JPH0436152B2 - - Google Patents
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- JPH0436152B2 JPH0436152B2 JP23182784A JP23182784A JPH0436152B2 JP H0436152 B2 JPH0436152 B2 JP H0436152B2 JP 23182784 A JP23182784 A JP 23182784A JP 23182784 A JP23182784 A JP 23182784A JP H0436152 B2 JPH0436152 B2 JP H0436152B2
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- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- OAKURXIZZOAYBC-UHFFFAOYSA-N 3-oxopropanoic acid Chemical class OC(=O)CC=O OAKURXIZZOAYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YNNGZCVDIREDDK-UHFFFAOYSA-N aminocarbamodithioic acid Chemical class NNC(S)=S YNNGZCVDIREDDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims description 2
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- -1 carboxypyrazole-5-sulfonamide derivative Chemical class 0.000 description 4
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- DWXKSCKBUSAOKS-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-chloro-3-oxopropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(Cl)C=O DWXKSCKBUSAOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000005183 environmental health Effects 0.000 description 2
- ICDLJCWXRUNUNO-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-methyl-5-sulfamoylpyrazole-4-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1C=NN(C)C=1S(N)(=O)=O ICDLJCWXRUNUNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N phosphoric tribromide Chemical compound BrP(Br)(Br)=O UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical class ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTYKACFNSGUTDJ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfamoyl-1h-pyrazole-4-carboxylic acid Chemical class NS(=O)(=O)C=1NN=CC=1C(O)=O FTYKACFNSGUTDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYZSLVXXYNYSFL-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=1C=NNC=1S(Cl)(=O)=O Chemical class OC(=O)C=1C=NNC=1S(Cl)(=O)=O CYZSLVXXYNYSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical compound CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- LVWZTAJAEIEHNR-UHFFFAOYSA-N benzyl n-amino-n-methylcarbamodithioate Chemical compound CN(N)C(=S)SCC1=CC=CC=C1 LVWZTAJAEIEHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- KWFADUNOPOSMIJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-chloro-3-oxopropanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(Cl)=O KWFADUNOPOSMIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZYOBVDMFPVGSN-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-benzylsulfanyl-1-methylpyrazole-4-carboxylate Chemical compound C1=NN(C)C(SCC=2C=CC=CC=2)=C1C(=O)OCC FZYOBVDMFPVGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEQLXEAEARQQJL-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-chlorosulfonyl-1h-pyrazole-4-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1C=NNC=1S(Cl)(=O)=O LEQLXEAEARQQJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNMLETKZTVNSBI-UHFFFAOYSA-N ethyl n-amino-n-methylcarbamodithioate Chemical compound CCSC(=S)N(C)N HNMLETKZTVNSBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QCEOBXKEQKMIAY-UHFFFAOYSA-N methyl n-amino-n-methylcarbamodithioate Chemical compound CSC(=S)N(C)N QCEOBXKEQKMIAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は1−アルキル−4−カルボキシ−5−
アルキルチオピラゾール誘導体および1−アルキ
ル−4−カルボキシ−5−ベンジルチオピラゾー
ル誘導体およびそれらの製法に関する。
アルキルチオピラゾール誘導体および1−アルキ
ル−4−カルボキシ−5−ベンジルチオピラゾー
ル誘導体およびそれらの製法に関する。
1−アルキル−4−カルボキシ−5−アルキル
チオピラゾール誘導体および1−アルキル−4−
カルボキシ−5−ベンジルチオピラゾール誘導体
は医薬、農薬等の中間体として有用である。例え
ば特開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤の中間体として有
用である。
チオピラゾール誘導体および1−アルキル−4−
カルボキシ−5−ベンジルチオピラゾール誘導体
は医薬、農薬等の中間体として有用である。例え
ば特開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤の中間体として有
用である。
すなわち、以下の反応に従つて1−アルキル−
4−カルボキシピラゾール−5−スルホンアミド
誘導体に導き、さらに前記特許出願公開明細書に
記載された方法に従つて目的とする除草剤を得る
ことができる。
4−カルボキシピラゾール−5−スルホンアミド
誘導体に導き、さらに前記特許出願公開明細書に
記載された方法に従つて目的とする除草剤を得る
ことができる。
〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 従来の技術 1−アルキル−4−カルボキシピラゾール−5
−スルホンアミド誘導体を得るには従来以下のよ
うな方法が知られている。
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 従来の技術 1−アルキル−4−カルボキシピラゾール−5
−スルホンアミド誘導体を得るには従来以下のよ
うな方法が知られている。
(1) 1−アルキル−4−カルボキシ−5−ヒドロ
キシピラゾール誘導体をオキシ塩化燐等と加熱
反応させることによりハロゲン化して1−アル
キル−4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾー
ル誘導体を得、これに硫化ソーダを作用させ1
−アルキル−4−カルボキシ−5−メルカプト
ピラゾール誘導体を得、更に塩素で酸化した後
アンモニア水を作用させて1−アルキル−4−
カルボキシピラゾール−5−スルホンアミド誘
導体を得る。
キシピラゾール誘導体をオキシ塩化燐等と加熱
反応させることによりハロゲン化して1−アル
キル−4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾー
ル誘導体を得、これに硫化ソーダを作用させ1
−アルキル−4−カルボキシ−5−メルカプト
ピラゾール誘導体を得、更に塩素で酸化した後
アンモニア水を作用させて1−アルキル−4−
カルボキシピラゾール−5−スルホンアミド誘
導体を得る。
〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原
子または低級アルキル基を、Xはハロゲン原子
を示す。〕 (2) 1−H−4−カルボキシピラゾール−5−ス
ルホンアミド誘導体をアルキル化して1−アル
キル−4−カルボキシピラゾール−5−スルホ
ンアミド誘導体を得る。
子または低級アルキル基を、Xはハロゲン原子
を示す。〕 (2) 1−H−4−カルボキシピラゾール−5−ス
ルホンアミド誘導体をアルキル化して1−アル
キル−4−カルボキシピラゾール−5−スルホ
ンアミド誘導体を得る。
〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原
子または低級アルキル基を、Yはハロゲン原子
または硫酸エステル残基を示す。〕 (3) 1−アルキル−4−カルボキシ−5−アミノ
ピラゾール誘導体を亜硝酸ソーダ等でジアゾニ
ウム塩とし、塩酸、銅系触媒、過剰の二酸化イ
オウで酢酸溶媒下分解し、対応する1−アルキ
ル−4−カルボキシピラゾール−5−スルホニ
ルクロライド誘導体を得る。これに、アンモニ
ア水を処理し目的の1−アルキル−4−カルボ
キシピラゾール−5−スルホンアミド誘導体を
得る。
子または低級アルキル基を、Yはハロゲン原子
または硫酸エステル残基を示す。〕 (3) 1−アルキル−4−カルボキシ−5−アミノ
ピラゾール誘導体を亜硝酸ソーダ等でジアゾニ
ウム塩とし、塩酸、銅系触媒、過剰の二酸化イ
オウで酢酸溶媒下分解し、対応する1−アルキ
ル−4−カルボキシピラゾール−5−スルホニ
ルクロライド誘導体を得る。これに、アンモニ
ア水を処理し目的の1−アルキル−4−カルボ
キシピラゾール−5−スルホンアミド誘導体を
得る。
発明が解決しようとする問題点
前記方法(1)を用いる場合、5位のヒドロキシ基
をハロゲン化する工程の問題点として以下のよう
な点があげられる。
をハロゲン化する工程の問題点として以下のよう
な点があげられる。
原料に4位にカルボン酸エステルをもつピラ
ゾールを用じた場合、エステルの加水分解に由
来する4−カルボン酸ピラゾールが副生する。
4位−カルボン酸エステルを目的物とする場合
にはさらにエステル化工程を必要とする。
ゾールを用じた場合、エステルの加水分解に由
来する4−カルボン酸ピラゾールが副生する。
4位−カルボン酸エステルを目的物とする場合
にはさらにエステル化工程を必要とする。
反応試剤として多量のオキシ塩化燐またはオ
キシ臭化燐を使用するため、反応終了後過剰の
オキシ塩化燐またはオキシ臭化燐を除去処理す
る必要がある。経済的に不利なだけでなく、廃
液中の燐分処理が必要となり必ずしも工業的に
は有利といえない。
キシ臭化燐を使用するため、反応終了後過剰の
オキシ塩化燐またはオキシ臭化燐を除去処理す
る必要がある。経済的に不利なだけでなく、廃
液中の燐分処理が必要となり必ずしも工業的に
は有利といえない。
長時間、高温の反応条件を必要とする。エネ
ルギーコストの面から、工業的に不利である。
ルギーコストの面から、工業的に不利である。
収率が低い。
前記方法(2)の問題点として以下のような点があ
げられる。
げられる。
アルキル化に位置選択性がないので、生成物
が1−アルキル−4−カルボキシピラゾール−
5−スルホンアミド誘導体と1−アルキル−4
−カルボキシピラゾール−3−スルホンアミド
誘導体の混合物として得られる。目的物の収率
が低下するだけでなく、分離が困難である。
が1−アルキル−4−カルボキシピラゾール−
5−スルホンアミド誘導体と1−アルキル−4
−カルボキシピラゾール−3−スルホンアミド
誘導体の混合物として得られる。目的物の収率
が低下するだけでなく、分離が困難である。
〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
または低級アルキル基を、Yはハロゲン原子ま
たは硫酸エステル残基を示す。〕 前記方法(3)の問題点として以下のような点があ
げられる。
または低級アルキル基を、Yはハロゲン原子ま
たは硫酸エステル残基を示す。〕 前記方法(3)の問題点として以下のような点があ
げられる。
触媒に環境衛生上問題を有する銅のような重
金属を用いる必要がある。
金属を用いる必要がある。
スルホニルクロライドを得る、ジアゾニウム
塩の分解工程が必ずしも高収率でない。
塩の分解工程が必ずしも高収率でない。
分解工程で多量の酢酸、二酸化イオウを用い
る。
る。
問題点を解決するための手段及び発明の態様
本発明者らは、一般式():
〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を
示す。〕 で表されるホルミル酢酸誘導体と次式(): 〔式中Aは低級アルキル基を、R2は低級アル
キル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるジチオカルバジン酸誘導体とを不活性
溶媒中で反応させることで一般式(): を得、塩素で酸化した後アンモニウム水を作用さ
せて1−アルキル−4−カルボキシピラゾール−
5−スルホンアミド誘導体が得られる事を見出し
た。ここで一般式()で表される化合物は新規
化合物であり、またこの化合物を用いることによ
つて除草剤として有用であることが知られている
特開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤が短工程、高収率
にしかも高品質で得られることを見出し本発明を
完成させた。
示す。〕 で表されるホルミル酢酸誘導体と次式(): 〔式中Aは低級アルキル基を、R2は低級アル
キル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるジチオカルバジン酸誘導体とを不活性
溶媒中で反応させることで一般式(): を得、塩素で酸化した後アンモニウム水を作用さ
せて1−アルキル−4−カルボキシピラゾール−
5−スルホンアミド誘導体が得られる事を見出し
た。ここで一般式()で表される化合物は新規
化合物であり、またこの化合物を用いることによ
つて除草剤として有用であることが知られている
特開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤が短工程、高収率
にしかも高品質で得られることを見出し本発明を
完成させた。
一般式()および()を反応させるには、
反応溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル誘導体、ベンゼン、トルエン等のベ
ンゼン誘導体、メタノール、エタノール等のアル
コール誘導体、ジクロルエタン、四塩化炭素等の
ハロゲン化アルキル誘導体等が用いられる。反応
は室温でも進行し、通常−20〜80℃程度の温度で
行われる。生成するイオウは反応後濾過すること
によつて取り除くことができる。
反応溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル誘導体、ベンゼン、トルエン等のベ
ンゼン誘導体、メタノール、エタノール等のアル
コール誘導体、ジクロルエタン、四塩化炭素等の
ハロゲン化アルキル誘導体等が用いられる。反応
は室温でも進行し、通常−20〜80℃程度の温度で
行われる。生成するイオウは反応後濾過すること
によつて取り除くことができる。
発明の効果
本発明の利点として以下のような点が列挙でき
る。
る。
(1) 工程が短く、工業的に平易なプロセスであ
る。
る。
(2) 異性体の副性がない。
(3) 環境衛生上問題となる重金属等を使用せず、
廃棄物処理の問題がない。
廃棄物処理の問題がない。
実施例及び参考例
以下に本発明の具体的実施例を示すが、本発明
の要旨を越えない限り本発明は以下の実施例に限
定されるものではない。
の要旨を越えない限り本発明は以下の実施例に限
定されるものではない。
実施例 1
5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4
−カルボン酸エチル テトラヒドロフラン10ml中にα−クロルホルミ
ル酢酸エチル1.51gを加え攪拌下0℃に冷却した
中へ2−メチルジチオカルバジン酸ベンジル1.51
gを少しずつ加えた。その後室温にて一夜攪拌し
た。析出固体を濾過後、濾液の溶媒を留去した。
次いでベンゼン20mlを加え、炭酸カリウム水溶液
で洗浄後、溶媒を留去し粗物の5−ベンジルチオ
−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エチル
を得た。収率85.5% 融点54〜55℃ 実施例 2 5−メチルチオ−1−メチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル 上記実施例1に準じて2−メチルジチオカルバ
ジン酸メチル1.36gとα−クロルホルミル酢酸エ
チル1.51gより得た。
−カルボン酸エチル テトラヒドロフラン10ml中にα−クロルホルミ
ル酢酸エチル1.51gを加え攪拌下0℃に冷却した
中へ2−メチルジチオカルバジン酸ベンジル1.51
gを少しずつ加えた。その後室温にて一夜攪拌し
た。析出固体を濾過後、濾液の溶媒を留去した。
次いでベンゼン20mlを加え、炭酸カリウム水溶液
で洗浄後、溶媒を留去し粗物の5−ベンジルチオ
−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エチル
を得た。収率85.5% 融点54〜55℃ 実施例 2 5−メチルチオ−1−メチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル 上記実施例1に準じて2−メチルジチオカルバ
ジン酸メチル1.36gとα−クロルホルミル酢酸エ
チル1.51gより得た。
収率82.8% 沸点165〜170℃/25mmHg
実施例 3
5−エチルチオ−1−メチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル 上記実施例1に準じて2−メチルジチオカルバ
ジン酸エチル1.5gとα−クロルホルミル酢酸エ
チル1.51gより得た。
カルボン酸エチル 上記実施例1に準じて2−メチルジチオカルバ
ジン酸エチル1.5gとα−クロルホルミル酢酸エ
チル1.51gより得た。
収率83.8% 沸点 83℃/0.07mmHg
実施例 4
5−t−ブチルチオ−1−メチルピラゾール−
4−カルボン酸エチル 上記実施例1に準じて2−メチルジチオカルバ
ジン酸−t−ブチル(融点60〜61℃)1.87gとα
−クロルホルミル酢酸エチル1.51gより得た。
4−カルボン酸エチル 上記実施例1に準じて2−メチルジチオカルバ
ジン酸−t−ブチル(融点60〜61℃)1.87gとα
−クロルホルミル酢酸エチル1.51gより得た。
収率82.3% 沸点 97℃/0.07mmHg
ここで得られた1−アルキル−4−カルボキシ
−5−アルキルチオピラゾール誘導体および1−
アルキル−4−カルボキシ−5−ベンジルチオピ
ラゾール誘導体は以下の参考例に準じて、1−ア
ルキル−4−カルボキシピラゾール−5−スルホ
ンアミド誘導体に導くことができる。
−5−アルキルチオピラゾール誘導体および1−
アルキル−4−カルボキシ−5−ベンジルチオピ
ラゾール誘導体は以下の参考例に準じて、1−ア
ルキル−4−カルボキシピラゾール−5−スルホ
ンアミド誘導体に導くことができる。
参考例 1
1−メチル−4−エトキシカルボニルピラゾー
ル−5−スルホンアミドの合成 5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4
−カルボン酸エチル3.6gを80%酢酸水溶液40ml
に溶解し10℃以下の温度で塩素を飽和になるまで
吹き込んだ。飽和後30分間攪拌した。次ぎに水50
ml、ベンゼン50mlを加え攪拌した後有機層を分離
した。水層からベンゼン50mlで抽出した後、抽出
液を先の有機層と合わせ、水洗後、無水硫酸ナト
リウムで脱水、溶媒留去して粗製の1−メチル−
4−エトキシカルボニルピラゾール−5−スルホ
ニルクロライド(沸点130℃/2mmHg)5.4gを
得た。次ぎに得られたスルホニルクロライドにジ
クロルエタン20ml、炭酸アンモニウム2.4gを加
え、一夜攪拌した後、不溶物を濾過し、濾液の溶
媒を留去することによつて粗製の目的物を得た。
放置後析出した結晶2.6gを得た。
ル−5−スルホンアミドの合成 5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4
−カルボン酸エチル3.6gを80%酢酸水溶液40ml
に溶解し10℃以下の温度で塩素を飽和になるまで
吹き込んだ。飽和後30分間攪拌した。次ぎに水50
ml、ベンゼン50mlを加え攪拌した後有機層を分離
した。水層からベンゼン50mlで抽出した後、抽出
液を先の有機層と合わせ、水洗後、無水硫酸ナト
リウムで脱水、溶媒留去して粗製の1−メチル−
4−エトキシカルボニルピラゾール−5−スルホ
ニルクロライド(沸点130℃/2mmHg)5.4gを
得た。次ぎに得られたスルホニルクロライドにジ
クロルエタン20ml、炭酸アンモニウム2.4gを加
え、一夜攪拌した後、不溶物を濾過し、濾液の溶
媒を留去することによつて粗製の目的物を得た。
放置後析出した結晶2.6gを得た。
収率85.6% 融点 102〜104℃
参考例 2
1−メチル−4−エトキシカルボニルピラゾー
ル−5−スルホンアミドの合成(別法)5−t−
ブチルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチル4.8gを用い参考例1に準じて目的物
4.1gを得た。収率88.7%
ル−5−スルホンアミドの合成(別法)5−t−
ブチルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチル4.8gを用い参考例1に準じて目的物
4.1gを得た。収率88.7%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(): 〔式中Aは低級アルキル基を、R1が水素原子
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体。 2 一般式(): 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を
示す。〕 で表わされるホルミル酢酸誘導体と次式(): 〔式中Aは低級アルキル基を、R2は低級アル
キル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるジチオカルバジン酸誘導体とを不活性
溶媒中で反応させることを特徴とする一般式
(): 〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23182784A JPS61109771A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | ピラゾ−ル誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23182784A JPS61109771A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | ピラゾ−ル誘導体およびその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61109771A JPS61109771A (ja) | 1986-05-28 |
JPH0436152B2 true JPH0436152B2 (ja) | 1992-06-15 |
Family
ID=16929637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23182784A Granted JPS61109771A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | ピラゾ−ル誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61109771A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0602589B1 (en) * | 1992-12-17 | 1996-06-26 | Lucky Ltd. | Processes for preparation of 5-pyrazolemercaptan derivatives and intermediates thereof |
-
1984
- 1984-11-02 JP JP23182784A patent/JPS61109771A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61109771A (ja) | 1986-05-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |