JPH04372151A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置Info
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- JPH04372151A JPH04372151A JP3175979A JP17597991A JPH04372151A JP H04372151 A JPH04372151 A JP H04372151A JP 3175979 A JP3175979 A JP 3175979A JP 17597991 A JP17597991 A JP 17597991A JP H04372151 A JPH04372151 A JP H04372151A
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- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 43
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000016507 interphase Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manipulator (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば半導体ウエハを搬
送するための搬送装置に関する。
送するための搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハの処理工程においては、真
空雰囲気内でウエハを搬送する場合がある。例えばイオ
ン注入処理装置では、真空処理室内の注入ディスク上の
プラテンとロードロック室との間で搬送アーム等により
ウエハが搬送される。
空雰囲気内でウエハを搬送する場合がある。例えばイオ
ン注入処理装置では、真空処理室内の注入ディスク上の
プラテンとロードロック室との間で搬送アーム等により
ウエハが搬送される。
【０００３】ところで真空雰囲気内ではウエハを保持す
るにあたって真空吸着を用いることができないため、従
来例えば摩擦係数の大きなラバー等を使用してスリップ
を防止する方法、あるいは機械的な当り面をウエハの周
囲に設けてウエハの脱落を防止する方法等が採用されて
いた。
るにあたって真空吸着を用いることができないため、従
来例えば摩擦係数の大きなラバー等を使用してスリップ
を防止する方法、あるいは機械的な当り面をウエハの周
囲に設けてウエハの脱落を防止する方法等が採用されて
いた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらラバー等
を用いる場合には、ラバーの汚れがウエハに付着するし
、これら材料自体からの発塵や化学的なコンタミネーシ
ョン等も問題になる他、加速度や振動が大きくなるとウ
エハが位置ずれを起こし、場合によっては脱落のおそれ
もある。
を用いる場合には、ラバーの汚れがウエハに付着するし
、これら材料自体からの発塵や化学的なコンタミネーシ
ョン等も問題になる他、加速度や振動が大きくなるとウ
エハが位置ずれを起こし、場合によっては脱落のおそれ
もある。
【０００５】また機械的な当り面を設けた場合には、当
り面内の許容範囲内でウエハが動き、これにより発塵や
損傷のおそれがある他、アームの先端部が厚くなり、ウ
エハキャリア等の狭いピッチの領域に対するアクセス能
力が落ちるという問題もある。
り面内の許容範囲内でウエハが動き、これにより発塵や
損傷のおそれがある他、アームの先端部が厚くなり、ウ
エハキャリア等の狭いピッチの領域に対するアクセス能
力が落ちるという問題もある。
【０００６】本発明はこのような事情のもとになされた
ものであり、その目的は、例えば真空雰囲気内において
ウエハ等の被搬送物を確実に搬送することのできる搬送
装置を提供することにある。
ものであり、その目的は、例えば真空雰囲気内において
ウエハ等の被搬送物を確実に搬送することのできる搬送
装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、被搬送物を保
持部に保持した状態で搬送する装置において、 前記
保持部に設けられ、被搬送物を静電吸着するための誘電
体よりなる吸着層と、前記吸着層の表面より下方位置に
て、当該吸着層の面方向に互に離間して配置された複数
の電極部と、前記電極部間に電圧を印加する電源部と、
前記電極部間への電圧の印加、停止を制御する制御部と
、を有することを特徴とする。
持部に保持した状態で搬送する装置において、 前記
保持部に設けられ、被搬送物を静電吸着するための誘電
体よりなる吸着層と、前記吸着層の表面より下方位置に
て、当該吸着層の面方向に互に離間して配置された複数
の電極部と、前記電極部間に電圧を印加する電源部と、
前記電極部間への電圧の印加、停止を制御する制御部と
、を有することを特徴とする。
【０００８】この場合電源部を少なくとも３個以上設け
るようにし、これら電極間に多相交流を印加してもよい
。
るようにし、これら電極間に多相交流を印加してもよい
。
【０００９】そして真空雰囲気内で使用する場合には、
真空雰囲気の気圧を検出する気圧検出部と、この気圧検
出部よりの気圧検出値が予め定められた範囲内にあると
きには、電極部間への電圧の印加を禁止するインターロ
ック部とを設けるようにしてもよい。
真空雰囲気の気圧を検出する気圧検出部と、この気圧検
出部よりの気圧検出値が予め定められた範囲内にあると
きには、電極部間への電圧の印加を禁止するインターロ
ック部とを設けるようにしてもよい。
【００１０】
【作用】例えば搬送アームの保持部がロードロック室内
のウエハを受け取る際に電極部間に直流または交流電圧
を印加すると、導電体であるウエハが静電力により吸着
される。そして例えば電極部を３つ設けてこれらの間に
三相交流電圧を印加すると常にいずれかの電極部間に零
以上の電圧が印加されているためウエハが保持部に強固
に保持される。
のウエハを受け取る際に電極部間に直流または交流電圧
を印加すると、導電体であるウエハが静電力により吸着
される。そして例えば電極部を３つ設けてこれらの間に
三相交流電圧を印加すると常にいずれかの電極部間に零
以上の電圧が印加されているためウエハが保持部に強固
に保持される。
【００１１】またウエハを所定位置に載置する際に電圧
印加を停止すると、直流電圧により駆動されている場合
には誘電分極の程度に応じて若干の保持の解除に時間が
かかるが、交流電圧により駆動されている場合には吸着
層の誘電分極が軽微であるためウエハは保持部から速や
かに離脱する。
印加を停止すると、直流電圧により駆動されている場合
には誘電分極の程度に応じて若干の保持の解除に時間が
かかるが、交流電圧により駆動されている場合には吸着
層の誘電分極が軽微であるためウエハは保持部から速や
かに離脱する。
【００１２】この場合真空雰囲気内の気圧が真空放電を
起こしやすい領域内にあればインターロック部により電
圧印加が禁止されるので配線接続部などにおける放電短
絡事故を防止できる。
起こしやすい領域内にあればインターロック部により電
圧印加が禁止されるので配線接続部などにおける放電短
絡事故を防止できる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の実施例を、例えば被処理物とし
てのウエハを真空処理するための真空処理室内にて使用
する場合を例にとって説明すると、図１中１は、ウエハ
の搬送アーム２の先端部に設けられたウエハ保持部であ
る。
てのウエハを真空処理するための真空処理室内にて使用
する場合を例にとって説明すると、図１中１は、ウエハ
の搬送アーム２の先端部に設けられたウエハ保持部であ
る。
【００１４】以下本発明を例えば被処理体としてのウエ
ハを真空処理室内にて搬送する搬送アームに適用した実
施例について説明する。図１中１は、搬送アーム２の先
端部に設けられたウエハ保持部でありこのウエハ保持部
１は図２に示すように例えば１〜２ｍｍ程度の薄い板状
の例えばセラミックなどの誘電体により構成されている
。前記ウエハ保持部１内には、ウエハ保持部１の長さ方
向に沿って分割された３つの電極部としての電極層４Ａ
、４Ｂ、４Ｃがウエハ保持部１の表面から例えば２００
μｍ程度の深さの位置に埋設されている。この例では電
極層４Ａ〜４Ｃの上方に位置する部分が吸着層３に相当
する。
ハを真空処理室内にて搬送する搬送アームに適用した実
施例について説明する。図１中１は、搬送アーム２の先
端部に設けられたウエハ保持部でありこのウエハ保持部
１は図２に示すように例えば１〜２ｍｍ程度の薄い板状
の例えばセラミックなどの誘電体により構成されている
。前記ウエハ保持部１内には、ウエハ保持部１の長さ方
向に沿って分割された３つの電極部としての電極層４Ａ
、４Ｂ、４Ｃがウエハ保持部１の表面から例えば２００
μｍ程度の深さの位置に埋設されている。この例では電
極層４Ａ〜４Ｃの上方に位置する部分が吸着層３に相当
する。
【００１５】ここで前記電極層４Ａ〜４Ｃには、夫々端
子４１Ａ〜４１Ｃが設けられており、これら端子４１Ａ
〜４１Ｃは、電気的には夫々三相スイッチ部５を介して
三相交流電源部６のＵ、Ｖ、Ｗ相に接続されている。
子４１Ａ〜４１Ｃが設けられており、これら端子４１Ａ
〜４１Ｃは、電気的には夫々三相スイッチ部５を介して
三相交流電源部６のＵ、Ｖ、Ｗ相に接続されている。
【００１６】ここで前記各端子４１Ａ〜４１Ｃから三相
スイッチ部５に至るまでの具体的な配線の一例に関して
図２及び図３を参照しながら説明すると、この例では、
搬送アーム２が第１〜第３のアーム２１〜２３よりなる
多関節アームとして構成されており、第３アーム２３は
基台２４に対して回動自在に取り付けられている。また
基台２４と第３アーム２３との接合部には、基台２４に
対して固定された固定プーリＰ１が設けられると共に、
第１アーム２１と第２アーム２２との関節部には、第１
アーム２１に対して固定された固定プーリＰ２が設けら
れている。更に第２アーム２２と第３アーム２３との間
には、これらアーム２２、２３に対して回動自在な回動
プーリＰ３が設けられている。
スイッチ部５に至るまでの具体的な配線の一例に関して
図２及び図３を参照しながら説明すると、この例では、
搬送アーム２が第１〜第３のアーム２１〜２３よりなる
多関節アームとして構成されており、第３アーム２３は
基台２４に対して回動自在に取り付けられている。また
基台２４と第３アーム２３との接合部には、基台２４に
対して固定された固定プーリＰ１が設けられると共に、
第１アーム２１と第２アーム２２との関節部には、第１
アーム２１に対して固定された固定プーリＰ２が設けら
れている。更に第２アーム２２と第３アーム２３との間
には、これらアーム２２、２３に対して回動自在な回動
プーリＰ３が設けられている。
【００１７】そして回動プーリＰ３を例えば上下２段に
分割しかつ互いに連動する構造とし三相交流の電流路を
なす例えば第１のフレキシブルプリントサーキット（Ｆ
ＰＣ）７１の一端及び他端を夫々固定プーリＰ２及び回
動プーリＰ３の上段側の部分Ｐ３１に固定すると共に、
（図３の（Ａ）参照）第２のＦＰＣ７２の一端及び他端
を夫々回動プーリＰ３の下段側の部分Ｐ３２及び固定プ
ーリＰ１に固定し、（図３の（Ｂ）参照）、第１のＦＰ
Ｃ７１及び第２のＦＰＣ７２の間を回動プーリＰ３の軸
部内を貫通して接続する。ただしＦＰＣは概念上分割し
て説明したが実際には１本のものでも構成できる。なお
固定プーリＰ１側のＦＰＣ７２の端部は、例えば基台２
４の軸部の中を通って外部の三相スイッチ部５に接続さ
れる。
分割しかつ互いに連動する構造とし三相交流の電流路を
なす例えば第１のフレキシブルプリントサーキット（Ｆ
ＰＣ）７１の一端及び他端を夫々固定プーリＰ２及び回
動プーリＰ３の上段側の部分Ｐ３１に固定すると共に、
（図３の（Ａ）参照）第２のＦＰＣ７２の一端及び他端
を夫々回動プーリＰ３の下段側の部分Ｐ３２及び固定プ
ーリＰ１に固定し、（図３の（Ｂ）参照）、第１のＦＰ
Ｃ７１及び第２のＦＰＣ７２の間を回動プーリＰ３の軸
部内を貫通して接続する。ただしＦＰＣは概念上分割し
て説明したが実際には１本のものでも構成できる。なお
固定プーリＰ１側のＦＰＣ７２の端部は、例えば基台２
４の軸部の中を通って外部の三相スイッチ部５に接続さ
れる。
【００１８】一方第１のアーム２１においては、一端が
固定プーリＰ２にてＦＰＣ７１に接続された三相交流配
線７がアーム２１の裏面に沿って設けられ、この三相交
流配線７の他端側の芯線は、アーム２１の裏面に突出し
ている前記端子４１Ａ〜４１Ｃに接続されている（図２
参照）。
固定プーリＰ２にてＦＰＣ７１に接続された三相交流配
線７がアーム２１の裏面に沿って設けられ、この三相交
流配線７の他端側の芯線は、アーム２１の裏面に突出し
ている前記端子４１Ａ〜４１Ｃに接続されている（図２
参照）。
【００１９】このような配線方法によれば、搬送アーム
２の長さ方向に沿ってウエハＷを並行に搬送する場合、
回動プーリＰ３は第１のＦＰＣ７１及びＦＰＣ７２によ
って自転が制限され、例えばアームを縮退させる場合、
ＦＰＣ７１、７２は、例えば固定プーリＰ１、Ｐ２から
ほどけると共に回動プーリＰ３に巻き付くことになるか
ら、ＦＰＣ７１、７２に弛みが生じないなどの利点があ
る。
２の長さ方向に沿ってウエハＷを並行に搬送する場合、
回動プーリＰ３は第１のＦＰＣ７１及びＦＰＣ７２によ
って自転が制限され、例えばアームを縮退させる場合、
ＦＰＣ７１、７２は、例えば固定プーリＰ１、Ｐ２から
ほどけると共に回動プーリＰ３に巻き付くことになるか
ら、ＦＰＣ７１、７２に弛みが生じないなどの利点があ
る。
【００２０】一方この実施例では、搬送装置本体が設置
される真空処理室内に、気圧検出部８１が設けられてお
り、例えばイオン注入処理全体をコントロールするコン
トローラ８２よりの指令と気圧検出部８１の検出結果と
を入力条件とするインターロック部９の出力によって、
前記三相スイッチ部５のオン、オフ制御が行われる。
される真空処理室内に、気圧検出部８１が設けられてお
り、例えばイオン注入処理全体をコントロールするコン
トローラ８２よりの指令と気圧検出部８１の検出結果と
を入力条件とするインターロック部９の出力によって、
前記三相スイッチ部５のオン、オフ制御が行われる。
【００２１】前記インターロック部９は、気圧検出部８
１の気圧検出値が所定範囲のときに例えば論理「０」の
ロック指令を出力する比較部９１と、この比較部９１よ
りの指令とコントローラ８２よりの指令とを入力条件と
するアンド回路９２とから構成されている。この処理は
もちろんソフトウエアによっても行なうことが可能であ
る。
１の気圧検出値が所定範囲のときに例えば論理「０」の
ロック指令を出力する比較部９１と、この比較部９１よ
りの指令とコントローラ８２よりの指令とを入力条件と
するアンド回路９２とから構成されている。この処理は
もちろんソフトウエアによっても行なうことが可能であ
る。
【００２２】ここで上述の気圧検出値の「所定範囲」と
は、真空放電を起こす領域であり、この例では三相交流
配線７の芯線と端子４１Ａ〜４１Ｃとの接続部が真空雰
囲気内に露出しているため、例えばこの接続部が真空放
電を起こす領域を予め見い出しておいて、インターロッ
クのかかる気圧範囲として設定しておけばよい。
は、真空放電を起こす領域であり、この例では三相交流
配線７の芯線と端子４１Ａ〜４１Ｃとの接続部が真空雰
囲気内に露出しているため、例えばこの接続部が真空放
電を起こす領域を予め見い出しておいて、インターロッ
クのかかる気圧範囲として設定しておけばよい。
【００２３】即ち前記端子４１Ａ〜４１Ｃ間に例えば２
ＫＶの交流電圧を印加する場合、大気圧中ではこれらの
間においては放電しないよう、充分な間隔が確保できる
が、真空引きによりある気圧範囲を通過する間は極めて
真空放電が起こり易くなり、一般に電極間隔では対処で
きない。更に真空引きをしてある気圧以下になると真空
放電が起こらなくなる。この気圧範囲は印加電圧の大き
さなどによって変わるため、実際に使用する条件下で放
電領域を測定しておき、これらの範囲内でインターロッ
クが機能するように設定すればよい。
ＫＶの交流電圧を印加する場合、大気圧中ではこれらの
間においては放電しないよう、充分な間隔が確保できる
が、真空引きによりある気圧範囲を通過する間は極めて
真空放電が起こり易くなり、一般に電極間隔では対処で
きない。更に真空引きをしてある気圧以下になると真空
放電が起こらなくなる。この気圧範囲は印加電圧の大き
さなどによって変わるため、実際に使用する条件下で放
電領域を測定しておき、これらの範囲内でインターロッ
クが機能するように設定すればよい。
【００２４】次に上述実施例の作用について述べる。今
搬送アーム２が図示しないイオン注入装置のロードロッ
ク室内にウエハを取りにいき、ウエハ保持部１の上にウ
エハＷが載ったとすると（図２の状態）、コントローラ
８２から三相スイッチ部５のオン指令が出力される。
搬送アーム２が図示しないイオン注入装置のロードロッ
ク室内にウエハを取りにいき、ウエハ保持部１の上にウ
エハＷが載ったとすると（図２の状態）、コントローラ
８２から三相スイッチ部５のオン指令が出力される。
【００２５】一方気圧検出部８１よりの気圧検出値が設
定範囲の外であれば、比較部９１の出力から論理「１」
の信号が出力され、この結果インターロックが作用する
ことなく、前記コントローラ８２からのオン指令が三相
スイッチ部５に与えられ、三相スイッチ部５がオン状態
となる。この結果電源部６から電極層４Ａ〜４Ｃ間に夫
々三相交流の相間電圧が印加される。これによって導電
体であるウエハＷとの間に静電力が作用してウエハＷが
吸着層３に静電吸着される。
定範囲の外であれば、比較部９１の出力から論理「１」
の信号が出力され、この結果インターロックが作用する
ことなく、前記コントローラ８２からのオン指令が三相
スイッチ部５に与えられ、三相スイッチ部５がオン状態
となる。この結果電源部６から電極層４Ａ〜４Ｃ間に夫
々三相交流の相間電圧が印加される。これによって導電
体であるウエハＷとの間に静電力が作用してウエハＷが
吸着層３に静電吸着される。
【００２６】ここで電極層４Ａ〜４Ｃには三相交流電圧
が印加されているので、電極層４Ａ〜４Ｃ間のいずれか
に常に電圧が印加されており、従ってウエハＷには常に
静電力が作用し、ウエハＷが保持部１に強固に保持され
る。
が印加されているので、電極層４Ａ〜４Ｃ間のいずれか
に常に電圧が印加されており、従ってウエハＷには常に
静電力が作用し、ウエハＷが保持部１に強固に保持され
る。
【００２７】その後図３に示す基台２４の回動とアーム
２１〜２３による保持部１の直線移動との組み合わせに
より、ウエハがイオン注入のための注入ディスク上の所
定位置に搬送され、ウエハの受け渡しの際コントローラ
８２により三相スイッチ部５をオフして静電吸着を解除
する。
２１〜２３による保持部１の直線移動との組み合わせに
より、ウエハがイオン注入のための注入ディスク上の所
定位置に搬送され、ウエハの受け渡しの際コントローラ
８２により三相スイッチ部５をオフして静電吸着を解除
する。
【００２８】この場合誘電体に印加されている電圧は交
流電圧であり、このため誘電分極が進行する前に電界の
向きが変わり、誘電分極が軽微であるから、電圧印加を
停止すると、静電力は瞬時に解除される。
流電圧であり、このため誘電分極が進行する前に電界の
向きが変わり、誘電分極が軽微であるから、電圧印加を
停止すると、静電力は瞬時に解除される。
【００２９】以上において、電極層４Ａ〜４Ｃの端子４
１Ａ〜４１Ｃと三相交流配線７の芯線との接続部を真空
雰囲気に露出する構造とする場合、インターロック部９
を設けることなく、真空放電を起こす気圧範囲内では搬
送アームを使用しないようにしてもよいが、短絡を確実
に防止するためには、インターロック部９を設けること
が好ましい。
１Ａ〜４１Ｃと三相交流配線７の芯線との接続部を真空
雰囲気に露出する構造とする場合、インターロック部９
を設けることなく、真空放電を起こす気圧範囲内では搬
送アームを使用しないようにしてもよいが、短絡を確実
に防止するためには、インターロック部９を設けること
が好ましい。
【００３０】また本発明では、アーム２（２１〜２３）
の中に外部に連通する連通路を形成して、この中に三相
交流配線７を通すと共に、電極層４Ａ〜４Ｃの下方側に
前記連通路の終端位置に相当する中空領域を形成し、こ
の中空領域にて、端子４１Ａ〜４１Ｃと配線７との接続
を行えば、接続部は大気圧雰囲気にあるからインターロ
ック部９を設けなくとも短絡が起こらない。
の中に外部に連通する連通路を形成して、この中に三相
交流配線７を通すと共に、電極層４Ａ〜４Ｃの下方側に
前記連通路の終端位置に相当する中空領域を形成し、こ
の中空領域にて、端子４１Ａ〜４１Ｃと配線７との接続
を行えば、接続部は大気圧雰囲気にあるからインターロ
ック部９を設けなくとも短絡が起こらない。
【００３１】そしてまた本発明では、上述実施例の構成
において前記接続部を完全にモールドして真空雰囲気か
ら遮断すれば、気圧に関係なく使用できるが、メンテナ
ンス性が損なわれる。そこで本実施例のように接続部を
真空雰囲気に露出するか、あるいは上述のように中空領
域にて接続を行い、更に例えばウエハ保持部１をアーム
２に対して着脱自在に取り付けるようにすれば、ウエハ
保持部１の交換等のメンテナンスを容易に行うことがで
きる。
において前記接続部を完全にモールドして真空雰囲気か
ら遮断すれば、気圧に関係なく使用できるが、メンテナ
ンス性が損なわれる。そこで本実施例のように接続部を
真空雰囲気に露出するか、あるいは上述のように中空領
域にて接続を行い、更に例えばウエハ保持部１をアーム
２に対して着脱自在に取り付けるようにすれば、ウエハ
保持部１の交換等のメンテナンスを容易に行うことがで
きる。
【００３２】更に本発明では、電極間に直流電圧を印加
してもよく、この場合電圧の印加を停止した後誘電分極
の程度に応じて被搬送物の保持の解除に若干時間がかか
るが、搬送に余裕のあるシステムに対しては適応するこ
とができる。
してもよく、この場合電圧の印加を停止した後誘電分極
の程度に応じて被搬送物の保持の解除に若干時間がかか
るが、搬送に余裕のあるシステムに対しては適応するこ
とができる。
【００３３】また電極間に交流電圧を印加する場合１組
の電極間に単相交流を印加するようにしてもよいし、あ
るいは２個１組の電極部間に互いに位相をずらした単相
交流電圧を各組の電極部間に印加するようにしてもよい
。
の電極間に単相交流を印加するようにしてもよいし、あ
るいは２個１組の電極部間に互いに位相をずらした単相
交流電圧を各組の電極部間に印加するようにしてもよい
。
【００３４】更にまた本発明はフレキシブルな基体部の
上に、電極層を内蔵したフレキシブルな誘電体膜を着脱
自在に貼着して、ウエハの反りを吸収できるウエハ保持
部を構成するといった手法を採用することもできる。
上に、電極層を内蔵したフレキシブルな誘電体膜を着脱
自在に貼着して、ウエハの反りを吸収できるウエハ保持
部を構成するといった手法を採用することもできる。
【００３５】なお、本発明の搬送装置は、真空雰囲気に
限らず大気圧中で使用してもよい。
限らず大気圧中で使用してもよい。
【００３６】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、静電吸着によ
り被搬送物を保持しているため、大気圧中であっても真
空雰囲気であっても被搬送物を強固に保持することがで
き、従って急激に加速あるいは減速しても位置ずれや脱
落が起きないので、迅速かつ確実な搬送を行うことがで
きる。しかもラバーを用いた場合のようなウエハへの汚
れの付着等のおそれもない。
り被搬送物を保持しているため、大気圧中であっても真
空雰囲気であっても被搬送物を強固に保持することがで
き、従って急激に加速あるいは減速しても位置ずれや脱
落が起きないので、迅速かつ確実な搬送を行うことがで
きる。しかもラバーを用いた場合のようなウエハへの汚
れの付着等のおそれもない。
【００３７】そして請求項２の発明によれば、三相交流
電圧を印加するなど、少なくとも２つの電極部の間には
常に電圧を印加するようにしているため、単に単相交流
を用いた場合に比べ（この場合は零電圧が存在する）被
搬送物を強固に保持することができる。
電圧を印加するなど、少なくとも２つの電極部の間には
常に電圧を印加するようにしているため、単に単相交流
を用いた場合に比べ（この場合は零電圧が存在する）被
搬送物を強固に保持することができる。
【００３８】更に請求項３の発明によれば、真空雰囲気
内で搬送装置を使用するにあたって、真空放電が起こる
気圧領域では電極部への電圧印加に対しインターロック
がかかるため、短絡を確実に防止することができるし、
また端子の接続部をモールドしたり、アーム内に封じ込
むといった構造をとることなく、真空雰囲気に露出させ
ておくことができるから、構造が簡単になる上メンテナ
ンスも容易になる。
内で搬送装置を使用するにあたって、真空放電が起こる
気圧領域では電極部への電圧印加に対しインターロック
がかかるため、短絡を確実に防止することができるし、
また端子の接続部をモールドしたり、アーム内に封じ込
むといった構造をとることなく、真空雰囲気に露出させ
ておくことができるから、構造が簡単になる上メンテナ
ンスも容易になる。
【図１】本発明の実施例の要部の電気的接続を示す説明
図である。
図である。
【図２】本発明の実施例の要部の構造を示す断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の実施例の全体を示す平面図である。
１ ウエハ保持部
２ 搬送アーム
３ 吸着層
４Ａ〜４Ｃ 電極層
４１Ａ〜４１Ｃ 端子
６ 三相交流電源
８１ 気圧検出部
９ インターロック部
Claims (3)
- 【請求項１】 被搬送物を保持部に保持した状態で搬
送する装置において、前記保持部に設けられ、被搬送物
を静電吸着するための誘電体よりなる吸着層と、前記吸
着層の表面より下方位置にて、当該吸着層の面方向に互
に離間して配置された複数の電極部と、前記電極部間に
電圧を印加する電源部と、前記電極部間への電圧の印加
、停止を制御する制御部と、を有することを特徴とする
搬送装置。 - 【請求項２】前記電極部は少なくとも３つ設けられ、前
記電源部は、常に前記電極部間のいずれかに零以上の電
圧が印加されるように電極部間に電圧を印加する請求項
１記載の搬送装置。 - 【請求項３】 真空雰囲気内にて被搬送物を保持部に
保持した状態で搬送する装置において、前記真空雰囲気
気圧を検出する気圧検出部と、この気圧検出部よりの気
圧検出値が予め定められた範囲内にあるときには、電極
部間への電圧の印加を禁止するインターロック部とを設
けた請求項１記載の搬送装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17597991A JP3080696B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 搬送装置 |
| US07/889,195 US5382803A (en) | 1991-05-28 | 1992-05-28 | Ion injection device |
| KR1019920009232A KR0156263B1 (ko) | 1991-05-28 | 1992-05-28 | 이온주입장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17597991A JP3080696B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04372151A true JPH04372151A (ja) | 1992-12-25 |
| JP3080696B2 JP3080696B2 (ja) | 2000-08-28 |
Family
ID=16005583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17597991A Expired - Fee Related JP3080696B2 (ja) | 1991-05-28 | 1991-06-20 | 搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3080696B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006120799A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板載置台交換方法、及びプログラム |
| WO2011055822A1 (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板搬送装置及び基板処理装置の制御方法 |
| JP2013251240A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオンビーム照射装置 |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP17597991A patent/JP3080696B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006120799A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板載置台交換方法、及びプログラム |
| WO2011055822A1 (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板搬送装置及び基板処理装置の制御方法 |
| JP5314765B2 (ja) * | 2009-11-09 | 2013-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理装置の制御方法 |
| KR101371559B1 (ko) * | 2009-11-09 | 2014-03-11 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 제어 방법 |
| JP2013251240A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオンビーム照射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3080696B2 (ja) | 2000-08-28 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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