JPH0437533B2 - - Google Patents
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- JPH0437533B2 JPH0437533B2 JP56122998A JP12299881A JPH0437533B2 JP H0437533 B2 JPH0437533 B2 JP H0437533B2 JP 56122998 A JP56122998 A JP 56122998A JP 12299881 A JP12299881 A JP 12299881A JP H0437533 B2 JPH0437533 B2 JP H0437533B2
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- Japan
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- stripe
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Links
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- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 13
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
- H01J9/2272—Devices for carrying out the processes, e.g. light houses
- H01J9/2274—Light sources particularly adapted therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラー受像管映像スクリーンの露光方
法に関する。
法に関する。
カラー受像管の映像スクリーンであるけい光面
を形成するための露光方法は、ブラツクマトリツ
クス膜（以下BM膜という）形成とけい光膜（以
下PH膜という）形成とを同一条件で行なう方法
がBM膜のパターンとPH膜の位置ずれがなく、
またその補正も不要となる。しかしながら、BM
膜パターン形成時のホトレジストの膜厚は例えば
0.6μｍ程度と非常に薄いのに対し、PH膜形成時
のけい光体スラリーの膜厚は例えば30μｍ程度と
前記ホトレジストの膜厚に比べ非常に厚く、また
ホトレジストとけい光体スラリーとでは感光特性
が異なり、更にBM膜のパターン間隔（ストライ
プ間隔またはドツト間隔）はシヤドウマスクの開
口孔の幅（スリツト幅またはドツト径）より小さ
く、PH膜の幅（ストライプ幅またはドツト径）
は膜厚の関係からシヤドウマスクの開口孔の幅
（スリツト幅またはドツト径）より大きく形成し
ているので、両者を同一条件で形成するのは、
BM膜パターン形成の裕度が低下すると共に、
PH膜形成の接着強度（照度×時間）が不利とな
る。
を形成するための露光方法は、ブラツクマトリツ
クス膜（以下BM膜という）形成とけい光膜（以
下PH膜という）形成とを同一条件で行なう方法
がBM膜のパターンとPH膜の位置ずれがなく、
またその補正も不要となる。しかしながら、BM
膜パターン形成時のホトレジストの膜厚は例えば
0.6μｍ程度と非常に薄いのに対し、PH膜形成時
のけい光体スラリーの膜厚は例えば30μｍ程度と
前記ホトレジストの膜厚に比べ非常に厚く、また
ホトレジストとけい光体スラリーとでは感光特性
が異なり、更にBM膜のパターン間隔（ストライ
プ間隔またはドツト間隔）はシヤドウマスクの開
口孔の幅（スリツト幅またはドツト径）より小さ
く、PH膜の幅（ストライプ幅またはドツト径）
は膜厚の関係からシヤドウマスクの開口孔の幅
（スリツト幅またはドツト径）より大きく形成し
ているので、両者を同一条件で形成するのは、
BM膜パターン形成の裕度が低下すると共に、
PH膜形成の接着強度（照度×時間）が不利とな
る。
本発明は上記背景に立つてなされたもので、
BM膜パターン形成の裕度及びPH膜形成の接着
強度をそれぞれ向上させることができるカラー受
像管映像スクリーンの露光方法を提供することを
目的とする。
BM膜パターン形成の裕度及びPH膜形成の接着
強度をそれぞれ向上させることができるカラー受
像管映像スクリーンの露光方法を提供することを
目的とする。
以下、本発明を図示の一実施例により説明す
る。第１図に示すように、カラー受像管のけい光
面形成は、パネル１の内面に塗布したBM膜パタ
ーン形成時のホトレジスト２またはPH膜形成時
のけい光体スラリー１２上に、順次、水銀灯を直
接線状光源３とした露光装置によりシヤドウマス
ク４に形成されたスリツトパターン５の露光感光
を行なつて、第２図ａ，ｂに示すように、BM膜
ストライプパターン６およびPH膜ストライプ７
を形成している。なお、１１は上記BM膜ストラ
イプパターン６を形成するための光吸収性物質か
らなるBM膜そのものである。この時、光スポツ
ト８の最大露光範囲Dmax、最小露光範囲Dmin
は、光源３の直径をＡ、スリツトパターン５のス
リツト幅をＢ、光源３からシヤドウマスク４まで
の距離をＰ、シヤドウマスク４からパネル１内面
までの距離をＱとすると、概略幾何学的に次式で
表わされる。
る。第１図に示すように、カラー受像管のけい光
面形成は、パネル１の内面に塗布したBM膜パタ
ーン形成時のホトレジスト２またはPH膜形成時
のけい光体スラリー１２上に、順次、水銀灯を直
接線状光源３とした露光装置によりシヤドウマス
ク４に形成されたスリツトパターン５の露光感光
を行なつて、第２図ａ，ｂに示すように、BM膜
ストライプパターン６およびPH膜ストライプ７
を形成している。なお、１１は上記BM膜ストラ
イプパターン６を形成するための光吸収性物質か
らなるBM膜そのものである。この時、光スポツ
ト８の最大露光範囲Dmax、最小露光範囲Dmin
は、光源３の直径をＡ、スリツトパターン５のス
リツト幅をＢ、光源３からシヤドウマスク４まで
の距離をＰ、シヤドウマスク４からパネル１内面
までの距離をＱとすると、概略幾何学的に次式で
表わされる。
Dmax＝（Ｂ＋Ａ）×（Ｑ／Ｐ）＋Ｂ
Dmin＝（Ｂ−Ａ）×（Ｑ／Ｐ）＋Ｂ
この関係を図示すると第３図のように表わされ
る。
る。
さて、BM膜ストライプパターン６の間隔Ｃ
は、ピユリテイ裕度を向上させるため、電子ビー
ムの幅より小さく、すなわちスリツトパターン５
のスリツト幅Ｂより小さく形成する。このことを
第３図によつて説明すると、光スポツト８の露光
範囲のうち、シヤドウマスクのスリツト幅Ｂに相
当する部分より小さいDminの方で露光感光する
ようにする。ここで、Dminがなるべく小さい
程、小さいBM膜ストライプパターン６を形成す
るのに有利になり、それを満足するには光源径Ａ
が大きい方が良い。
は、ピユリテイ裕度を向上させるため、電子ビー
ムの幅より小さく、すなわちスリツトパターン５
のスリツト幅Ｂより小さく形成する。このことを
第３図によつて説明すると、光スポツト８の露光
範囲のうち、シヤドウマスクのスリツト幅Ｂに相
当する部分より小さいDminの方で露光感光する
ようにする。ここで、Dminがなるべく小さい
程、小さいBM膜ストライプパターン６を形成す
るのに有利になり、それを満足するには光源径Ａ
が大きい方が良い。
PH膜ストライプ７の形成は、膜厚が30μｍと
厚いけい光体スラリーを露光感光するため、充分
な露光量が必要となる。このことを第３図によつ
て説明すると、露光量を多くすることは、光スポ
ツト８の露光範囲のうち、シヤドウマスクのスリ
ツト幅Ｂに相当する部分より大きいDmaxの方で
露光感光させることになる。そして、PH膜スト
ライプ７の幅Ｅはスリツトパターン５のスリツト
幅Ｂより大きくなるが、最大幅は相隣接するPH
膜ストライプ７にはみ出さない幅にしなければな
らない。このためには、Dmaxがなるべく小さ
く、DminとDmaxの差が小さい程有利となる。
これを満足するには光源径Ａが小さい方が良い。
厚いけい光体スラリーを露光感光するため、充分
な露光量が必要となる。このことを第３図によつ
て説明すると、露光量を多くすることは、光スポ
ツト８の露光範囲のうち、シヤドウマスクのスリ
ツト幅Ｂに相当する部分より大きいDmaxの方で
露光感光させることになる。そして、PH膜スト
ライプ７の幅Ｅはスリツトパターン５のスリツト
幅Ｂより大きくなるが、最大幅は相隣接するPH
膜ストライプ７にはみ出さない幅にしなければな
らない。このためには、Dmaxがなるべく小さ
く、DminとDmaxの差が小さい程有利となる。
これを満足するには光源径Ａが小さい方が良い。
そこで、BM膜ストライプパターン６形成時は
PH膜ストライプ７形成時より太い光源径Ａを備
えた露光装置で露光することにより、BM膜スト
ライプパターン６形成の裕度が向上すると共に、
PH膜ストライプ７形成の接着強度が向上する。
PH膜ストライプ７形成時より太い光源径Ａを備
えた露光装置で露光することにより、BM膜スト
ライプパターン６形成の裕度が向上すると共に、
PH膜ストライプ７形成の接着強度が向上する。
第５図ａ〜ｆは本発明のカラー受像管映像スク
リーンの露光方法の一例を説明するための要部断
面工程図である。これらの図において、まず、同
図ａに示したように最初にパネル１の内面にホト
レジスト２を塗布し、乾燥した後、シヤドウマス
ク４をパネル１に装着してシヤドウマスク４に形
成されている例えばスリツトパターン５を露光感
光させる。このとき、露光は同図ａに示すように
光源径ABMを1.5mmφとした線状光源３BMを使用し
て、光スポツト８BMのDBMminの方でもBM膜ス
トライプパターンを形成する部分を露光して感光
されたホトレジスト被膜を形成する。そして、露
光完了後、パネル１よりシヤドウマスク４を取り
外し、適当な方法で現像を行なうことにより、未
露光部分のホトレジスト２を洗い落し、同図ｂに
示したようにホトレジスト被膜からなるホトレジ
ストストライプ２ａをパネル１の内面に形成す
る。次に、同図ｃで示すようにパネル１の内面に
例えばアクアダツクなどの光吸収性物質１１を全
面に塗布して乾燥した後、例えばNaOcl、H2O2
などのエツチング液をパネル１内面に注入し、ホ
トレジストライプ２ａを剥離除去し、さらに現像
を行なうことによつて、同図ｄに示したように
BM膜１１ａを形成し、BM膜ストライプパター
ン６を得る。次に、同図ｅに示したように、３色
のPH膜ストライプを形成するけい光体スラリの
うち、まず緑けい光体スラリ１２Ｇをパネル１内
に塗布し、上記BM膜ストライプパターン形成時
と同様に乾燥、露光感光させる。なお、このとき
の露光装置は同図ｅに示すように光源径APHを0.9
mmφとした線状光源３PHを使用して、光スポツト
８PHのDPHnaxの方で露光感光してPH被膜を形成
する。そして、露光完了後、上記BM膜ストライ
プパターン形成時と同様に適当な方法で現像する
ことにより、未露光部分のPH被膜を洗い落し、
同図ｆに示したように上記ホトレジストストライ
プ２ａを除去した部分に緑PH膜ストライプ７Ｇ
を形成する。そして、他の２色についても同様に
ことを繰り返して、同図ｆに示したように青PH
膜ストライプ７Ｂ、赤PH膜ストライプ７Ｒを形
成する。
リーンの露光方法の一例を説明するための要部断
面工程図である。これらの図において、まず、同
図ａに示したように最初にパネル１の内面にホト
レジスト２を塗布し、乾燥した後、シヤドウマス
ク４をパネル１に装着してシヤドウマスク４に形
成されている例えばスリツトパターン５を露光感
光させる。このとき、露光は同図ａに示すように
光源径ABMを1.5mmφとした線状光源３BMを使用し
て、光スポツト８BMのDBMminの方でもBM膜ス
トライプパターンを形成する部分を露光して感光
されたホトレジスト被膜を形成する。そして、露
光完了後、パネル１よりシヤドウマスク４を取り
外し、適当な方法で現像を行なうことにより、未
露光部分のホトレジスト２を洗い落し、同図ｂに
示したようにホトレジスト被膜からなるホトレジ
ストストライプ２ａをパネル１の内面に形成す
る。次に、同図ｃで示すようにパネル１の内面に
例えばアクアダツクなどの光吸収性物質１１を全
面に塗布して乾燥した後、例えばNaOcl、H2O2
などのエツチング液をパネル１内面に注入し、ホ
トレジストライプ２ａを剥離除去し、さらに現像
を行なうことによつて、同図ｄに示したように
BM膜１１ａを形成し、BM膜ストライプパター
ン６を得る。次に、同図ｅに示したように、３色
のPH膜ストライプを形成するけい光体スラリの
うち、まず緑けい光体スラリ１２Ｇをパネル１内
に塗布し、上記BM膜ストライプパターン形成時
と同様に乾燥、露光感光させる。なお、このとき
の露光装置は同図ｅに示すように光源径APHを0.9
mmφとした線状光源３PHを使用して、光スポツト
８PHのDPHnaxの方で露光感光してPH被膜を形成
する。そして、露光完了後、上記BM膜ストライ
プパターン形成時と同様に適当な方法で現像する
ことにより、未露光部分のPH被膜を洗い落し、
同図ｆに示したように上記ホトレジストストライ
プ２ａを除去した部分に緑PH膜ストライプ７Ｇ
を形成する。そして、他の２色についても同様に
ことを繰り返して、同図ｆに示したように青PH
膜ストライプ７Ｂ、赤PH膜ストライプ７Ｒを形
成する。
なお、BM膜ストライプパターン６形成時の光
スポツト８BMの露光範囲については、少なくとも
シヤドウマスク４のスリツトパターン５のスリツ
ト幅Ｂより小さい範囲であれば、BM膜ストライ
プパターン間隔Ｃの形成裕度が低下することはな
い。また、PH膜ストライプ７，７Ｇ，７Ｂ，７
Ｒ形成時の光スポツト８PHの露光範囲について
は、上記スリツト幅Ｂより大きくかつBM膜１１
ａの幅の1/2を越えない範囲であれば、PH膜ス
トライプの接着強度を低下させないでかつ該スト
ライプ幅Ｅが相隣接するPH膜ストライプにはみ
出すことはない。
スポツト８BMの露光範囲については、少なくとも
シヤドウマスク４のスリツトパターン５のスリツ
ト幅Ｂより小さい範囲であれば、BM膜ストライ
プパターン間隔Ｃの形成裕度が低下することはな
い。また、PH膜ストライプ７，７Ｇ，７Ｂ，７
Ｒ形成時の光スポツト８PHの露光範囲について
は、上記スリツト幅Ｂより大きくかつBM膜１１
ａの幅の1/2を越えない範囲であれば、PH膜ス
トライプの接着強度を低下させないでかつ該スト
ライプ幅Ｅが相隣接するPH膜ストライプにはみ
出すことはない。
さらに、光源からシヤドウマスク４までの距離
Ｐについては、BM膜ストライプパターン６形成
時でPH膜ストライプ７形成時より0.3mm大きくし
て露光位置ずれを補正して露光感光を行なつたの
で、BM膜ストライプパターン６とPH膜ストラ
イプ７の位置ずれを起こすことなく、BM膜スト
ライプパターン形成裕度ひいてはピユリテイ裕度
が向上し、また相隣接するPH膜ストライプ７に
はみ出さずに、PH膜ストライプ接着強度が向上
するという良好な結果が得られた。
Ｐについては、BM膜ストライプパターン６形成
時でPH膜ストライプ７形成時より0.3mm大きくし
て露光位置ずれを補正して露光感光を行なつたの
で、BM膜ストライプパターン６とPH膜ストラ
イプ７の位置ずれを起こすことなく、BM膜スト
ライプパターン形成裕度ひいてはピユリテイ裕度
が向上し、また相隣接するPH膜ストライプ７に
はみ出さずに、PH膜ストライプ接着強度が向上
するという良好な結果が得られた。
ここで、光源径の違いによるBM膜ストライプ
パターン６とPH膜ストライプ７との露光位置ず
れは、前記のように距離Ｐを変えることによつて
対処できるが、この外に補正レンズ、ガラス板
（図示せず）の板厚を変えることでも対処できる。
パターン６とPH膜ストライプ７との露光位置ず
れは、前記のように距離Ｐを変えることによつて
対処できるが、この外に補正レンズ、ガラス板
（図示せず）の板厚を変えることでも対処できる。
このように光源径Ａを変えることによつてBM
膜ストライプパターン６形成とPH膜ストライプ
７形成の品質を向上できるが、ストライプけい光
面を形成する場合には、第４図に示すようにスリ
ツトパターン５の長手方向のブリツジ部９を消去
する必要がある。このブリツジ部９を消去するた
めには、ブリツジ部９のピツチをＦ、線状光源３
の長さをｌとすると、ｌ＝（Ｐ＋Ｑ）／Ｑ・Ｆの
長さの線状光源３が必要となる。
膜ストライプパターン６形成とPH膜ストライプ
７形成の品質を向上できるが、ストライプけい光
面を形成する場合には、第４図に示すようにスリ
ツトパターン５の長手方向のブリツジ部９を消去
する必要がある。このブリツジ部９を消去するた
めには、ブリツジ部９のピツチをＦ、線状光源３
の長さをｌとすると、ｌ＝（Ｐ＋Ｑ）／Ｑ・Ｆの
長さの線状光源３が必要となる。
しかしながら、この線状光源３の長さｌをBM
膜ストライプパターン６形成時とPH膜ストライ
プ７形成時とを同一長さで露光を行なうと、BM
膜ストライプパターン６よりPH膜ストライプ７
の有効面が長手方向において小さく形成されるた
め、長手方向の端部に未発光部が生じ、けい光面
の欠点となる。これはBM膜ストライプパターン
６の露光時の光源長さｌよりPH膜ストライプ７
の露光時の光源長さｌを、例えば３〜４mm長くす
ることにより未発光部を除去できた。また、この
ことは、実施例のような両露光時の光源の長さを
変えることなく光源の移動距離を変えても対処で
きる。
膜ストライプパターン６形成時とPH膜ストライ
プ７形成時とを同一長さで露光を行なうと、BM
膜ストライプパターン６よりPH膜ストライプ７
の有効面が長手方向において小さく形成されるた
め、長手方向の端部に未発光部が生じ、けい光面
の欠点となる。これはBM膜ストライプパターン
６の露光時の光源長さｌよりPH膜ストライプ７
の露光時の光源長さｌを、例えば３〜４mm長くす
ることにより未発光部を除去できた。また、この
ことは、実施例のような両露光時の光源の長さを
変えることなく光源の移動距離を変えても対処で
きる。
なお、上記実施例においては、ストライプタイ
プのカラー受像管について説明したが、ドツトタ
イプのカラー受像管のけい光面形成にも適用でき
る。
プのカラー受像管について説明したが、ドツトタ
イプのカラー受像管のけい光面形成にも適用でき
る。
以上の説明から明らかな如く、本発明の方法に
よれば、BM膜パターンの形成裕度が向上すると
共に、PH膜の接着強度が向上する。
よれば、BM膜パターンの形成裕度が向上すると
共に、PH膜の接着強度が向上する。
図は本発明になる方法の一実施例を示し、第１
図は露光方法の原理説明図、第２図ａはストライ
プタイプけい光面の平面説明図、第２図ｂは第２
図ａの断面図、第３図は露光強度を示す説明図、
第４図はシヤドウマスクのブリツジ部を消去する
ための線状光源長さを示す原理説明図、第５図は
BM膜形成時及びPH膜形成時各々の光源径と露
光強度を比較した要部断面工程図である。 １……パネル、２……ホトレジスト、２ａ……
ホトレジストストライプ、３……線状光源、４…
…シヤドウマスク、５……スリツトパターン、６
……BM膜ストライプパターン、７，７Ｇ，７
Ｂ，７Ｒ……PH膜ストライプ、８……光スポツ
ト、１１……光吸収性物質、１１ａ……BM膜、
１２，１２Ｇ……けい光体スラリー。
図は露光方法の原理説明図、第２図ａはストライ
プタイプけい光面の平面説明図、第２図ｂは第２
図ａの断面図、第３図は露光強度を示す説明図、
第４図はシヤドウマスクのブリツジ部を消去する
ための線状光源長さを示す原理説明図、第５図は
BM膜形成時及びPH膜形成時各々の光源径と露
光強度を比較した要部断面工程図である。 １……パネル、２……ホトレジスト、２ａ……
ホトレジストストライプ、３……線状光源、４…
…シヤドウマスク、５……スリツトパターン、６
……BM膜ストライプパターン、７，７Ｇ，７
Ｂ，７Ｒ……PH膜ストライプ、８……光スポツ
ト、１１……光吸収性物質、１１ａ……BM膜、
１２，１２Ｇ……けい光体スラリー。
Claims (1)
- １ パネル内面に塗布したホトレジストに光源か
らの光線をシヤドウマスクの開口孔を通して露光
感光を行なつて前記開口孔の幅より小さな間隔の
ブラツクマトリツクス膜パターンを露光装置で形
成し、次に前記ブラツクマトリツクス膜パターン
を形成したパネル内面に塗布したけい光体スラリ
ーに光源からの光線をシヤドウマスクの開口孔を
通して露光感光を行なつて前記開口孔の幅より大
きな幅のけい光膜を露光装置で形成するカラー受
像管映像スクリーンの露光方法において、前記ブ
ラツクマトリツクス膜パターン形成時は前記けい
光膜形成時より前記光源径を大きくして露光を行
なうことを特徴とするカラー受像管映像スクリー
ンの露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12299881A JPS5825036A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | カラ−受像管映像スクリ−ンの露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12299881A JPS5825036A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | カラ−受像管映像スクリ−ンの露光方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2211722A Division JPH0616376B2 (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | カラー受像管映像スクリーンの露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5825036A JPS5825036A (ja) | 1983-02-15 |
| JPH0437533B2 true JPH0437533B2 (ja) | 1992-06-19 |
Family
ID=14849737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12299881A Granted JPS5825036A (ja) | 1981-08-07 | 1981-08-07 | カラ−受像管映像スクリ−ンの露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5825036A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62293963A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-21 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 継続接続電力変換器の制御装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5222228A (en) * | 1975-08-12 | 1977-02-19 | Schneider Jean Claude | Head rest for automotive seat |
-
1981
- 1981-08-07 JP JP12299881A patent/JPS5825036A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5222228A (en) * | 1975-08-12 | 1977-02-19 | Schneider Jean Claude | Head rest for automotive seat |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5825036A (ja) | 1983-02-15 |
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