JPH0449618A - ウエハ加工用フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、シリコンウェハ等を研磨加工する際に用いる
破損防止のためのウェハ加工用フィルムに関する。

〔従来の技術〕

半導体集積回路（ＩＣ）は通常、高純度シリコン単結晶
等をスライスしてウェハとした後、エツチング等により
集積回路を組み込み、ダイシングしてチップ化する方法
で製造されているが、これらの工程の中で、シリコン等
のウェハの破損を防止したり、加工を容易にするため、
ウェハ表面に粘着剤層を介して貼りつけるウェハ加工用
フィルムが用いられている。

一般に、粘着剤としては、水系エマルジョン粘着剤と溶
剤系粘着剤が用いられているが、安全面、衛生面、コス
ト面から考えて水系エマルジョン粘着剤の方が好ましい
。

また、ウェハ加工用フィルムをウェハ加工の用途に供し
た後、ウェハ表面を洗浄する際、溶剤系粘着剤を用いた
フィルムを使用した場合、水洗浄では汚染を除去しきれ
ず、手間がかかるが、水系エマルジョン粘着剤を用いた
フィルムでは、水洗浄でも十分に汚染を除去できるとい
う利点もある。

しかして、水系エマルジョン粘着剤を用いたフィルムを
使用すると、該フィルムを一週間程度以上貼付けて放置
した場合、あるいは、フィルムを貼付け、剥離した後、
該ウェハ上に粘着剤の残留物が存在した場合、ウェハが
腐食することがあった。

本発明のように粘着剤層付きフィルムがウェハ加工の用
途で使用される場合、ウェハからつくられる製品の性格
上、数μｍのオーダーの腐食も許されず、ウェハを腐食
させることは非常に大きな欠点であった。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上の点に鑑み、本発明の目的は、粘着剤によるウェハ
の腐食を防止するウェハ加工用フィルムを提供すること
である。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは上記目的を達成するため粘着剤について鋭
意検討した結果、粘着剤として水系エマルジョン粘着荊
を用いた場合、粘着剤中のナトリウムやカリウム等の陽
イオン、あるいは硫酸、塩酸や硝酸等の陰イオンがウェ
ハを腐食することを見出した。

さらには該粘着剤をイオン交換体で脱イオンすると、ウ
ェハの腐食を防げることを見出し、本発明を完成した。

即ち本発明は、基材フィルムの片面に粘着剤層を設けた
ウェハ加工用フィルムにおいて、イオン交換体により脱
イオンした水系エマルジョン粘着剤を用いてなることを
特徴とするウェハ加工用フィルムである。

本発明のウェハ加工用フィルムの使用対象となるウェハ
はシリコンのみならず、ゲルマニウム、ガリウム−砒素
、ガリウム−リン、ガリウム−砒素−アルムニウム等の
ウェハが挙げられる。

本発明に用いるイオン交換体としては、強酸性型陽イオ
ン交換樹脂、弱酸性型陽イオン交換樹脂、強塩基性型陰
イオン交換樹脂、中塩基性型陰イオン交換樹脂、弱塩基
性型陰イオン交換樹脂等公知のものを用いることが出来
る。

但し、イオン交換体のイオン型としては陽イオン交換樹
脂ではＨ型、陰イオン交換樹脂ではＯＨ型にして用いる
。

それ以外の型では脱イオンの効果が期待出来ない。

本発明でいう水系エマルジョン粘着剤には特に限定はな
く、アクリル系、ゴム糸導公知のものを用いることが出
来る。

ここでいうアクリル系粘着剤とは、例えばアクリル酸エ
チル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシ
ル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のアク
リル酸、メタクリル酸等のエステル、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル
アミド、メタクリルアマイド、アクリルニトリル等の官
能基を有するアクリル、メタクリル系化合物等のモノマ
ーに界面活性剤、イオン交換水又は純水、および重合開
始剤を添加し、水中でエマルジョン重合をした粘着剤で
ある。

モノマー組成の選択については必要とする粘着力に応じ
適宜選択できる。

本発明においては、これらの粘着剤をイオン交換体によ
り脱イオンして用いる。

また、本発明に用いる水系エマルジョン粘着剤用の界面
活性剤としては非イオン系の界面活性剤が腐食の面より
好ましく、例えばポリオキシエチレンオクチルフェニル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンブロックボリマー等である
。

本発明のウェハ加工用フィルムは基材フィルムの片面に
粘着剤を塗布し、乾燥後、粘着剤層にセパレータを密着
させて得られる。

本発明で用いる基材フィルムとしては、合成樹脂あるい
は天然、合成ゴム等からなるフィルムを適宜選択できる
。

基材フィルムの組成として例示するならば、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、ポリブタジェン、軟質塩化ビニル
樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド等の
熱可塑性エラストマー、およびジエン系、ニトリル系、
シリコン系、アクリル系等の合成ゴム等である。

基材フィルムの厚みは保護するウェハの形状、表面状態
および研磨方法等の条件により適宜法められるが、通常
１１０１Ｉ〜２０００μｍが好ましい。

基材フィルムの表面に設ける該粘着剤の膜厚みとしては
、ウェハの表面状態、形状、研磨方法等により適宜法め
られるが、通常２μｍ〜１００μｍである。好ましくは
５μｍ〜５０μｍである。

、粘着剤を基材フィルム面に塗布する方法としては、従
来公知の塗布方法、例えばロールコータ−法、グラビア
ロール法、バーコード法等が採用でき、基材フィルムの
片面全面に塗布することができる。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により説明する。

尚、本実施例における評価は下記の方法で実施した。

■粘着剤中のイオン分 粘着剤約１ｇをガラス板上に滴下し、１００℃にて乾燥
し、皮膜を作成する。

該皮膜を重量測定後、１００１ｄのイオン交換水中に浸
漬し、１００℃で１時間抽出する。

該抽出水中の各イオンをイオンクロマトグラフィーにて
測定し、粘着剤単位重量当たりの値に換算し、粘着剤中
のイオン値とする。

イオンクロマトグラフィーの測定装置 装置ｊＤＩＯＮＥＸ社製 陰イオンブレ／濃縮カラム ）（Ｐ　　Ｉ　　Ｃ−ＡＧ４Ａ 陰イオン分離カラム ＨＰＩＣ−ＡＳ４Ａ 陽イオンプレ／濃縮カラム ）（ＰＩＣ−ＣＧ３ 陽イオン分離カラム ＨＰ　Ｉ　Ｃ−Ｃ３３ ■酸化度 標準ウェハとして表面をＥＳＣＡで分析すると酸素とア
ルミニウムのピークの面積値の比が１Ｏ１５になるよう
にアルミニウムをパターニングしたシリコンウェハを用
いた。

ウェハ表面が腐食すると、表面の酸素量が増加し、酸素
とアルミニウムのピークの面積値の比が１０．５より大
きくなる。

この比で酸化度を測定した。

ＥＳＣＡの測定装置および、測定条件。

装置　　　：　ＶＡＣＩＩＩＩＮＧＥＮＥＲＡＴＯＲ社
製ＥＳＣＡ　　ＬＡＢ　　ＭＫＩＩ Ｘ線源　　：Ｍｇ　　ｋα線 Ｘ線出力　：　３００Ｗ 測定真空度：　Ｉ　Ｘｌ０−”ｍｂａｒ以下■ウェハ表
面分析 ウェハの腐食の原因を調べるため、腐食部位と腐食され
ていない部位についてＸＭＡ分析を行い、比較した。

腐食が観察されなかったウェハについては表面のＸＭＡ
分析のみ行った。

ＸＭＡの測定装置および、測定条件。

装Ｎ：　日本電子工業株式会社製 ＪＥＯＬ　　ＪＸＡ−’８４０Ａ 条件：Ｘ線照射範囲　（プログ径） ４５μｍ×６７μｍ 加速電圧　　　　２０ｋＶ Ｗ−Ｄ　（試料と対物レンズの距離） ９ｍｍ プログ電流　　　０．５Ｘ１０−”　Ａ（異物プログ径
）８μｍＸＩＱμｍ エネルギー分散型 ■ウェハ表面観察 ウェハの表面状態を走査型電子顕微鏡で観察した。

測定装置、条件はＸＭＡの装置、条件と同一実施例１ 温度計、還流冷却器、滴下ロート、窒素導入口および攪
拌器を付したフラスコに、イオン交換水１５０重量部、
界面活性側としてポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル２重量部を入れ、窒素雰囲気下で攪拌しながら７
０℃まで昇温した。

重合開始剤として過酸化硫酸アンモニウム０．５重量部
添加し溶解させ、更にアクリル酸２−エチルヘキシル７
０重量部、メタクリル酸メチル２５重量部、メタクリル
酸３重量部、アクリル＃２−ヒドロキシエチル２重量部
よりなるモノマー混合物１００重量部を４時間で連続滴
下し、滴下終了後も３時間攪拌を続けて重合し、固形公
約４Ｑｗｔ％のアクリルエマルジッン系粘着剤を得た。

この粘着剤をＨ型にした強酸性イオン交換樹脂レバチッ
）　Ｓ　Ｐ−１１２（バイエル社（西独）製）とＯＨ型
にした強塩基性イオン交換樹脂レバチットＭ、Ｐ−５０
０（バイエル社（西独）製）でイオン交換した後、粘着
剤中のイオン分を測定した。結果を第１表に示す。

次に、この粘着剤１００重量部にジエチレングリコール
モノブチルエーテル１０重量部を添加して塗布液を作成
し、厚さ１５０μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体フ
ィルムのコロナ処理した片面にロールコータ−にて塗布
、１０５℃で乾燥し塗布厚み２０ＩＪｍのアクリル粘着
剤層を有するウェハ加工用フィルムを得た。

こうして得たウェハ加工用フィルムをアルミニウムをパ
ターニングした４インチシリコンウェハに貼付け、２４
時間放置した後、該フィルムを剥がし、ウェハの酸化度
の測定、表面の分析および表面の観察を行った。結果を
第１表に示す。

実施例２ 温度計、還流冷却器、滴下ロート、窒素導入口および攪
拌器を付したフラスコに、イオン交換水１５０重量部、
界面活性剤としてポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル２重量部を入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながら７
０℃まで昇温した。

重合開始剤として過酸化硫酸カリウム０．５重量部添加
し熔解させ、更にアクリル酸ｎ−ブチル５８重量部、ア
クリル酸２−エチルヘキシル３２重量部、メタクリル酸
３重量部、アクリロニトリル７重量部よりなるモノマー
混合物１００重量部を４時間で連続滴下し、滴下終了後
も３時間攪拌を続けて重合し、固形公約４０ｗｔ％のア
クリルエマルジッン系粘着荊を得た。

この粘着剤をＨ型にした強酸性イオン交換樹脂レバチッ
）　Ｓ　Ｐ−１１２（バイエル社（西独）製）とＯＨ型
にした強塩基性イオン交換樹脂レバチットＭＰ−５００
（バイエル社（西独）製）でイオン交換した後、粘着剤
中のイオン分を測定した。結果を第１表に示す。

次に、この粘着剤１００重量部にジエチレングリコール
モツプチルエーテル１０重量部を添加して塗布液を作成
し、厚さ１５０μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体フ
ィルムのコロナ処理した片面にロールコータ−にて塗布
、１０５℃で乾燥し塗布厚み１０、μｍのアクリル粘着
剤層を有するウェハ加工用フィルムを得た。

こうして得たウェハ加工用フィルムをアルミニウムをパ
ターニングした４インチシリコンウェハに貼付け、２４
時間放置した後、該フィルムを剥がし、ウェハの酸化度
の測定、表面の分析および表面の観察を行った。結果を
第１表に示す。

比較例１ 実施例１で得た粘着剤をイオン交換せずに用いた。

この粘着剤中のイオン分を測定した。結果を第１表に示
す。

更に、実施例１と同様にして塗布厚み２０μｍのアクリ
ル粘着剤層を有するウェハ加工用フィルムを得た。

得られたウェハ加工用フィルムを実施例１と同様に評価
した。結果を第１表に示す。

比較例２ 実施例２で得た粘着剤をイオン交換せずに用いこの粘着
剤中のイオン分を測定した。結果を第１表に示す。

更に、実施例１と同様にして塗布厚み１０μｍのアクリ
ル粘着剤層を有するウェハ加工用フィルムを得た。

得られたうエバ加工用フィルムを実施例１と同様に評価
した。結果を第１表に示す。

〔発明の効果〕

本発明のウェハ加工用フィルムはイオン交換体により脱
イオンした粘着剤を用いることにより、ウェハを腐食し
ないという優れた効果を発揮するものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基材フィルムの片面に粘着剤層を設けたウェハ加工
   用フィルムにおいて、イオン交換体により脱イオンした
   水系エマルジョン粘着剤を用いてなることを特徴とする
   ウェハ加工用フィルム。