JPH0449060B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0449060B2
JPH0449060B2 JP1610586A JP1610586A JPH0449060B2 JP H0449060 B2 JPH0449060 B2 JP H0449060B2 JP 1610586 A JP1610586 A JP 1610586A JP 1610586 A JP1610586 A JP 1610586A JP H0449060 B2 JPH0449060 B2 JP H0449060B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording medium
reflectance
change
optical recording
optical
Prior art date
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Expired
Application number
JP1610586A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62174638A (ja
Inventor
Toshuki Koori
Yoshikazu Goto
Hiromasa Funakoshi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1610586A priority Critical patent/JPS62174638A/ja
Publication of JPS62174638A publication Critical patent/JPS62174638A/ja
Publication of JPH0449060B2 publication Critical patent/JPH0449060B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は蒸着あるいはスパツタリング方法で製
造される相変化型光記録媒体に反射率変化を起こ
し、前記光記録媒体を記録及び消去が可能になる
様にする(以下これを初期化という)光記録媒体
製造検査装置に関するものである。
従来の技術 一般に、Te酸化物を中心とする薄膜は、その
形成時には相対的に光学定数の小なる状態である
ため、記録方向として光学定数の大なる状態から
小なる状態への変化を使う場合には、ひとまず薄
膜の光学定数を大なる状態へ変えておくことが必
要である。従つて前記薄膜を使つた光記録媒体を
製造するには光記録媒体製造装置で初期化する必
要がある。前記初期化は、光学式記録再生装置で
1トラツクずつ行うことも可能であるが処理時間
が多くかかるので、デイスク製造時に初期化専用
装置を用いることが有効である。
従来の記録媒体製造装置では、例えば特開昭60
−106031号公報に示されているように、光学定数
n,k等を大なる状態から小なる状態、あるいは
小なる状態から大なる状態へと、いずれの方向で
も情報記録又は消去可能である光記録媒体に大パ
ワーで連続出力のレーザー光を幅広くデイスク上
に照射し、光デイスクの全面を高速に光学常数が
高い状態に変化させることにより光記録媒体を初
期化していた。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、この装置では欠陥検査のため再
度デイスクを走査しなければならない。従つて、
デイスク製造工程としてはリスクが生じ、コスト
アツプになるという問題点があつた。
問題点を解決するための手段 本発明は反射率の変化を利用して情報を記録及
び消去できる相変化型光記録媒体に、反射率変化
を起こす所定のパワー密度を有し複数トラツクに
またがる第1のビームを照射する第1の光学系
と、フオーカス、トラツキング制御及び欠陥を検
出する信号を導く第2の光学系とを備え、前記第
1のビームで前記光記録媒体に反射率変化を起こ
すと同時に前記第2の光学系にて反射率変化後の
欠陥検査をするものである。
作 用 本発明は上記した構成により、所定のパワー密
度を有し複数トラツクにまたがる第1のビームを
相変化型光記録媒体に照射することによつて前記
光記録媒体の全面に反射率変化を起こし高速に前
記光記録媒体を初期化すると同時に、フオーカ
ス、トラツキング制御及び欠陥を検出する信号を
導く第2の光学系にて反射率変化後の欠陥検査を
し、デイスク製造工程のリスクを少なくできる。
実施例 図は本発明の実施例を示した図であり、1はレ
ーザー光源で一定光量のレーザー光を発光する。
2はコリメータレンズでレーザー光源1からのレ
ーザー光を平行光にする。3は偏光ビームスプリ
ツタ。4はλ/4波長板である。5はハーフミラ
ーである。6は対物レンズ、7は対物レンズ6を
フオーカス及びトラツキング方向に動作させる光
学ピツクアツプであり、ボイスコイルモータ等の
既知の駆動手段にて構成される。8はデイスクで
ある。9はハーフミラーである。10は光検出器
でデイスク8からの反射光を受光する。11は集
光レンズ、12は分割ミラーである。13はフオ
ーカス制御用光検出器で2分割の光検出器より構
成されている。14はトラツキング制御用光検出
器でフオーカス制御用光検出器13と同様な構成
である。15はArレーザーである。16はコリ
メータレンズでレーザー光源15からのレーザー
光を平行光にする。17は情報を記録するトラツ
ク溝、18はレーザー光源1からのレーザー光で
デイスク8上に形成された約φ1μmのビーム、1
9はレーザー光源15からのレーザー光でデイス
ク8上に形成された複数トラツクにまたがるビー
ムである。
以上のように構成された光記録媒体製造検査装
置について以下その動作について説明する。レー
ザー光源1から出たレーザー光はコリメータレン
ズ2を通過して平行光となり偏光ビームスプリツ
ター3、λ/4波長板4を介し、ハーフミラー5
で反射させ対物レンズ6の光軸からずらせて対物
レンズ6に入射させデイスク8上に約φ1μmのビ
ームを形成する。ここでデイスク8は面振れ及び
芯振れをともなつて回転しているので、所定の情
報トラツクにレーザービーム18を集光させるた
めに、後述するフオーカス誤差信号及びトラツキ
ング誤差信号に基づいて光学ピツクアツプ7に駆
動電圧を印加して対物レンズ6をフオーカス方向
及びトラツキング方向に動作させ、レーザー光を
所定のトラツクに追従させている。デイスク8か
らの反射光は入射光路と逆光路をたどり、λ/4
波長板4を2度通過することにより入射光と90°
偏光された光となり偏光ビームスプリツタ3で分
離され、ハーフミラー9によつて2方向に分か
れ、一方は光検出器10に他方は集光レンズ11
に入射する。集光レンズ11を出た反射光は分割
ミラー12によつて分割され、一方はフオーカス
制御用光検出器13に集光され、他方はトラツキ
ング制御用光検出器14に集光される。フオーカ
ス制御用光検出器13及びトラツキング制御用光
検出器14は2分割の光検出器より構成され、
各々の光検出器からの作動出力によりフオーカス
誤差信号及びトラツキング誤差信号を作り出す。
これらの誤差信号を前述した光学ピツクアツプ7
に駆動電圧を印加することによりフオーカス制御
及びトラツキング制御がなされる。一方レーザー
光源15から出たレーザー光はコリメータレンズ
16を通過してハーフミラー5を介して対物レン
ズ6に入射させ、デイスク8上に複数トラツクに
またがるビーム19を形成する。前記ビーム18
にて所定の情報トラツクにトレースさせ、前記ビ
ーム19において前記光記録媒体の反射率変化を
起こすと同時に前記光検出器10にて反射率変化
後の欠陥検査をする。ここでビーム18は所定の
情報トラツクを1回転トレースした後複数トラツ
クジヤンピングする様にし、前記光記録媒体の全
面にわたつて一様にかつ高速に反射変化をさせ、
同時に反射率変化後の欠陥検査を可能にしてい
る。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば相変化
型光記録媒体の反射率変化と同時に反射率変化後
の欠陥検査が可能となるので、デイスク製造リス
クが小さくなりコストダウンを図ることができ光
記録媒体製造検査装置としては極めて有効であ
る。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例における光記録媒体製造
検査装置の原理図である。 1,15……光源、2,16……コリメータレ
ンズ、3……偏光ビームスプリツタ、4……λ/
4波長板、5,9……ハーフミラー、6……対物
レンズ、7……光学ピツクアツプ、8……光デイ
スク、10……欠陥検査用光検出器、11……集
光レンズ、12……分割ミラー、13……フオー
カス制御用光検出器、14……トラツキング制御
用光検出器、17……情報トラツク、18……光
源1で形成された約φ1μmのビーム、19……光
源15で形成された複数トラツクにまたがるビー
ム。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 反射率の変化を利用して情報を記録及び消去
    できる相変化型光記録媒体に、反射率変化を起こ
    す所定のパワー密度を有し複数トラツクにまたが
    る第1のビームを照射する第1の光学系と、フオ
    ーカス、トラツキング制御及び欠陥を検出する信
    号を導く第2の光学系とを備えたことを特徴とす
    る光記録媒体製造検査装置。 2 第1のビームで光記録媒体に反射率変化を起
    こすと同時に第2の光学系にて反射率変化後の欠
    陥検査をすることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の光記録媒体製造検査装置。 3 欠陥検査の手段として、あるトラツクを1回
    転トレースして、第1のビームで反射率変化を起
    こすと同時に第2の光学系で前記トラツクの欠陥
    検査をした後、前記第1のビームの照射にて反射
    率変化を起こすトラツク本数分以内のジヤンピン
    グをし、トラツクを1回転トレースして前記操作
    を繰り返すことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項または第2項記載の光記録媒体製造検査装置。
JP1610586A 1986-01-28 1986-01-28 光記録媒体製造検査装置 Granted JPS62174638A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1610586A JPS62174638A (ja) 1986-01-28 1986-01-28 光記録媒体製造検査装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP1610586A JPS62174638A (ja) 1986-01-28 1986-01-28 光記録媒体製造検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62174638A JPS62174638A (ja) 1987-07-31
JPH0449060B2 true JPH0449060B2 (ja) 1992-08-10

Family

ID=11907235

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1610586A Granted JPS62174638A (ja) 1986-01-28 1986-01-28 光記録媒体製造検査装置

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4920442A (en) * 1988-09-08 1990-04-24 Quantum Corporation Releasable servo writing fixture connector
JPH03124332U (ja) * 1990-03-27 1991-12-17
JP3302919B2 (ja) 1997-11-27 2002-07-15 株式会社リコー 光記録媒体の初期化方法及び初期化装置
JP5894685B1 (ja) 2014-05-30 2016-03-30 晃立工業株式会社 粉砕機

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JPS62174638A (ja) 1987-07-31

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