JPH04368382A - 2′,3′−ジデオキシ−β−ヌクレオシドの製造方法 - Google Patents

2′,3′−ジデオキシ−β−ヌクレオシドの製造方法

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JPH04368382A
JPH04368382A JP3143446A JP14344691A JPH04368382A JP H04368382 A JPH04368382 A JP H04368382A JP 3143446 A JP3143446 A JP 3143446A JP 14344691 A JP14344691 A JP 14344691A JP H04368382 A JPH04368382 A JP H04368382A
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Japan
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aromatic
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JP3143446A
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Hiroshi Kawakami
浩 川上
Katsuya Matsumoto
克也 松本
Yukifumi Koseki
幸史 古関
Takashi Ebata
恵畑 隆
Hajime Matsushita
松下 肇
Kazuo Ito
和夫 伊藤
Yoshitaka Naoi
嘉威 直井
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Japan Tobacco Inc
Yuki Gosei Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Japan Tobacco Inc
Yuki Gosei Kogyo Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
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    • C07H19/02Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof sharing nitrogen
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、それ自身抗エイズウィ
ルス等の抗ウィルス作用を有する化合物であると同時に
、他の医薬上有用な関連化合物の原料である2′,3′
−シデオキシ−β−ヌクレオシドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、2′,3′−ジデオキシ−β−ヌ
クレオシドの製造方法としては、(i)リボヌクレオシ
ド誘導体、または、(ii)2′−デオキシヌクレオシ
ド誘導体0ら選択的に2′位、および、3′位水酸基を
脱離する方法や、(iii)2,3−ジデオキシリボー
ス誘導体と核酸塩基との縮合反応を用いる方法が知られ
ている。
【0003】(i)の例としては、ウリジンの2′,3
′−環状オルトエステルを熱分解することで2′,3′
−ジデオキシ−β−ウリジンを得、これを大腸菌の特殊
な株を用いて核酸塩基を他のものと取り替える方法[ジ
ャーナルオブオーガニックケミストリー(J.Org.
Chem.)、1988年第53巻第5170頁]等が
挙げられる。
【0004】(ii)の例としては、2′−デオキシヌ
クレオシドの3′位水酸基をチオ炭酸エステルとした後
、脱酸素する方法[シンセテックコミュニケーション(
Synth.Commun.)、1985年第15巻第
401頁]等が挙げられる。
【0005】(iii)の例としては、発明者らの方法
[特願平2−6970号;ヘテロサイクルズ(Hete
rocycles)、1990年第31巻第2041頁
]、ファリーナらの方法[テトラヘドロンレターズ(T
etrahedron  Lett.)、1988年第
29巻第1239頁]、オカベらの方法[ジャーナルオ
ブオーガニックケミストリー(J.Org.Chem.
)、1988年第53巻第4780頁]等が挙げられる
【0006】しかし、前記方法(i)は、一般的に入手
困難な菌を用いる必要がある。また、方法(i),(i
i)は、両方とも天然から得られるリボヌクレオシド誘
導体を原料としており、種々の誘導体を製造する場合に
は、一旦非天然リボヌクレオシドを製造した後、目的と
する2′,3′−ジデオキシ−β−ヌクレオシド誘導体
へと導く必要がある等の問題がある。
【0007】一方、前記方法(iii)において製造さ
れる生成物は、目的とするβ体と、副生物であるα体の
混合物として得られ、その比は最高でもβ:α=7:3
であり、一般には等量混合物となり、立体選択性の点で
劣っていた。
【0008】このような問題を解決するために、2,3
−ジデオキシ−2−α−(オルガノチオ)ペントフラノ
ース誘導体と5−置換ピリミジン誘導体とをルイス酸の
存在下で縮合させ、1−(2,3−ジデオキシ−2− 
オルガノチオ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン
誘導体を得、これを過酸化物の存在下で酸化して、1−
(2,3−ジデオキシ−2−オルガノスルフィニル−β
−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体を経て、2
´,3´−ジデオキシ−2´,3´−ジデヒドロ−β−
リボヌクレオシドを得る方法が提案されている[特願平
2−133913号、またはケミストリーレターズ(C
hem.Lett.)1990年、1549頁]。これ
らの方法によれば、出発物質の一つである2,3−ジデ
オキシ−2−α−(オルガノチオ)ペントフラノース誘
導体は、2位の炭素原子にオルガノチオ基がα配置して
いる。このオルガノチオ基の立体効果および隣接基関与
によって、5−置換ピリミジン誘導体のα方向からの接
近が阻害され、β体の選択性が高くなるのを応用して、
立体選択性の高い2´,3´−ジデオキシ−2´,3´
−ジデヒドロ−β−リボヌクレオシドを得ることができ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
製造方法では、2,3−ジデオキシ−2−α−(オルガ
ノチオ)ペントフラノース誘導体と5−置換ピリミジン
誘導体との縮合反応におけるβ体の選択性は高いが、出
発物質である2,3−ジデオキシ−2−α−(オルガノ
チオ)ペントフラノース誘導体を5−ヒドロキシペンタ
ン−4−オリド誘導体から常法に従って製造する際、立
体選択性の高いα異性体を製造することが困難である。 このため、5−ヒドロキシペンタン−4−オリド誘導体
から2,3−ジデオキシ−2−α−(オルガノチオ)ペ
ントフラノース誘導体を経て、縮合反応を行なったとこ
ろまでのβ体の収率は、約30%であり比較的低かった
【0010】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、より簡便な製造工程により、より高収率で2′
,3′−ジデオキシ−β−ヌクレオシド誘導体を製造す
ることができる製造方法を提供するものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の発明者等は、2,3−ジデオキシ−ペン
トフラノース誘導体の2位の炭素原子に2つのオルガノ
チオ基を導入して得られる2,3−ジデオキシ−2,2
−ジ(オルガノチオ)ペントフラノース誘導体と、5−
置換ピリミジン誘導体とを縮合し、その後に還元的脱硫
を行うことにより、2′,3′−ジデオキシ−β−ヌク
レオシド誘導体が得られることを見出した。
【0012】すなわち、本発明は、(a)化1に示す5
−ヒドロキシペンタン−4−オリド誘導体(VI) か
ら化2に示す一般式で表される2,3−ジデオキシ−2
,2−ジ(オルガノチオ)ペントフラノース誘導体 (
IV) を得る工程と、(b)得られた2,3−ジデオ
キシ−2,2−ジ(オルガノチオ)ペントフラノース誘
導体 (IV) と、化3に示す一般式で表される5−
置換ピリミジン誘導体(V)とを縮合させて化4に示す
一般式で表される1−[2,3−ジデオキシ−2,2−
ジ(オルガノチオ)−β−D−ペントフラノシル]ピリ
ミジン誘導体 (III)を得る工程と、
【0013】(c)工程(b)で得た1−[2,3−ジ
デオキシ−2,2−ジ(オルガノチオ)−β−D−ペン
トフラノシル]ピリミジン誘導体 (III)を脱硫還
元して化5に示す一般式で表される1−(2,3−ジデ
オキシ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体
(II)を得る工程と、
【0014】(d)工程(c)で得た1−(2,3−ジ
デオキシ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導
体(II)を、保護基の脱保護反応に付することにより
化6に示す一般式で表される2′,3′−ジデオキシ−
β−ヌクレオシド誘導体 (I) を得る工程とを具備
したことを特徴とする2′,3′−ジデオキシ−β−ヌ
クレオシド誘導体 (I) の製造方法を提供する。
【0015】
【化10】
【0016】
【化11】
【0017】
【化12】
【0018】
【化13】
【0019】
【化14】
【0020】
【化15】 (式中のR1 〜R5 、X、YおよびZは次のものを
表す。R1 〜R3 :アルキル基またはフェニル基。 これらは同じでも異なってもよく、また置換されていて
もよい。R4 :水酸基の保護基。R5 :アルキル基
またはフェニル基。こられは置換されていてもよい。X
:酸素原子または窒素原子。窒素原子は他の原子もしく
は原子団を有する。Y:水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基またはアルケニル基。アルキル基およびアルケニ
ル基はハロゲン原子で置換されていてもよい。
【0021】Z:ハロゲン原子、アシロキシ基、アルキ
ルオキシ基またはフェニルオキシ基。アルキルオキシ基
およびフェニルオキシ基は置換されていてもよい。)ま
た、本発明は上記製造方法の工程(b)で得られる特定
の中間体化合物を提供する。第一の化合物は、下記一般
式で表される。
【0022】
【化16】 (式中、R´は、アルキル基またはフェニル基であり、
これらは置換されていても良い。)第二の化合物は、下
記一般式で表される。
【0023】
【化17】 (式中、R´は、アルキル基またはフェニル基であり、
これらは置換されていても良い。)第三の化合物は、下
記一般式で表される。
【0024】
【化18】 (式中、R´は、アルキル基またはフェニル基であり、
これらは置換されていても良い。)以下、本発明の製造
方法をさらに詳細に説明する。
【0025】まず、出発原料の一つである5−ヒドロキ
シペンタン−4−オリド誘導体(VI) は、例えば、
特開昭64−98号公報(ブリストルマイヤーズ社出願
)に開示されている方法等により得られる。
【0026】5−ヒドロキシペンタン−4−オリド誘導
体(VI) の5位の水酸基の保護に用いられるR4 
(一般式I・II中のR4 も同じ)は、例えば、ベン
ジル基、トリチル基等のアラルキル基、あるいは、アセ
チル基、プロピオニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基
等のアシル基、エトキシカルボニル基等のアルキルオキ
シカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアリール
オキシカルボニル基、トリメチルシリル基、t−ブチル
ジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等の
トリオルガノシリル基等、または、これらの保護基がフ
ェニル基を有する場合はその置換基としてアルキル基、
ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基等を有するもの
であるが、特に限定されない。R4 は、通常の方法に
より5−ヒドロキシペンタン−4−オリドに導入される
【0027】工程(a)の5−ヒドロキシペンタン−4
−オリド誘導体(VI) から2,3−ジデオキシ−2
,2−ジ(オルガノチオ)ペントフラノース誘導体 (
IV) を得る工程は通常の方法により行われる。例え
ば、5−ヒドロキシペンタン−4−オリド誘導体(VI
) に対して、トロストらの方法[ジャーナル  オブ
  アメリカンケミカル  ソサイェティー(J.Am
.Chem.Soc)、1973年第95巻第6840
頁]、および向山らの方法[ブレティン  オブ  ザ
  ケミカルソサイェティー  オブ  ジャパン(B
ull.Chem.Soc.Jpn.)、  1972
年第45巻第866頁]の方法等を用いて2位に2つの
オルガノチオ基を導入する。次いで、ラクトンカルボニ
ル基を、先の特開昭64−98号公報(ブリストルマイ
ヤーズ社出願)に開示されている方法等で還元した後、
通常の方法で1位を変換することにより2,3−ジデオ
キシ−2,2−ジ(オルガノチオ)ペントフラノース誘
導体 (IV) が得られる。
【0028】2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガ
ノチオ)ペントフラノース誘導体(IV) の2位のオ
ルガノチオ基として用いられるSR5 (一般式II中
のSR5 も同じ)は、例えば、メチルチオ基、t−ブ
チルチオ基等のアルキルチオ基、ベンジルチオ基等のア
ラルキルチオ基、フェニルチオ基等のアリールチオ基、
若しくはこられらのオルガノチオ基がフェニル基を有す
る場合は、その置換基として、アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシ基等により置換されたフェニ
ル基を有するものであるが、特に限定されない。
【0029】2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガ
ノチオ)ペントフラノース誘導体(IV)の1位の活性
基として導入されるZは、例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシ基等のアルキ
ルオキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、アセ
チルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオキ
シ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基、エトキシ
カルボニルオキシ基等のアルキルオキシカルボニルオキ
シ基、フェノキシカルボニルオキシ基等のアリールオキ
シカルボニルオキシ基、または、これらの基がフェニル
基を有する場合はその置換基としてアルキル基、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、アルコキシ基等を有するものである
が、特に限定されない。
【0030】2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガ
ノチオ)ペントフラノース誘導体(IV) は、2位に
2つのオルガノチオ基が導入されているので、立体異性
体が生じることなく純粋なものを得ることが可能である
【0031】一方、工程(b)において用いられる5−
置換ピリミジン誘導体(V)は、ピリミジン塩基の2位
のカルボニル基および4位のX基をシリル化し、トリオ
ルガノシリル基を導入して得られる。5−置換ピリミジ
ン誘導体(V)のシリル化は、例えば、フォルブルッゲ
ンらの方法[ケミッシェベリヒテ(Chem.Ber.
)、1981年第114巻第1234頁]に記載されて
いる方法等を用いて行われる。すなわち、ピリミジン塩
基のヘキサメチルジシラザン懸濁液に、トリメチルシリ
ルクロリドを加え、アルゴンガス雰囲気下で加熱還流す
る方法により得られるが、特にこの方法に限定されるも
のでない。
【0032】前記ピリミジン塩基としては、天然に存在
する核酸から分解して得られるチミン、ウラシル、シト
シン、或いはこれらの塩基から通常の方法により合成し
て得られるもの、または、天然物に由来せずに、完全に
合成により得られるそれ以外のピリミジン塩基を用いる
ことができる。
【0033】シリル化により導入される5−置換ピリミ
ジン誘導体(V)のトリオルガノシリル基は、通常の水
酸基またはアミノ基の保護基として用いられるもの、例
えば、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル
基、フェニルジメチルシリル基等であるが、特に限定さ
れない。
【0034】一般式V中のXは、酸素原子または窒素原
子を表す。この窒素原子は、水素原子、あるいはアルキ
ル基、アシル基等の原子もしくは原子団を有する。また
Yは、水素原子、フッ素原子・塩素原子・臭素原子・ヨ
ウ素原子等のハロゲン原子、アルキル基またはアルケニ
ル基であり、ハロゲン原子により置換されていてもよい
【0035】工程(b)の、2,3−ジデオキシ−2,
2−ジ(オルガノチオ)ペントフラノース誘導体(IV
)と5−置換ピリミジン誘導体(V)との縮合反応は、
5−置換ピリミジン誘導体(V)を、ペントフラノース
誘導体(IV)に対して等量以上、好ましくは2当量用
いて、ルイス酸類の存在下で行われる。このルイス酸類
としては、例えばトリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホナート、四塩化スズ、四塩化チタンを用いること
ができる。この縮合反応は、例えば周囲温度で非プロト
ン性溶媒、例えば、塩化メチレン、1,2−ジクロロエ
タン、アセトニトリル中において、触媒として有効には
たらく量、例えば20モル%から2.5当量のルイス酸
類を用いて行われる。この縮合反応は、通常1−5時間
で完結する。その後必要に応じて炭酸水素ナトリウム水
溶液での処理および有機溶媒の抽出等の後処理を行った
後、クロマトグラフ等の公知の方法によりβ体を精製・
分離して、1−[2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オ
ルガノチオ)−β−D−ペントフラノシル]ピリミジン
誘導体 (III)が得られる。
【0036】工程(c)の、1−[2,3−ジデオキシ
−2,2−ジ(オルガノチオ)−β−D−ペントフラノ
シル]ピリミジン誘導体 (III)の脱硫還元反応は
、水素化有機スズ化合物の存在下で行われる。この水素
化有機スズ化合物としては、一般的にスルフィドを還元
的に脱硫する際に用いられる化合物、例えば水素化トリ
ブチルスズ、水素化トリフェニルスズを用いることがで
きる。 この還元反応は、例えば、周囲温度から150℃程度の
温度、好ましくは80〜100℃で、適当な溶媒中、特
に、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒中で、1−
[2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガノチオ)−
β−D−ペントフラノシル]ピリミジン誘導体 (II
I)に対して等量以上、例えば5当量の水素化有機スズ
化合物を用いて行われる。また、この還元反応は、反応
溶液中で水素化スズ化合物が発生するような条件下、例
えばヘキサブチルジチンオキシドとポリメチルシロキサ
ンが共に存在している条件でも行うことができる。
【0037】上記還元反応により得られた反応混合物か
らクロマトグラフ等を用いて分離することにより、純粋
な1−(2,3−ジデオキシ−β−D−ペントフラノシ
ル)ピリミジン誘導体(II)が得られる。
【0038】工程(d)の、1−(2,3−ジデオキシ
−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(II
)の脱保護は、全て公知の方法によって行うことができ
る。但し、脱保護のための具体的な反応は保護基の種類
によって異なる。例えば、保護基がトリオルガノシリル
基の場合、テトラ(n−ブチル)アンモニウムフルオリ
ドと無水テトラヒドロフラン中で脱保護を行うことがで
きる。また、アラルキル基の場合、ベンジル基は水素ガ
ス雰囲気下、接触水素添加触媒を用いて還元することに
より、またトリチル基は酢酸中で処理することにより脱
保護が可能である。アシル基の場合は、アルカリ加水分
解、アルコリシス、アンモノリシス等を行うことで脱保
護が可能である。アリールオキシカルボニル基及びアル
キルオキシカルボニル基の場合にも、アシル基と同様の
方法で脱保護を行うことができる。
【0039】上記の脱保護反応により得られた反応混合
物を、結晶化或いはクロマトグラフを用いて分離するこ
とにより、目的の純粋な2´,3´−ジデオキシ−β−
リボヌクレオシド誘導体(I)を得ることができる。
【0040】このような本発明の2´,3´−ジデオキ
シ−β−リボヌクレオシドの製造方法によれば、出発物
質の一つである2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オル
ガノチオ)ペントフラノース誘導体 (IV) が、上
記説明した如く、その製造工程において立体異性体を生
じることがないので精製が容易となる。これにより、5
−ヒドロキシペンタン−4−オリド誘導体(VI)から
出発して、2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガノ
チオ)ペントフラノース誘導体(IV)を経て、縮合反
応を行ったところまでのβ体の収率は、約35%であり
、最終的に2´,3´−ジデオキシ−β−リボヌクレオ
シドを得るまでの全工程を通しての収率は、約20%で
ある。
【0041】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する。 実施例1  2´,3´−ジデオキシ−β−ウリジンの
製造工程(1)  5−(t−ブチルジフェニルシリル
オキシ)−2,2−ジ(フェニルチオ)ペンタン−4−
オリドの製造
【0042】5−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ
)ペンタン−4−オリド0.363g(1.02mmo
l)、およびN−フェニルチオフタルイミド0.570
g(2.23mmol)の無水テトラヒドロフラン3m
l懸濁液に、アルゴン雰囲気下、−78℃で、1リット
ルあたりリチウムビス(トリメチルシリル)アミド1.
0 molを含むテトラヒドロフラン溶液2.3ml(
2.3mmol)を滴下した。滴下終了後、ゆっくりと
室温まで昇温し、さらに1.5時間撹拌した。反応終了
後、反応溶液を飽和硫酸アンモニウム水溶液中にあけ、
ジエチルエーテルで抽出した。この有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して残留物を得
た。
【0043】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精
製し、5−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)−2
,2−ジ(フェニルチオ)ペンタン−4−オリド0.4
38g(0.766 mol)を得た。(収率75%)
得られた生成物の物理的データは以下の通りである。 
1H−NMR(CDCl3 ):δ7.69−7.56
(8H,m,aromatic  H),7.48−7
.25(12H,m,aromatic  H),4.
50−4.39(1H,m,H−4),3.71(1H
,dd,J=11.7,3.6Hz,H−5),3.5
4(1H,dd,J=11.6,4.3Hz,H−5)
,2.63(1H,dd,J=14.0,9.5Hz,
H−3),2.21(1H,dd,J=14.0,6.
0Hz,H−3),0.98(9H,s,t−Bu)

0044】工程(2)  1−O−アセチル−5−O−
(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ
−2,2−ジ(フェニルチオ)−D−glycero−
ペントフラノースの製造
【0045】工程(1)で得た5−(t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ)−2,2−ジ(フェニルチオ)ペン
タン−4−オリド4.00g(7.00mmol)の無
水テトラヒドロフラン45ml溶液に、アルゴン雰囲気
下、0℃で、1リットルあたり1.0 molの水素化
ジ(イソブチル)アルミニウムを含むトルエン溶液15
ml(15mmol)を滴下した。滴下終了後、そのま
ま1.5時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に少量の
水を加えた後、室温まで昇温し、無水硫酸マグネシウム
を加えた。生じてきた固体をセライトを用いて濾別した
後、減圧下溶媒を留去し残留物を得た。
【0046】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製
し、5−O−(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3
−ジデオキシ−2,2−ジ(フェニルチオ)−D−gl
ycero−ペントフラノースを得た。
【0047】これを無水ジクロロメタン30mlに溶解
した後、無水酢酸1ml(10.6mmol)および4
−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン50mgを加え
、無水条件下、一晩撹拌した。反応終了後、反応溶液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、クロロホルムで
抽出した。 この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶
媒を留去して残留物を得た。
【0048】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(n−ヘキサン:酢酸エチル=85:15)で
精製し、1−O−アセチル−5−O−(t−ブチルジフ
ェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(フ
ェニルチオ)−D−glycero−ペントフラノース
3.17g(5.14mmol)を得た。(収率73%
)得られた生成物の物理的データは以下の通りである。  1H−NMR(CDCl3 ):δ7.73−7.5
3(8H,m,aromatic  H),7.45−
7.30(12H,m,aromatic  H),6
.40(0.4H,s,H−1  minor),6.
20(0.6H,s,H−1  major),4.5
5−4.41(1H,m,H−4),3.77−3.6
4(2H,m,H−5),2.42(0.6H,dd,
J=13.4,9.6Hz,H−3  major),
2.29(0.4H,dd,J=14.5,6.9Hz
,H−3  minor),2.21(0.4H,dd
,J=14.5,7.6Hz,H−3  minor)
,2.07−2.01(1.8H,m,H−3  ma
jor,Ac  minor),1.88(1.8H,
s,Ac  major),1.00(9H,s,t−
Bu)
【0049】工程(3)1−[5−O−(t−ブ
チルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2
−ジ(フェニルチオ)−D−glycero−ペントフ
ラノシル]ウラシルの製造
【0050】ウラシル0.610g(5.43mmol
)のヘキサメチルジシラザン10ml懸濁液に、トリメ
チルシリルクロリド0.1mlを加え、アルゴンガス雰
囲気下で、30分加熱還流した。懸濁していた結晶が完
全に溶解したところで、室温まで冷却後、真空ポンプ減
圧下で低沸点物を留去して油状の残留物を得た。
【0051】得られた残留物に工程(2)で得た1−O
−アセチル−5−O−(t−ブチルジフェニルシリル)
−2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(フェニルチオ)−
D−glycero−ペントフラノース2.23g(3
.62mmol)の無水1,2−ジクロロエタン20m
l溶液を加え、アルゴンガス雰囲気下、1mlあたりト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート0.1
0ml(0.5mmol)を含む無水1,2−ジクロロ
エタン溶液2mlをゆっくり加え、室温で4時間撹拌し
た。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液にあけ、クロロホルムで抽出した。この有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶液を留去して残
留物を得た。
【0052】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2)で精製
した。得られた精製物1.89gは、1−[5−O−(
t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−
2,2−ジ(フェニルチオ)−β−D−glycero
−ペントフラノシル]ウラシル(β体)とそのα体の混
合物であり、その比は、β:α=76:24であった(
収率78%)。また、出発物質の5−(t−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ)ペンタン−4−オリドからβ体に
至る収率は、35%であった。
【0053】この混合物を、高速液体クロマトグラフ(
固定相;YMC社  A−363、ODS、直径30m
m×長さ250mm、移動相;アセトニトリル:水=8
5:15、流速10ml/分;検出:紫外線吸収、λ=
254nm)を用いてそれぞれの異性体を分離した。生
成物の物理的データは以下の通りである。
【0054】1−[5−O−(t−ブチルジフェニルシ
リル)−2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(フェニルチ
オ)−β−D−glycero−ペントフラノシル]ウ
ラシル旋光度:[α]D −8.4°(c  1.03
,CHCl3 ,24℃) 1H−NMR(CDCl3
 ):δ8.03−7.96(2H,m,H−6,NH
),7.82−7.77(2H,m,aromatic
  H),7.58−7.25(18H,m,arom
atic  H),6.35(1H,s,H−1′),
5.26(1H,dd,J=8.2,1.9Hz,H−
5),4.53−4.45(1H,m,H−4′),4
.14(1H,dd,J=12.2,2.0Hz,H−
5′),3.62(1H,dd,J=12.2,2.1
Hz,H−5′),2.53(1H,dd,J=13.
8,11.1Hz,H−3′),1.82(1H,dd
,J=13.7,4.8Hz,H−3′),1.03(
9H,s,t−Bu)13C−NMR(CDCl3 )
:δ
【0055】162.62(C−4),149.89(
C−2),140.82(C−6),137.20(a
romatic  C),135.52(aromat
icC),135.33(aromatic  C),
132.53(aromatic  C),132.0
3(aromatic  C),131.01(aro
matic  C),130.15(aromatic
  C),130.09(aromatic  C),
130.01(aromatic  C),129.4
0(aromatic  C),129.05(aro
matic  C),129.01(aromatic
  C),127.95(aromatic  C),
101.76(C−5),90.37(C−1′),8
0.15(C−4′),72.96(C−2′),62
.85(C−5′),38.87(C−3′),26.
89(t−Bu),19.28(t−Bu)IR(KB
r):ν(cm−1)1690(s),1265(m)
,1114(m),748(m),702(m),50
5(m)MS(EI−DI):m/z610(M+ −
C4 H8 ),558(M+ +H−C6 H5 S
)UV(CHCl3 ):λmax 265nm(lo
g ε4.11)
【0056】1−[5−O−(t−ブ
チルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2
−ジ(フェニルチオ)−α−D−glycero−ペン
トフラノシル]ウラシル旋光度:[α]D −69.0
°(c  1.00,CHCl3 ,25℃) 1H−
NMR(CDCl3 ):δ9.78(1H,d,J=
1.9Hz,NH),7.85−7.65(5H,m,
H−6,aromatic  H),7.58−7.5
2(4H,m,aromatic  H),7.47−
7.28(12H,m,aromatic  H),6
.43(1H,s,H−1′),5.75(1H,dd
,J=8.2,2.2Hz,H−5),4.52−4.
44(1H,m,H−4′),3.67(1H,dd,
J=11.4,3.7Hz,H−5′),3.51(1
H,dd,J=11.4,4.0Hz,H−5′),2
.27(1H,dd,J=13.9,9.9Hz,H−
3′),1.91(1H,dd,J=13.8,5.2
Hz,H−3′),0.91(9H,s,t−Bu)1
3C−NMR(CDCl3 ):δ
【0057】163
.44(C−4),150.89(C−2),141.
10(C−6),137.45(aromatic  
C),135.88(aromaticC),135.
52(aromatic  C),135.45(ar
omatic  C),133.04(aromati
c  C),132.83(aromatic  C)
,130.39(aromatic  C),129.
94(aromatic  C),129.71(ar
omatic  C),129.65(aromati
c  C),129.10(aromatic  C)
,128.99(aromatic  C),127.
63(aromatic  C),101.03(C−
5),89.79(C−1′),78.21(C−4′
),69.52(C−2′),64.49(C−5′)
,38.05(C−3′),26.69(t−Bu),
19.03(t−Bu)IR(KBr):ν(cm−1
)1694(s),1265(m),1112(m),
1085(m),748(m),505(m)MS(E
I−DI):m/z610(M+ −C4 H8 ),
558(M+ H−C6 H5 S)UV(CHCl3
 ):λmax 264nm(log ε4.18)工
程(4)  1−[5−O−(t−ブチルジフェニルシ
リル)−2,3−ジデオキシ−β−D−glycero
−ペントフラノシル]ウラシルの製造
【0058】工程(3)で得た1−[5−O−(t−ブ
チルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2
−ジ(フェニルチオ)−β−D−glycero−ペン
トフラノシル]ウラシル67mg(0.10mmol)
の無水ベンゼン10ml溶液に、水素化トリブチルスズ
150μl(0.57mmol)と10mgのアゾビス
イソブチロニトリルを加え、アルゴン雰囲気下、48時
間加熱還流した。反応終了後、減圧下低沸点物を留去し
て残留物を得た。
【0059】得られた残留物を薄層分取クロマトグラフ
(シリカゲル;n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を
用いて精製し、1−[5−O−(t−ブチルジフェニル
シリル)−2,3−ジデオキシ−β−D−glycer
o−ペントフラノシル]ウラシル  25mgを得た。 (収率56%)生成物の物理的データは以下の通りであ
る。  1H−NMR(CDCl3 ):δ8.87(1H,
br,NH),7.99(1H,J=8.1Hz,H−
6),7.70−7.62(4H,m,aromati
c  H),7.48−7.36(6H,m,arom
atic  H),6.11(1H,dd,J=6.6
,2.8Hz,H−1′),5.41(1H,dd,J
=8.1,2.1Hz,H−5),4.17−4.09
(2H,m,H−4′,H−5′),3.73(1H,
dd,J=11.5,2.6Hz,H−5′),2.5
1−2.35(1H,m,H−2′)、2.18−2.
04(2H,m,H−2′,H−3′),1.98−1
.88(1H,m,H−3′),1.09(9H,s,
t−Bu) 工程(5)  2´,3´−ジデオキシ−β−ウリジン
の製造
【0060】工程(4)で得られた1−[5−O−(t
−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−β
−D−glycero−ペントフラノシル]ウラシル8
97mg(2.0mmol)の無水テトラヒドロフラン
10ml溶液に、1リットル当り1モルのテトラ(ノル
マルブチル)アンモニウムフルオリドを含むテトラヒド
ロフラン溶液2.5ml(2.5mmol)を加え、無
水条件下、室温で80分撹拌した。反応終了後、減圧下
溶媒を留去して残留物を得た。
【0061】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(クロロホルム:メタノール=91:9)で精
製し、2´,3´−ジデオキシ−β−ウリジン394m
g(1.9mmol)を得た(収率95%)。
【0062】このようにして、5−(t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ)ペンタン−4−オリドから出発して
、工程(1)から(5)を経て最終的に得られた2´,
3´−ジデオキシ−β−ウリジンの収率は約20%であ
った。 実施例2  2´,3´−ジデオキシ−β−チミジンの
製造
【0063】工程(3b)  1−[5−O−(t−ブ
チルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2
−ジ(フェニルチオ)−D−glycero−ペントフ
ラノシル]チミンの製造
【0064】チミン0.660g(5.22mmol)
の1,2−ジクロロエタン30ml懸濁液にヘキサメチ
ルジシラザン6ml、トリメチルシリルクロリド4.5
mlを加え、アルゴンガス雰囲気下で、3時間加熱還流
した。懸濁していた結晶が完全に溶解したところで、室
温まで冷却した。冷却後、真空ポンプ減圧下、低沸点物
を留去し、油状の残留物を得た。
【0065】得られた残留物に、実施例1の工程(2)
と同様にして得た1−O−アセチル−5−O−(t−ブ
チルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2
−ジ(フェニルチオ)−D−glycero−ペントフ
ラノース1.61g(2.61mmol)の無水アセト
ニトリル14ml溶液を加え、アルゴンガス雰囲気下、
0℃でトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナー
ト0.26ml(1.3mmol)を含む無水アセトニ
トリル溶液2mlをゆっくり加え、そのまま3時間撹拌
した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液にあけ、クロロホルムで抽出した。この有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して
残留物を得た。
【0066】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(n−ヘキサン:酢酸エチル3:2)で精製し
た。得られた精製物1.07gは目的とする1−[5−
O−(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオ
キシ−2,2−ジ(フェニルチオ)−β−D−glyc
ero−ペントフラノシル]チミンとそのα体で、その
比は81:19であった。(収率60%)
【0067】
この精製物を高速液体クロマトグラフ(固定層:YMC
社  A−363、ODS、直径30mm×長さ250
mm;移動層:アセトニトリル:水=85:15、流速
10ml/分;検出:紫外線吸収、λ=254nm)を
用いてそれぞれの異性体を分離した。生成物の物理的デ
ータは以下の通りである。1−[5−O−(t−ブチル
ジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2−ジ
(フェニルチオ)−β−D−glycero−ペントフ
ラノシル]チミン旋光度:[α]D −18.7°(c
1.01,CHCl3 ,25℃) 1H−NMR(C
DCl3 ):δ8.44(1H,br,NH),7.
79−7.74(2H,m,aromatic  H)
,7.66−7.55(4H,m,aromatic 
 H),7.52−7.23(15H,m,aroma
tic  H,H−6),6.41(1H,s,H−1
′),4.43−4.34(1H,m,H−4′),4
.06(1H,dd,J=11.9,2.6Hz,H−
5′),3.72(1H,dd,J=11.9,3.3
Hz,H−5′),2.40(1H,dd,J=13.
6,10.8Hz,H−3′),1.97(1H,dd
,J=13.6,4.8Hz,H−3′),1.57(
3H,s,Me),1.06(9H,s,t−Bu)1
3C−NMR(CDCl3 ):δ
【0068】163.44(C−4),150.05(
C−2),137.12(aromatic  C),
136.30(C−6),135.45(aromat
icC),135.28(aromatic  C),
134.33(aromatic  C),132.9
8(aromatic  C),132.57(aro
matic  C),131.42(aromatic
  C),130.35(aromatic  C),
130.05(aromatic  C),130.0
0(aromatic  C),129.94(aro
matic  C),129.02(aromatic
  C),128.83(aromatic  C),
127.84(aromatic  C),109.9
5(C−5),
【0069】90.48(C−1′),
79.17(C−4′),72.32(C−2′),6
3.40(C−5′),40.20(C−3′),26
.97(t−Bu),19.39(t−Bu),12.
03(Me)IR(KBr):ν(cm−1)1690
(s),1473(m),1263(m),1114(
m),1077(m),754(m),702(m),
505(m)MS(EI−DI):m/z624(M+
 −C4 H8 ),572(M+ +H−C6 H5
 S)UV(CHCl3 ):λmax 266nm(
log ε4.13)1−[5−O−(t−ブチルジフ
ェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(フ
ェニルチオ)−α−D−glycero−ペントフラノ
シル]チミン旋光度:[α]D −57.7°(c0.
50,CHCl3 ,25℃) 1H−NMR(CDC
l3 ):δ9.46(1H,br,NH),7.82
−7.76(2H,m,aromatic  H),7
.70−7.66(2H,m,aromatic  H
),7.58−7.52(5H,m,aromatic
  H,H−6),7.47−7.29(12H,m,
aromatic  H),6.45(1H,s,H−
1′),4.56−4.46(1H,m,H−4′),
3.69(1H,dd,J=11.3,3.8Hz,H
−5′),3.54(1H,dd,J=11.3,3.
9Hz,H−5′),2.30(1H,dd,J=13
.9,9.8Hz,H−3′),2.00−1.89(
4H,m,H−3′,Me),0.93(9H,s,t
−Bu)13C−NMR(CDCl3 ):δ
【007
0】163.84(C−4),150.93(C−2)
,137.37(aromatic  C),136.
71(C−6),135.52(aromaticC)
,135.45(aromatic  C),133.
05(aromatic  C),132.82(ar
omatic  C),130.45(aromati
c  C),130.18(aromatic  C)
,129.88(aromatic  C),129.
71(aromatic  C),129.43(ar
omatic  H),129.06(aromati
c  C),128.87(aromatic  C)
,127.63(aromatic  C),109.
17(C−5),89.73(C−1′),78.10
(C−4′),69.59(C−2′),64.55(
C−5′),38.53(C−3′),26.70(t
−Bu),19.05(t−Bu),12.71(Me
)IR(KBr):ν(cm−1)1692(s),1
473(m),1265(m),1114(m),10
85(m),745(m),704(m),505(m
)MS(EI−DI):m/z610(M+ −C4 
H8 ),572(M+ +H−C6 H5 S)UV
(CHCl3 ):λmax 267nm(log ε
4.14)工程(4b)  1−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−β−D−
glycero−ペントフラノシル]チミンの製造
【0071】工程(3b)で得た1−[5−O−(t−
ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,
2−ジ(フェニルチオ)−β−D−glycero−ペ
ントフラノシル]チミン68mg(0.10mmol)
の無水ベンゼン10ml溶液に、水素化トリブチルスズ
150μl (0.57mmol)と10mgのアゾビ
スイソブチロニトリルを加え、アルゴン雰囲気下、48
時間加熱還流した。反応終了後、減圧下低沸点物を留去
して残留物を得た。得られた残留物を薄層分取クロマト
グラフ(シリカゲル;n−ヘキサン:酢酸エチル=1:
1)を用いて精製し、表記化合物30mgを得た。(収
率64%)生成物の物理的データは以下の通りであった
。 1H−NMR(CDCl3 ):δ8.83(1H
,br,NH),7.71−7.65(4H,m,ar
omatic  H),7.48−7.35(7H,m
,aromatic  H,H−6),6.12(1H
,dd,J=6.3,4.7Hz,H−1′),4.2
0−4.17(1H,m,H−4′),4.03(1H
,dd,J=11.4,2.8Hz,H−5′),3.
75(1H,dd,J=11.4,3.4Hz,H−5
′),2.46−2.34(1H,m,H−2′),2
.12−1.94(3H,m,H−2′,H−3′),
1.64(3H,d,J=1.2Hz,Me),1.1
0(9H,s,t−Bu) 工程(5b)  2´,3´−ジデオキシ−β−チミジ
ンの製造
【0072】工程(4b)で得られた1−[5−O−(
t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−
β−D−glycero−ペントフラノシル]チミン9
25mg(2.0mmol)の無水テトラヒドロフラン
10ml溶液に、1リットル当り1モルのテトラ(ノル
マルブチル)アンモニウムフルオリドを含むテトラヒド
ロフラン溶液2.5ml(2.5mmol)を加え、無
水条件下、室温で70分撹拌した。反応終了後、減圧下
溶媒を留去して残留物を得た。
【0073】得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフ(クロロホルム:メタノール=91:9)で精
製し、2´,3´−ジデオキシ−β−チミジン440m
g(2.0mmol)を得た(収率100%)。
【0074】このようにして、5−(t−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ)ペンタン−4−オリドから出発して
、最終的に得られた2´,3´−ジデオキシ−β−チミ
ジンの収率は、16%であった。
【0075】
【発明の効果】本発明により、それ自身抗エイズウィル
ス作用を有する化合物であると同時に他の医薬上有用な
関連化合物の原料となる2′,3′−ジデオキシ−β−
ヌクレオシドを、より簡便に合成することが可能となり
、大量に安定して供給できることになる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  (a)化1に示す5−ヒドロキシペン
    タン−4−オリド誘導体(VI) から化2に示す一般
    式で表される2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガ
    ノチオ)ペントフラノース誘導体 (IV) を得る工
    程と、(b)得られた2,3−ジデオキシ−2,2−ジ
    (オルガノチオ)ペントフラノース誘導体 (IV) 
    と、化3に示す一般式で表される5−置換ピリミジン誘
    導体(V)とを縮合させて化4に示す一般式で表される
    1−[2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガノチオ
    )−β−D−ペントフラノシル]ピリミジン誘導体 (
    III)を得る工程と、(c)工程(b)で得た1−[
    2,3−ジデオキシ−2,2−ジ(オルガノチオ)−β
    −D−ペントフラノシル]ピリミジン誘導体 (III
    )を脱硫還元して化5に示す一般式で表される1−(2
    ,3−ジデオキシ−β−D−ペントフラノシル)ピリミ
    ジン誘導体(II)を得る工程と、(d)工程(c)で
    得た1−(2,3−ジデオキシ−β−D−ペントフラノ
    シル)ピリミジン誘導体(II)を、保護基の脱保護反
    応に付することにより化6に示す一般式で表される2′
    ,3′−ジデオキシ−β−ヌクレオシド誘導体 (I)
     を得る工程とを具備したことを特徴とする2′,3′
    −ジデオキシ−β−ヌクレオシド誘導体 (I) の製
    造方法。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 【化6】 (式中のR1 〜R5 、X、YおよびZは次のものを
    表す。R1 〜R3 :アルキル基またはフェニル基。 これらは同じでも異なってもよく、また置換されていて
    もよい。R4 :水酸基の保護基。R5 :アルキル基
    またはフェニル基。これらは置換されていてもよい。X
    :酸素原子または窒素原子。窒素原子は他の原子もしく
    は原子団を有する。Y:水素原子、ハロゲン原子、アル
    キル基またはアルケニル基。アルキル基およびアルケニ
    ル基はハロゲン原子で置換されていてもよい。Z:ハロ
    ゲン原子、アシロキシ基、アルキルオキシ基またはフェ
    ニルオキシ基。アルキルオキシ基およびフェニルオキシ
    基は置換されていてもよい。)
  2. 【請求項2】  下記一般式で表される化合物。 【化7】 (式中、R´は、アルキル基またはフェニル基であり、
    これらは置換されていても良い。)
  3. 【請求項3】  下記一般式で表される化合物。 【化8】 (式中、R´は、アルキル基またはフェニル基であり、
    これらは置換されていても良い。)
  4. 【請求項4】  下記一般式で表される化合物。 【化9】 (式中、R´は、アルキル基またはフェニル基であり、
    これらは置換されていても良い。)
JP3143446A 1991-06-14 1991-06-14 2′,3′−ジデオキシ−β−ヌクレオシドの製造方法 Pending JPH04368382A (ja)

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