JPH044062U - - Google Patents

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JPH044062U
JPH044062U JP4259590U JP4259590U JPH044062U JP H044062 U JPH044062 U JP H044062U JP 4259590 U JP4259590 U JP 4259590U JP 4259590 U JP4259590 U JP 4259590U JP H044062 U JPH044062 U JP H044062U
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chamber
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wafer
evaporation
load lock
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  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る真空蒸着装置の概略断面
図、第2図は従来の真空蒸着装置の概略断面図で
ある。 2……ウエーハ、(半導体ウエーハ)、3……
プラネタリホルダ、4……電子ビーム蒸発源、5
……抵抗蒸発源、6……真空ポンプ、11……蒸
発物ソース(メタルソース)、13……蒸気、1
5……蒸発物ソース(メタルソース)、16……
蒸気、21……メインチヤンバ、22……ソース
チヤンバ、23……ロードロツクチヤンバ、24
……ソースチヤージチヤンバ、25……移送機構
、27……供給機構、29……第1のゲートバル
ブ、30……第2のゲートバルブ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ウエーハを保持し、自公転するプラネタリホル
    ダを配置し、メインチヤンバと、 メインチヤンバの下側に連設し、上記ウエーハ
    へ蒸気を飛び出させる蒸発源を配置するソースチ
    ヤンバと、 上記メインチヤンバに第1のゲートバルブを介
    して隣設し、プラネタリホルダへのウエーハの着
    脱を行うロードロツクチヤンバと、 上記ソースチヤンバに第2のゲートバルブを介
    して隣設し、蒸発源へ供給する蒸発物ソースを貯
    蔵しておくソースチヤージチヤンバと、 ウエーハを保持したプラネタリホルダを、上記
    ロードロツクチヤンバとメインチヤンバとの間で
    往復動させる移送機構と、 ソースチヤージチヤンバ内の蒸発物ソースを、
    ソースチヤンバ内の蒸発源へ供給する供給機構と
    、 上記各チヤンバ内を真空引きする真空ポンプと
    を具備したことを特徴とする真空蒸着装置。
JP4259590U 1990-04-20 1990-04-20 Pending JPH044062U (ja)

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JPH044062U true JPH044062U (ja) 1992-01-14

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