JPH0448236A - エアフィルタ試験装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高清浄度を要求される半導体製造ル−ム、半
導体製造装置内等のクリーンルームに使用されるエアフ
ィルタのリーク位置の試験を行うエアフィルタ試験装置
に関する。

近年、各産業分野でのクリーンルームにおいては、その
中で生産する製品の高品質化のために、ますます高清浄
度か要求され、かつ、その清浄度を維持・管理していく
ことも要求されている。そのため、雰囲気中の塵埃を除
去するために設置しているエアフィルタについては、そ
の製造直後（クリーンルームへの納入前）や設置後も定
期的にリークの存無を検査し、エア・フィルタの性能を
維持・管理していく必要かある。

〔従来の技術〕

例えば、ＬＳＩ等の半導体装置は、浮遊塵埃の少ない清
浄なりリーンルームて製造されている。

これは、最小パターンの１７５〜１７１０以上の大きさ
の異物かウェハ上に付着すると、その後のプロセス工程
て欠陥となるからであり、空気中の塵埃のｌｏ−３〜１
０−４かウェハに付着して欠陥の原因となる。このよう
な清浄な雰囲気を形成する場合、取入れた外気の温度、
湿度を調整したうえで、例えばＨＥ　Ｐ　Ａ　（Ｈｉｇ
ｈ　Ｅｆｆｅｃｉｅｎｃｙ　ＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡ
ｉｒ−ｆｉｌｔｅｒ）フィルタ等のエアフィルタを通し
て除塵を行うのが一般的である。通常、装置や人体から
の発塵の影響を最小限にするため、エアフィルタを所定
数天井に取付け、ダウンフロ一方式により除塵した空気
をルーム内に送り込んでいる。

従来、上記のようなエアフィルタのリーク状態を試験す
る場合、レーザ光で計測するパーティクルカウンタを用
いて、エアフィルタの下流直下の雰囲気の塵埃をカウン
トしている。そして、１個でもカウントすると、その位
置でリークか生じているものと判断している。

すなわち、エアフィルタの下流直下を全面検査するため
に、パーティクルカウンタのパーティクルを採集するサ
ンプリングチューブを該フィルタ面から所定距離に支持
しなから、手動て全面走査させるものである。

〔発明か解決しようとする課題〕

しかし、上記サンプリングチューブは操作者により支持
されることから、該チューブの先端をフィルタ面に接触
する場合かあり、実際にエアフィルタかリークしていな
くても塵埃をカウントして正確な判断かできないという
問題かある。

また、標準的な面積（６１０ｎＩＩＩＸ　６１０皿）の
エアフィルタを３０−φ程度のサンプリングチューブで
一定の速さて隙間なく走査しなければならず、１枚のエ
アフィルタで数十分以上の時間を要し、多大な時間と労
力を費やさなければならないという問題かある。

そこで、本発明は上記課題に鑑みなされたもので、短時
間で正確にエアフィルタ面のリーク位置の試験を行うエ
アフィルタ試験装置を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題は、クリーンルームに設置されたエアフィルタ
に、大気を強制的に送り込むことにより、塵埃を除去し
て浄化する場合の、該エアフィルタのリーク位置を試験
するエアフィルタ試験装置において、前記エアフィルタ
の下流口における該エアフィルタの対向する辺の近傍に
、所定数の発光素子か並設された発光部と、所定数の受
光素子か並設された受光部とを対峙させて設けることに
より解決される。

〔作用〕

上述のように、エアフィルタの対向する辺の近傍に発光
部及び受光部を対峙させて設けている。

ところで、エアフィルタにリーク位置か存在すると、当
該リーク位置よりパーティクルか侵入する。

そこで、発光部より受光部に向って発する光か、このパ
ーティクルか存在すると、反射により受光部に到達しな
い。これにより、エアフィルタにリーク位置が存在して
いることを判断するものである。すなわち、リーク試験
に要する時間か短縮すると共に、手動による誤検知か防
止され、測定精度を向上させることか可能となる。

Ｃ実施例〕 第１図に本発明の一実施例の構成図を示す。第１図はエ
アフィルタの下流口側を示したものである。第１図にお
いて、エアフィルタ１は、例えば前述のＨＥＰＡフィル
タを使用し、図示しないかクリーンルームの、例えば天
井に１個又は複数個設置される。このエアフィルタ１の
下流口における対向する辺の近傍に、発光部２ａ、２ｂ
及び受光部３ａ、３ｂが対向する四辺でそれぞれ対峙し
て設けられる。発光部２ａ、２ｂは所定数の発光素子が
並設されており、例えば赤外線を発する。

また、受光部３ａ、３ｂは所定数の受光素子が並設され
ており、赤外線を受光することにより、信号の出力又は
該赤外線のエネルギによる発光を行わせる。

ここで、第２図に受光部３ａ、３ｂの検知を説明するた
めの図を示す。第２図（Ａ）は受光部３ａ、３ｂの受光
状態を示したちのて、発光部２ａ、２ｂから発せられる
光を受光した場合には、受光部３ａ、３ｂの出力状態は
ハイレベル（又は発光状態）となり、パーティクル（塵
埃）により光か乱反射して遮断されている場合にはロー
レベル（又は消灯状態）となる。従って、第２図（Ｂ）
に示すように、受光部３ａのローレベル位置（Ｘ軸方向
）と、受光部３ｂのローレベル位置（Ｙ軸方向）との二
次元座標でリーク位置４の点の位置が求められるもので
ある。この場合、リーク箇所の有無の判断において、当
該位置の認定は、例えば１０ｍｍ程度の精度で充分であ
る。これは、リーク位置４がある程度の精度で判明する
と、その後にパーティクルカウンタで細かい位置を探し
、シール等による管理か可能であるからである。なお、
測定にあたっては、該エアフィルタ１のフレームに本装
置を取付けた後、２〜３分の間受光の状態を観察して、
所定頻度で受光しない部分かリーク位置と判断する。

ところで、上記二次元座標でリーク位置を求める場合、
リーク位置か一箇所のときは肢位置か特定できるが、複
数個のリーク位置か存在すると特定できない場合かある
。しかし、一般にリークは無数に生じるものではなく、
−ケ所若しくは数ケ所で生じるものであることから、リ
ーク位置の存在を判断するのみてあれば充分であり、当
該リーク位置を特定する場合には、パーティクルカウン
タを併用すれば足りる。

そこで、第３図に複数（二ケ所）のリーク位置かある場
合の説明図を示す。第３図において、受光部３ａ、３ｂ
て、共に２つの位置でローレベルを示した場合、これを
Ｘ軸、Ｙ軸上に延長すると、エアフィルタＩ上では四ケ
所の点４ａ〜４ｄのリーク位置か予想される。そして、
４ａ〜４ｄの位置についてそれぞれパーティクルカウン
タにより測定することにより、二ケ所のリーク位置を特
定することかできる。この場合、パーティクルカウンタ
による測定は、予想される四ケ所の位置のみを測定する
だけてよく、長時間を要することはない。

このようにリーク試験を行うことにより、試験に要する
時間を１７１０以下にすることができると共に、手動に
よる測定の際の誤検知かなく、測定の精度を著しく向上
させることができる。また、エアフィルタの管理が正確
かつ簡便にすることができる。

なお、上記エアフィルタ試験装置は、半導体装置におけ
るクリーンルームに適用される外、医療における無菌室
等にも適用できるものである。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、エアフィルタの下流口に
おける対向する辺の近傍に、発光部と受光部とを対峙さ
せて設けることにより、エアフィルタのリーク位置の試
験を短時間で行うことができると共に、測定精度を向上
させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の構成図、 第２図は受光部の検知を説明するための図、第３図は複
数のリーク位置がある場合の説明図である。 図において、 １はエアフィルタ、 ２ａ、２ｂは発光部、 ３ａ、３ｂは受光部、 ４はリーク位置 を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 クリーンルームに設置されたエアフィルタ（１）に、大
   気を強制的に送り込むことにより、塵埃を除去して浄化
   する場合の、該エアフィルタ（１）のリーク位置（４）
   を試験するエアフィルタ試験装置において、 前記エアフィルタ（１）の下流口における該エアフィル
   タ（１）の対向する辺の近傍に、所定数の発光素子が並
   設された発光部（２ａ、２ｂ）と、所定数の受光素子が
   並設された受光部（３ａ、３ｂ）とを対峙させて設ける
   ことを特徴とするエアフィルタ試験装置。