JPH04372931A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH04372931A JPH04372931A JP3150793A JP15079391A JPH04372931A JP H04372931 A JPH04372931 A JP H04372931A JP 3150793 A JP3150793 A JP 3150793A JP 15079391 A JP15079391 A JP 15079391A JP H04372931 A JPH04372931 A JP H04372931A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133765—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers without a surface treatment
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスプレイ、テレビ
などに用いられる液晶表示素子の製造方法に関する。
などに用いられる液晶表示素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子において、液晶分子は、液
晶セル内で一定方向に揃って配向していることが必要と
される。液晶分子の配向処理方法としては、従来、ポリ
イミドに代表される有機高分子などの薄膜を印刷などに
より形成したあと、布などを巻いたローラを回転させな
がら、薄膜を摩擦し配向方向を付与するラビング処理法
が、広く行われている。その他、基板上の有機高分子薄
膜に、微細な溝加工が施された型を押し当てて、薄膜に
パターンを転写する方法などがある。
晶セル内で一定方向に揃って配向していることが必要と
される。液晶分子の配向処理方法としては、従来、ポリ
イミドに代表される有機高分子などの薄膜を印刷などに
より形成したあと、布などを巻いたローラを回転させな
がら、薄膜を摩擦し配向方向を付与するラビング処理法
が、広く行われている。その他、基板上の有機高分子薄
膜に、微細な溝加工が施された型を押し当てて、薄膜に
パターンを転写する方法などがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来は、以上のような
方法で、液晶分子の配向を行っていた。しかしながら、
上記の従来の技術に関して下記のような欠点があげられ
る。例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング
素子として用いた液晶表示素子を例にとると、ラビング
処理による配向処理は、装置的には簡単であるものの、
ラビング処理による有機高分子薄膜の損傷や剥離、かつ
ラビング中に発生する静電気による基板中のトランジス
タの静電破壊、ラビング布からの発塵などにより、液晶
表示素子の性能低下、および不良の発生の原因となって
いた。
方法で、液晶分子の配向を行っていた。しかしながら、
上記の従来の技術に関して下記のような欠点があげられ
る。例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング
素子として用いた液晶表示素子を例にとると、ラビング
処理による配向処理は、装置的には簡単であるものの、
ラビング処理による有機高分子薄膜の損傷や剥離、かつ
ラビング中に発生する静電気による基板中のトランジス
タの静電破壊、ラビング布からの発塵などにより、液晶
表示素子の性能低下、および不良の発生の原因となって
いた。
【０００４】また、有機高分子薄膜に凹凸を有する型を
押し付けて、微細な溝を形成する方法においては、溝だ
けでは液晶分子は、基板の溝方向のどちらに向かって配
向しても良いため、場合によっては、まったく違った方
向へプレチルトした液晶分子の列ができてしまい、これ
が画面上では、輝線となってしまう場合があった。
押し付けて、微細な溝を形成する方法においては、溝だ
けでは液晶分子は、基板の溝方向のどちらに向かって配
向しても良いため、場合によっては、まったく違った方
向へプレチルトした液晶分子の列ができてしまい、これ
が画面上では、輝線となってしまう場合があった。
【０００５】本発明は、上記の問題に鑑み、ラビング処
理を用いずに良好な液晶分子の配向性を実現し、不良発
生の少ない高品質の液晶表示素子を得ることのできる製
造方法を提供することを目的とする。
理を用いずに良好な液晶分子の配向性を実現し、不良発
生の少ない高品質の液晶表示素子を得ることのできる製
造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段および作用】本発明は、基
板表面に配向膜を形成する際に、凹凸のある型を基板表
面に押印、移動して溝を形成する配向工程を具備したこ
とを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。
板表面に配向膜を形成する際に、凹凸のある型を基板表
面に押印、移動して溝を形成する配向工程を具備したこ
とを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。
【０００７】すなわち、本発明は図１に示すように液晶
表示素子の配向膜を形成する工程において、配向膜とな
る樹脂膜２を形成した基板１表面に凹凸のある型３を押
し付けることにより基板に微細な溝４を形成し、さらに
、この型３を矢印５で示される溝方向に押印しながら移
動させることにより、配向膜を得るものである。
表示素子の配向膜を形成する工程において、配向膜とな
る樹脂膜２を形成した基板１表面に凹凸のある型３を押
し付けることにより基板に微細な溝４を形成し、さらに
、この型３を矢印５で示される溝方向に押印しながら移
動させることにより、配向膜を得るものである。
【０００８】本発明においては、型を溝の方向に移動さ
せる工程により、液晶分子の単なる溝に対する形状効果
の配向だけでなく、樹脂の分子の配向による液晶配向の
規制が可能となった。つまり、溝の方向へ型を移動させ
ることで、ラビング処理と同様な効果が得られることが
わかった。しかし本発明は、型を用いるため発塵や静電
気の発生は、ラビング処理に比べて低減される。
せる工程により、液晶分子の単なる溝に対する形状効果
の配向だけでなく、樹脂の分子の配向による液晶配向の
規制が可能となった。つまり、溝の方向へ型を移動させ
ることで、ラビング処理と同様な効果が得られることが
わかった。しかし本発明は、型を用いるため発塵や静電
気の発生は、ラビング処理に比べて低減される。
【０００９】本発明における基板としては、通常のガラ
ス、ポリアクリル樹脂等の透明基板を用いることが可能
であり、また配向膜としてはポリイミド、ポリアミド等
の各種の有機高分子膜を使用することができ、特に限定
されるものではない。また、基板自体が配向膜を兼ねて
いても良い。本発明は型の材質は、とくに規定しないが
、樹脂膜や基板の繰り返しの押印に十分な耐久性と樹脂
膜、または基板との分離の良いものが好ましい。また、
本発明において押印に用いる圧力は、配向膜の種類によ
って異なるため特に限定はない。
ス、ポリアクリル樹脂等の透明基板を用いることが可能
であり、また配向膜としてはポリイミド、ポリアミド等
の各種の有機高分子膜を使用することができ、特に限定
されるものではない。また、基板自体が配向膜を兼ねて
いても良い。本発明は型の材質は、とくに規定しないが
、樹脂膜や基板の繰り返しの押印に十分な耐久性と樹脂
膜、または基板との分離の良いものが好ましい。また、
本発明において押印に用いる圧力は、配向膜の種類によ
って異なるため特に限定はない。
【００１０】また、型の移動は押印状態で行うが、この
移動距離は長い方が液晶分子の配向性が良くなるため、
基板に対して１ｃｍ以上の距離を移動させることが好ま
しい。この操作を繰り返して用いることも可能である。 すなわち、押印して移動した後、同じ溝に重なるように
、型を押印して同一方向へ移動させるものである。
移動距離は長い方が液晶分子の配向性が良くなるため、
基板に対して１ｃｍ以上の距離を移動させることが好ま
しい。この操作を繰り返して用いることも可能である。 すなわち、押印して移動した後、同じ溝に重なるように
、型を押印して同一方向へ移動させるものである。
【００１１】また、図２断面図にて示す様な型を用いる
こともできる。型は、基板上に溝を形成するために、型
の表面には凹凸を有している。図２の型は、型の凹部６
が曲面であるものである。凹部を曲面にすることにより
、型を溝方向に移動させた場合、型による基板表面の材
料の損傷や剥離を低減することができる。本発明におい
て、型の形状は液晶の配向性の向上が得られれば特に規
定しないが、配向膜の断面が図２に示すように角Ａ＝約
９０°であるような、いわゆる工場屋根型形状の配向膜
２が得られるような型を用いると、液晶の配向性が向上
する。また、微細加工を必要とする型の製造上の観点か
らも角Ｂ≦４５°が望ましい。
こともできる。型は、基板上に溝を形成するために、型
の表面には凹凸を有している。図２の型は、型の凹部６
が曲面であるものである。凹部を曲面にすることにより
、型を溝方向に移動させた場合、型による基板表面の材
料の損傷や剥離を低減することができる。本発明におい
て、型の形状は液晶の配向性の向上が得られれば特に規
定しないが、配向膜の断面が図２に示すように角Ａ＝約
９０°であるような、いわゆる工場屋根型形状の配向膜
２が得られるような型を用いると、液晶の配向性が向上
する。また、微細加工を必要とする型の製造上の観点か
らも角Ｂ≦４５°が望ましい。
【００１２】
【実施例】（実施例１）
【００１３】図３に示すような、形状の型をエポキシ樹
脂のレーザ加工で作成した。型の凸部の先端間の距離は
５μｍで、また、曲面の凹部１ｂはレーザ溶融加工で作
成した。角Ａ＝９０°、角Ｂ＝４５°とした。ガラス基
板にポリイミドを塗布し、重合したものに、上記の型を
１０ｇ／ｃｍ圧力で押印し、溝方向へそのまま型を５０
ｃｍ／ｍｉｎの速度で移動させた。この移動で型はその
まま外れ、配向膜が残される。以上のように配向膜を形
成した基板２枚用い、そのうち一枚にスペーサを散布し
、もう一方の基板を重ね合わせ、周辺部をシールし、シ
ール部の一端に設けた液晶注入口から２２９３（メルク
社製）液晶を注入し、液晶注入口を接着剤で封着して液
晶セルを作成した。
脂のレーザ加工で作成した。型の凸部の先端間の距離は
５μｍで、また、曲面の凹部１ｂはレーザ溶融加工で作
成した。角Ａ＝９０°、角Ｂ＝４５°とした。ガラス基
板にポリイミドを塗布し、重合したものに、上記の型を
１０ｇ／ｃｍ圧力で押印し、溝方向へそのまま型を５０
ｃｍ／ｍｉｎの速度で移動させた。この移動で型はその
まま外れ、配向膜が残される。以上のように配向膜を形
成した基板２枚用い、そのうち一枚にスペーサを散布し
、もう一方の基板を重ね合わせ、周辺部をシールし、シ
ール部の一端に設けた液晶注入口から２２９３（メルク
社製）液晶を注入し、液晶注入口を接着剤で封着して液
晶セルを作成した。
【００１４】以上のようにして得られた液晶セルを用い
て、液晶分子の配向を偏光顕微鏡で観察した。この結果
大きな欠陥もなく、配向した液晶を観測することができ
た。セルの配置をＴＮ型にした場合、パラレルにした場
合どちらの場合も良好な均一配向が得られた。
て、液晶分子の配向を偏光顕微鏡で観察した。この結果
大きな欠陥もなく、配向した液晶を観測することができ
た。セルの配置をＴＮ型にした場合、パラレルにした場
合どちらの場合も良好な均一配向が得られた。
【００１５】
【発明の効果】以上のことから、本発明によればラビン
グ処理を用いることなく良好な液晶の配向性を得ること
ができ、ラビング処理を用いないで塵や、静電気の発生
、高品質の液晶表示素子を得ることができ、工業的価値
は大である。
グ処理を用いることなく良好な液晶の配向性を得ること
ができ、ラビング処理を用いないで塵や、静電気の発生
、高品質の液晶表示素子を得ることができ、工業的価値
は大である。
【図１】 液晶表示素子の模式図。
【図２】 本発明にかかる型の断面図。
【図３】 実施例で用いた型の断面図。
１…基板
２…配向膜
３…型
４…溝
５…型の移動方向を示す矢印
６…凹部
Claims (1)
- 【請求項１】 基板表面に配向膜を形成する際に、凹
凸のある型を基板表面に押印、移動して溝を形成する配
向工程を具備したことを特徴とする液晶表示素子の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3150793A JPH04372931A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3150793A JPH04372931A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04372931A true JPH04372931A (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=15504560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3150793A Pending JPH04372931A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04372931A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005098523A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Intel Corporation | Process for micro-grooving a polymer alignment layer for a liquid crystal display |
| JP2007011105A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射体製造方法、反射体及び転写シート |
| CN103995394A (zh) * | 2014-03-19 | 2014-08-20 | 南开大学 | 一种基于激光直写的微纳区域液晶定向的方法及其系统 |
-
1991
- 1991-06-24 JP JP3150793A patent/JPH04372931A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005098523A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Intel Corporation | Process for micro-grooving a polymer alignment layer for a liquid crystal display |
| JP2007531063A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | インテル コーポレイション | 液晶ディスプレイ用ポリマー配向層にミクロンスケールの溝を形成するプロセス |
| US7297369B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-11-20 | Intel Corporation | Process for micro-grooving a polymer alignment layer for a liquid crystal display |
| KR100847612B1 (ko) * | 2004-03-31 | 2008-07-21 | 인텔 코오퍼레이션 | 액정 디스플레이용 폴리머 배향막에 마이크로그루브들을만드는 방법 |
| JP4704423B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2011-06-15 | インテル コーポレイション | 液晶ディスプレイ用ポリマー配向層にミクロンスケールの溝を形成するプロセス |
| JP2007011105A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射体製造方法、反射体及び転写シート |
| CN103995394A (zh) * | 2014-03-19 | 2014-08-20 | 南开大学 | 一种基于激光直写的微纳区域液晶定向的方法及其系统 |
| WO2015139353A1 (zh) * | 2014-03-19 | 2015-09-24 | 南开大学 | 一种基于激光直写的微纳区域液晶定向方法及其系统 |
| US10459294B2 (en) | 2014-03-19 | 2019-10-29 | Nankai University | Method for orientation of liquid crystals in micro/nano region on basis of laser direct writing and system thereof |
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