JPH04365312A - 半導体露光装置 - Google Patents
半導体露光装置Info
- Publication number
- JPH04365312A JPH04365312A JP3167376A JP16737691A JPH04365312A JP H04365312 A JPH04365312 A JP H04365312A JP 3167376 A JP3167376 A JP 3167376A JP 16737691 A JP16737691 A JP 16737691A JP H04365312 A JPH04365312 A JP H04365312A
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- JP
- Japan
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- wafer
- job
- jobs
- exposure
- wafers
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 64
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置に関し
、特に１枚のウエハの露光工程において複数のジョブ、
またはレチクルにより露光を行なう半導体露光装置に関
する。
、特に１枚のウエハの露光工程において複数のジョブ、
またはレチクルにより露光を行なう半導体露光装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ウエハの露光過程において、１枚のウエ
ハ内で複数の種類のＩＣを焼きつける場合、複数のジョ
ブを使用する場合がある。ジョブとはステッパを動かす
ためのパラメータ群およびこのパラメータ群に応じてス
テッパが実行する１まとまりの仕事または動作をいう。 ここでいうウエハの露光時に使われるジョブ（パラメー
タ群）はいわゆるショット数などの露光情報を指す。従
来のステッパでは、例えばＡ，Ｂ，Ｃの３つのジョブを
使用する場合、図３に示すように、あるウエハにおいて
ジョブＡ，Ｂ，Ｃを順番にロードし実行した後、次のウ
エハに変わってもまた同じようにジョブＡ，Ｂ，Ｃを順
々にロードし実行していた。
ハ内で複数の種類のＩＣを焼きつける場合、複数のジョ
ブを使用する場合がある。ジョブとはステッパを動かす
ためのパラメータ群およびこのパラメータ群に応じてス
テッパが実行する１まとまりの仕事または動作をいう。 ここでいうウエハの露光時に使われるジョブ（パラメー
タ群）はいわゆるショット数などの露光情報を指す。従
来のステッパでは、例えばＡ，Ｂ，Ｃの３つのジョブを
使用する場合、図３に示すように、あるウエハにおいて
ジョブＡ，Ｂ，Ｃを順番にロードし実行した後、次のウ
エハに変わってもまた同じようにジョブＡ，Ｂ，Ｃを順
々にロードし実行していた。
【０００３】このように従来の半導体露光装置において
は、複数のジョブを使用する際、ジョブの実行時間の他
にロードおよび送信に時間がかかりすぎるという問題が
あった。
は、複数のジョブを使用する際、ジョブの実行時間の他
にロードおよび送信に時間がかかりすぎるという問題が
あった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
例における問題点に鑑みてなされたもので、複数のジョ
ブを使用する半導体露光装置において、ジョブのロード
および送信に費やされる時間を少しでも短縮し、もって
スループットを向上させることを目的とする。
例における問題点に鑑みてなされたもので、複数のジョ
ブを使用する半導体露光装置において、ジョブのロード
および送信に費やされる時間を少しでも短縮し、もって
スループットを向上させることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明では、１枚のウエハ内で複数のジョブに応じて
露光条件を変えながら該ウエハ内の各ショットを順次露
光する半導体露光装置において、複数枚のウエハを順次
露光処理する際に、第１枚目のウエハにおいて前記複数
のジョブを実施する順番を決め、第２枚目以降のウエハ
の露光においては直前のウエハの最終ジョブから露光を
開始することを特徴とする。
め本発明では、１枚のウエハ内で複数のジョブに応じて
露光条件を変えながら該ウエハ内の各ショットを順次露
光する半導体露光装置において、複数枚のウエハを順次
露光処理する際に、第１枚目のウエハにおいて前記複数
のジョブを実施する順番を決め、第２枚目以降のウエハ
の露光においては直前のウエハの最終ジョブから露光を
開始することを特徴とする。
【０００６】
【作用】上記構成によれば、第２枚目以降のウエハは、
直前のウエハの最終ジョブから露光を開始するようにし
たため、そのウエハについては最初のジョブをロードす
る必要がなくなり、その分、処理時間を短縮することが
できる。
直前のウエハの最終ジョブから露光を開始するようにし
たため、そのウエハについては最初のジョブをロードす
る必要がなくなり、その分、処理時間を短縮することが
できる。
【０００７】例えばＡ，Ｂ，Ｃの３つのジョブを使用す
る場合、図１に示すように、あるウエハでＡ，Ｂ，Ｃの
３つのジョブを順番にロードし実行した後、次のウエハ
の露光過程に移る時は最初のジョブＡをロードしないで
、すでにロード済みであるジョブＣを実行する。このよ
うに“Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｃ，Ｂ，Ａ，Ａ，Ｂ，Ｃ，……”の
順でジョブを実行することにより、２枚目以降のウエハ
の最初のジョブのロードおよび送信時間を省くことがで
きる。これにより、スループットを向上させることがで
きる。
る場合、図１に示すように、あるウエハでＡ，Ｂ，Ｃの
３つのジョブを順番にロードし実行した後、次のウエハ
の露光過程に移る時は最初のジョブＡをロードしないで
、すでにロード済みであるジョブＣを実行する。このよ
うに“Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｃ，Ｂ，Ａ，Ａ，Ｂ，Ｃ，……”の
順でジョブを実行することにより、２枚目以降のウエハ
の最初のジョブのロードおよび送信時間を省くことがで
きる。これにより、スループットを向上させることがで
きる。
【０００８】
【実施例】図２は、本発明を適用したステップアンドリ
ピート方式の半導体露光装置の外観を示す斜視図である
。同図において、露光光源１０からの光で照明されるレ
チクル１は、ＸＹ直角座標面内で移動可能で且つ垂直軸
θの周りに回動可能なレチクルステージ２に保持され、
レチクルパターンを露光レンズ３を介してウエハステー
ジ６上のウエハ４に投影するようになされている。 この投影光学系にはＴＴＬアライメントおよび観察用の
アライメントスコープ５が組み合わされており、９はそ
のための撮像管である。さらにこの投影光学系にはオフ
アクシスのＩＴＶプリアライメント系も付設されており
、７はその対物レンズ、８はその撮像管である。１１ａ
，１１ｂはウエハをステージ６へ送給するウエハ供給用
キャリア、１２ａ，１２ｂはステージ６からウエハを引
きとるウエハ回収用キャリアであり、これらキャリアと
ステージとの間のウエハの受渡しは、それぞれ定められ
たステージ位置（受渡し位置）でハンド装置１６により
行なわれる。１３は前記撮像管７および８によって撮像
した映像を選択的にモニタ表示するＣＲＴ表示装置、１
４はジョイステックやスイッチ類を有する操作パネル、
１５はシステムを制御するコンソールである。なお、こ
の半導体露光装置は、コンソール１５と通信しながら、
ステージ６、ハンド装置１６、および露光光源１０など
の動作を制御するメインＣＰＵを備えているものとする
。
ピート方式の半導体露光装置の外観を示す斜視図である
。同図において、露光光源１０からの光で照明されるレ
チクル１は、ＸＹ直角座標面内で移動可能で且つ垂直軸
θの周りに回動可能なレチクルステージ２に保持され、
レチクルパターンを露光レンズ３を介してウエハステー
ジ６上のウエハ４に投影するようになされている。 この投影光学系にはＴＴＬアライメントおよび観察用の
アライメントスコープ５が組み合わされており、９はそ
のための撮像管である。さらにこの投影光学系にはオフ
アクシスのＩＴＶプリアライメント系も付設されており
、７はその対物レンズ、８はその撮像管である。１１ａ
，１１ｂはウエハをステージ６へ送給するウエハ供給用
キャリア、１２ａ，１２ｂはステージ６からウエハを引
きとるウエハ回収用キャリアであり、これらキャリアと
ステージとの間のウエハの受渡しは、それぞれ定められ
たステージ位置（受渡し位置）でハンド装置１６により
行なわれる。１３は前記撮像管７および８によって撮像
した映像を選択的にモニタ表示するＣＲＴ表示装置、１
４はジョイステックやスイッチ類を有する操作パネル、
１５はシステムを制御するコンソールである。なお、こ
の半導体露光装置は、コンソール１５と通信しながら、
ステージ６、ハンド装置１６、および露光光源１０など
の動作を制御するメインＣＰＵを備えているものとする
。
【０００９】図１は以上に述べた構成を有する半導体露
光装置に本発明を適用した場合のウエハ露光過程におけ
るジョブの流れ図である。
光装置に本発明を適用した場合のウエハ露光過程におけ
るジョブの流れ図である。
【００１０】先ず、メインＣＰＵの制御のもとでステー
ジ６およびハンド装置１６が作動してウエハステージ６
上にウエハ供給用キャリア１１ａ，１１ｂによりウエハ
が供給され、セットされる。
ジ６およびハンド装置１６が作動してウエハステージ６
上にウエハ供給用キャリア１１ａ，１１ｂによりウエハ
が供給され、セットされる。
【００１１】次に、図１のステップ２０１すなわちコン
ソール上でのジョブＡのロードが実行される。そして次
々とコンソールからメインＣＰＵへのジョブ送信（ステ
ップ２０２）、メインＣＰＵによるジョブＡの実行（ス
テップ２０３）、メインからコンソールへのジョブ要求
（ステップ２０４）、コンソールにおけるジョブＢのロ
ード（ステップ２０５）、コンソールからメインへのジ
ョブ送信（ステップ２０６）、メインによるジョブＢの
実行（ステップ２０７）、メインからのジョブ要求（ス
テップ２０８）、ジョブＣのロード（ステップ２０９）
、コンソールからのジョブ送信（ステップ２１０）、お
よびジョブＣの実行（ステップ２１１）の各処理が実行
され１枚のウエハの露光が完了する。
ソール上でのジョブＡのロードが実行される。そして次
々とコンソールからメインＣＰＵへのジョブ送信（ステ
ップ２０２）、メインＣＰＵによるジョブＡの実行（ス
テップ２０３）、メインからコンソールへのジョブ要求
（ステップ２０４）、コンソールにおけるジョブＢのロ
ード（ステップ２０５）、コンソールからメインへのジ
ョブ送信（ステップ２０６）、メインによるジョブＢの
実行（ステップ２０７）、メインからのジョブ要求（ス
テップ２０８）、ジョブＣのロード（ステップ２０９）
、コンソールからのジョブ送信（ステップ２１０）、お
よびジョブＣの実行（ステップ２１１）の各処理が実行
され１枚のウエハの露光が完了する。
【００１２】露光完了のウエハはウエハ回収用キャリア
１２ａ，１２ｂによって回収され、次のウエハ（ここで
は仮に２枚目のウエハとする）が供給用キャリア１１ａ
，１１ｂによってウエハステージ６上にセットされる（
ステップ２１２）。コンソール上でウエハ交換処理（ス
テップ２１３）が実行されると、コンソールはジョブ送
信完了通知をメインに送信する（ステップ２１４）。す
ると、２枚目のウエハに対し、メインはもうすでにロー
ドおよび送信済みであるジョブＣを実行する（ステップ
２１５）。
１２ａ，１２ｂによって回収され、次のウエハ（ここで
は仮に２枚目のウエハとする）が供給用キャリア１１ａ
，１１ｂによってウエハステージ６上にセットされる（
ステップ２１２）。コンソール上でウエハ交換処理（ス
テップ２１３）が実行されると、コンソールはジョブ送
信完了通知をメインに送信する（ステップ２１４）。す
ると、２枚目のウエハに対し、メインはもうすでにロー
ドおよび送信済みであるジョブＣを実行する（ステップ
２１５）。
【００１３】そして、また次々とジョブ要求（ステップ
２１６）、ジョブＢのロード（ステップ２１７）、ジョ
ブ送信（ステップ２１８）、ジョブＢの実行（ステップ
２１９）、ジョブ要求（ステップ２２０）、ジョブＡの
ロード（ステップ２２１）、ジョブ送信（ステップ２２
２）、およびジョブＡの実行（ステップ２２３）の各処
理が実行され、２枚目のウエハの露光が完了する。ステ
ップ２２４、２２５および２２６によって２枚目と３枚
目のウエハ交換、ウエハ交換処理およびジョブ送信完了
通知の各処理が行なわれると、３枚目のウエハに対しメ
インはすでにロードおよび送信済みのジョブＡを実行す
る（ステップ２２７）。以下、露光作業を終了するまで
以上の動作（ステップ２０４〜２２７）をくり返す。
２１６）、ジョブＢのロード（ステップ２１７）、ジョ
ブ送信（ステップ２１８）、ジョブＢの実行（ステップ
２１９）、ジョブ要求（ステップ２２０）、ジョブＡの
ロード（ステップ２２１）、ジョブ送信（ステップ２２
２）、およびジョブＡの実行（ステップ２２３）の各処
理が実行され、２枚目のウエハの露光が完了する。ステ
ップ２２４、２２５および２２６によって２枚目と３枚
目のウエハ交換、ウエハ交換処理およびジョブ送信完了
通知の各処理が行なわれると、３枚目のウエハに対しメ
インはすでにロードおよび送信済みのジョブＡを実行す
る（ステップ２２７）。以下、露光作業を終了するまで
以上の動作（ステップ２０４〜２２７）をくり返す。
【００１４】なお、本発明においては、２枚目以降のウ
エハにおける最初のジョブと直前のウエハの最終のジョ
ブが同じであれば、それ以外のジョブの順序は任意に設
定することができる。例えば、上述の実施例においては
“Ａ，Ｂ，Ｃ，／Ｃ，Ｂ，Ａ，／Ａ，Ｂ，Ｃ，……”の
順、すなわち１回ごとに逆の順序でジョブを実行するよ
うにしているが、“Ａ，Ｂ，Ｃ，／Ｃ，Ａ，Ｂ，／Ｂ，
Ｃ，Ａ，……”のように順序は同じで開始するジョブが
変わるような順序にしてもよい。
エハにおける最初のジョブと直前のウエハの最終のジョ
ブが同じであれば、それ以外のジョブの順序は任意に設
定することができる。例えば、上述の実施例においては
“Ａ，Ｂ，Ｃ，／Ｃ，Ｂ，Ａ，／Ａ，Ｂ，Ｃ，……”の
順、すなわち１回ごとに逆の順序でジョブを実行するよ
うにしているが、“Ａ，Ｂ，Ｃ，／Ｃ，Ａ，Ｂ，／Ｂ，
Ｃ，Ａ，……”のように順序は同じで開始するジョブが
変わるような順序にしてもよい。
【００１５】
【他の実施例】半導体露光装置におけるウエハの露光過
程において、複数のジョブではなく複数のレチクルを使
用する場合がある。
程において、複数のジョブではなく複数のレチクルを使
用する場合がある。
【００１６】この場合にも本発明を適用すればスループ
ットを向上させることができる。
ットを向上させることができる。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、半導体露
光装置のスループットを向上させることができる。
光装置のスループットを向上させることができる。
【図１】 本発明の一実施例に係る半導体露光装置に
おけるウエハ露光過程で使用されるジョブの流れ図であ
る。
おけるウエハ露光過程で使用されるジョブの流れ図であ
る。
【図２】 本発明を適用したステップアンドリピート
方式の半導体露光装置の外観を示す斜視図である。
方式の半導体露光装置の外観を示す斜視図である。
【図３】 従来の半導体露光装置におけるウエハ露光
過程で使用されるジョブの流れ図である。
過程で使用されるジョブの流れ図である。
１：レチクル、２：レチクルステージ、３：露光レンズ
、４：ウエハ、６：ウエハステージ、１０：露光光源、
１１ａ，１１ｂ：ウエハ供給用キャリア、１２ａ，１２
ｂ：ウエハ回収用キャリア、１４：操作パネル、１５：
コンソール。
、４：ウエハ、６：ウエハステージ、１０：露光光源、
１１ａ，１１ｂ：ウエハ供給用キャリア、１２ａ，１２
ｂ：ウエハ回収用キャリア、１４：操作パネル、１５：
コンソール。
Claims (2)
- 【請求項１】 １枚のウエハ内で、複数のジョブに応
じて露光条件を変えながら該ウエハ内の各ショットを順
次露光する半導体露光装置において、複数枚のウエハを
順次露光処理する際に、第１枚目のウエハにおいて前記
複数のジョブを実施する順番を決め、第２枚目以降のウ
エハの露光においては直前のウエハの最終ジョブから露
光を開始することを特徴とする半導体露光装置。 - 【請求項２】 １枚のウエハ内で、複数のレチクルを
交換しながら該ウエハ内の各ショットを順次露光する半
導体露光装置において、複数枚のウエハを順次露光処理
する際に、第１枚目のウエハにおいて前記複数のレチク
ルのそれぞれを使用する順番を決め、第２枚目以降のウ
エハの露光においては直前のウエハで最後に使用したレ
チクルを用いるショットから露光を開始することを特徴
とする半導体露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3167376A JPH04365312A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | 半導体露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3167376A JPH04365312A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | 半導体露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04365312A true JPH04365312A (ja) | 1992-12-17 |
Family
ID=15848570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3167376A Pending JPH04365312A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | 半導体露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04365312A (ja) |
-
1991
- 1991-06-13 JP JP3167376A patent/JPH04365312A/ja active Pending
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