に対して反対側に位置する領域領域の中に、電極シャフト18が膜モジュー ル14と螺合されると外部に対してセンサ内部室を気密に密封する0リング密閉 部材44を有する。
第3図は、ケーシング16の端部領域20と26との間に配置されている圧力補 償装置30を有する、第2図の膜モジュール14の外面図である。この図から圧 力補償装置が、外側表面が平滑であり、汚れ又は細菌が付着する凹凸又は亀裂を 有しないようにケーシングの壁の中に嵌込れていることが分かる。
例 酸素測定のための測定センサのための膜a) 膜の構造 3層膜は、第1図に示されている構造を有し、次の要素から成る。
25μmの層厚のPTFE製の第1の層と、90μmの厚さのスチール網が埋込 れている120μmの層厚のシリコンゴム製の第2の層と、6μmの層厚のPT FE製の第3の層。
b) 膜の機能 シリコンゴム層は高透過性かつ可撓性であり、エツチングされたPTEF製の隣 接の層に対しても埋込されている鋼網に対しても優れた付着能力を有する。この ようにして3つすべての層の間の確実な接合が保証されている。測定センサが作 動中には媒体側に配置されているPTFE層は、例えば醸造工場で洗浄のために 用いられる高温のか性アルカリ溶液の浸食に対しても、好気性バイオプロセスの 場合の細菌繁殖に対しても、シリコンゴムから成る層を効果的に保護する。
C) 膜の製造 先ず初めにPTFE製の2つの層は、層表面を親水化するためと、これらの層の 間に設けるシリコンゴム製層に対するこれらの層の付着性を改善するためとに片 側がエツチングされる。一方のPTFE層のエツチングされた表面にスチール網 が載置される。次いでシリコンゴムペーストが、スチール網が完全に被覆される ように塗布される。次いでシリコンゴム層に第2のPTFE層が、第2のPRF E層のエツチングされている表面がシリコンゴム層の対向して位置するように載 置される。上記の3つの層から成る構造体はカレンダを通され、これにより余分 なシリコンゴムが排除され、構造体は所定の厚さに形成される。次いで、このよ うにして得られた膜構造体は、シリコンゴムの重縮合を作用するために水槽の中 に入れられる0重縮合が完全に終了するとただちに3つの層は互いに分離不能に 接合され、一体的な膜を形成する0次いでこの膜は、酸素を電流式で測定する場 合には貴金属陰極である、内部体の中に埋込れたセンサ素子を包囲している測定 センサ内部室が測定センサの作動中には測定媒体に対して気密に密閉されている ように、測定センサのケーシングの中に不動に固定される。
d) 測定センサの機能 前記の3層膜を備えている測定センサの応答時間が、米国特許第3718562 号明細書に記載の膜を備えている測定センサの応答時間と比較された。後者の膜 は、媒体側に配置されている、化学的耐性を有し汚れが付着しに(い層を有しな い、後者の膜は、90μmの厚さのスチール網が埋込れている120μmの層厚 のシリコンゴム層と、センサ内部室に隣接する非付着性の25μmの層厚のPT FE層とから成る。別の比較として、膜が、60μmの層厚の単一のPTFE層 と、この層の中に埋込れている60μmの層厚のスチール網とにより形成されて いるいわゆる単一膜を有する測定センサが用いられた。この場合に25@Cにお いて次の応答時間(90%)が得られた。
a)前述の例における3層膜の場合には50秒。
b)米国特許第3718562号明細書に記載の膜の場合には30秒。
C)単一膜の場合には4.6分。
応動時間の比較は、3層膜の場合の応動時間と米国特許第3718562号明細 書に記載の膜の応動時間とがほぼ同一程度良好であり、これに対して単一膜を有 する測定センサの応動時間が約6倍という大幅に大きい値を有することを示す。
しかし有害な化学的影響及び細菌繁殖に対する耐性を比較すると、醸造工場及び 好気性バイオプロセスにおける比較実験から分かるように、a)に記載の3層膜 が、化学的影響特に高温のか性アルカリ溶液の作用に対する耐性の面でも、細菌 繁殖の面でもb)に記載の米国特許第3718562号明細書に記載の膜より著 しく優れていることが分かる。3層膜の媒体側表面は、化学的試薬特にか性アル カリ溶液による損傷を示さず、細菌繁殖も全く生じなかった。化学的試薬及び細 菌繁殖に対する同様に良好な耐性を、C)に記載の単一膜は示した。しかし応動 時間が非常に長いので工業的用途には適しない。
参照番号 2膜 4 第1の層 6 第2の層 8 保護材料 10 第3の層 12 測定センサ 14 膜モジュール 16 ケーシング 1日 電極シャフト 20 膜モジュール14の第1の端部領域22 膜のための保持部材 24膜 26 膜モジュール14のための第2の端部領域28 雌ねじ 30 圧力補償装置 32 Mlねじ 34 内部体 36 管継峡部材 38 中空室 40 第1の電極 42 第2の電極 440リング密閉部材 2L/ TAG、 2 r/(、、’。
要約書 (目的) 気体また液体中の特定のガス又は非イオン性化合物の量を測定するた めのセンサー電極のため膜を、当該ガス等の透過率を減少させることなく、圧力 差に対する耐性強度を大きくし、かつ雑菌等が繁殖しないように改良する。
(構成) 膜を三層構造とし、両側の層は透過率は小さいが化学的9機械的性質 が良い材質からなる薄い層とし、中央の層は化学的2機械的性質は悪いが透過率 の大きい材質からなる厚い層とし、さらにこの中央の層にスチール網等からなる 支持体を埋込む。
国際調査報告 国際調査報告

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.測定センサケーシングにより輪郭が形成されているセンサ内部室の中に測定 するガス及び/又は非イオン性化合物のためのセンサ素子が埋込られている内部 体と、センサケーシングの中に固定されセンサ内部室を閉じそして支持材により 補強されている膜とを具備し、センサケーシングにおける、膜を担持する部分が 膜モジュールを形成し、膜モジュールは内部体を担持する電極シャフトに接続さ れることが可能である、測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性 化合物を電流測定式で測定するための測定センサにおいて、膜(2、24)が少 なくとも3つの層から成り、装着状態においてセンサ内部室に面して位置し化学 的に耐性を有する材料から成る第1の層(4)が、第1の層(4)のセンサ内部 室に面しない表面に装着され第1の層(4)に比して測定ガス及び/又は非イオ ン性化合物に対する透過性が大幅に高い第2の層(6)に接合されており、第2 の層(6)の第1の層(4)の裏側にして位置する表面に第3の層(10)が装 着され、第3の層(10)は第2の層(6)を完全に被覆し、第3の層(10) は、測定ガス及び/又は非イオン性化合物に対する透過性の面で第1の層(4) と少なくとも近似的に同一であることと、膜モジュール(14)の中に圧力補償 装置(30)が組込れ、圧力補償装置(30)は、作動中に測定媒体とセンサ内 部室との間に圧力勾配が生じた場合には圧力勾配の正負に対応して変形されるこ とが可能であることを特徴とする測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非 イオン性化合物を電流測定式で測定するための測定センサ。
  2. 2.すべての3つの層(4、6、10)が互いに分離不能に接合され、一体的な 膜(2、24)を形成していることを特徴とする請求の範囲第1項記載の測定媒 体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定する ための測定センサ。
  3. 3.第1の層(4)と第3の層(10)とがふつ化重合体、有利には同一のふつ 化重合体から成ることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の測定媒 体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定する ための測定センサ。
  4. 4.第2の層(6)が、測定ガス及び/又は非イオン性化合物に対して高透過性 の材料、有利にはシリコンゴムから形成されていることを特徴とする請求の範囲 第1項から第3項のうちの1つの項に記載の測定媒体の中に含まれているガス及 び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定するための測定センサ。
  5. 5.第2の層の中に支持材、有利にはステンレススチール製網が埋込れているこ とを特徴とする請求の範囲第1項から第4項のうちの1つの項に記載の測定媒体 の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定するた めの測定センサ。
  6. 6.膜(2、24)が腹モジュール(14)の第1の端部領域の中に不動に固定 され、膜(2、24)が、作動状態での測定媒体とセンサ内部室との間の測定ガ ス及び/又は非イオン製化合物の交換が膜(2、24)を介してのみしか可能で ないように密閉されていることを特徴とする請求の範囲第1項から第5項のうち の1つの項に記載の測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合 物を電流測定式で測定するための測定センサ。
  7. 7.膜モジュール(14)の腹(2、24)に面しない第2の端部領域(26) の中に雌ねじ(28)が設けられ、雌ねじ(28)は、内部体を担持している電 極シャフト(18)に設けられている雄ねじ(32)に対応し、これにより膜モ ジュール(14)が電極シャフト(18)に螺合されることが可能であることを 特徴とする請求の範囲第1項から第6項のうちの1つの項に記載の測定媒体の中 に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定するための 測定センサ。
  8. 8.圧力補償装置(30)が、膜モジュール(14)における、膜(2、24) を担持している第1の端部領域(20)と、膜モジュール(14)における、雌 ねじ(22)が設けられている第2の端部領域(26)との間に配置されている ことを特徴とする請求の範囲第1項から第7項のうちの1つの項に記載の測定媒 体の中に含まれているガス及び/又は非イオン柱化合物を電流測定式で測定する ための測定センサ。
  9. 9.圧力補償装置(30)が、生物学的及び/又は化学的に不活性で熱的に耐性 の高弾性材料、有利には加硫可能なフルオルエラストマーから形成されているこ とを特徴とする請求項7に記載の測定媒体の中に含まれているガス及び/又は非 イオン性化合物を電流測定式で測定するための測定センサ。
  10. 10.圧力補償装置(30)が、膜モジュール(14)の外側表面が凹凸及び/ 又は■裂がないように膜モジュール(14)の壁の中に嵌込れているチューブと して形成されていることを特徴とする請求の範囲第7項又は第8項に記載の測定 媒体の中に含まれているガス及び/又は非イオン性化合物を電流測定式で測定す るための測定センサ。
  11. 11.ガス混合気又は液体中の酸素量を電流測定式で測定するために請求の範囲 第1項から第10項のうちの1つの項に記載の測定センサを用いることを特徴と する測定センサの使用方法。
  12. 12.ガス混合気又は液体の中の塩素又は水素を電流測定式で測定するために請 求の範囲第1項から第10項のうちの1つの項に記載の測定センサの使用方法。
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