JPH04360852A - 含フッ素芳香族エステル - Google Patents

含フッ素芳香族エステル

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JPH04360852A
JPH04360852A JP13761391A JP13761391A JPH04360852A JP H04360852 A JPH04360852 A JP H04360852A JP 13761391 A JP13761391 A JP 13761391A JP 13761391 A JP13761391 A JP 13761391A JP H04360852 A JPH04360852 A JP H04360852A
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Koji Yano
矢野 興二
Hideyuki Tomota
英幸 友田
Hiroaki Shimizu
弘明 清水
Nobuhiko Tachiiri
立入 信彦
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、撥水撥油剤、離型剤、
防汚剤、可塑剤、及び樹脂・金属・木材等の表面改質剤
等として有用であり、又分子内に反応性残基を有するこ
とにより、別のエステル、アミド、塩類等に誘導可能な
合成中間体として有用な新規な含フッ素芳香族エステル
に関する。
【0002】
【従来の技術及びその課題】従来から、ペルフルオロア
ルキル基、またはペルフルオロアルケニル基を有するア
ルコールから誘導されるエステルは、優れた撥水撥油性
、耐候性、低摩擦性、摺動性、離型性等の特性を有する
ことが知られている(特開平1−265061,特開平
2−282347)。しかしながら、これら含フッ素エ
ステルはペルフルオロカーボン鎖を分子内に1鎖しか有
さず、撥水撥油性、低摩擦性、摺動性、離型性等の特性
が不十分であり、また、樹脂等を表面処理する場合、樹
脂等に対しての密着性が不十分であるという問題点があ
った。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した如
き従来技術の課題を解決すべく鋭意研究を重ねてきた。 その結果、芳香環を有するカルボン酸を原料として用い
る場合に、フルオロカーボン鎖の数を自由に変えること
ができ、従来の含フッ素エステルに比べて、安定で高度
に分岐したフルオロカーボン鎖の導入率が高く、優れた
撥水撥油性、低摩擦性、摺動性、離型性等の特性を示す
とともに、耐久性、密着性等の特性をも有する新規な含
フッ素芳香族エステルが得られることを見出した。更に
、該含フッ素芳香族エステルは、分子内の反応性残基(
例えばカルボキシル基)を、別のエステル、アミド、塩
類等に誘導することができ、基材への対応性が高く、各
種の要求性能を満足でき、更に合成中間体としても有用
であることも見出した。
【0004】即ち本発明は、一般式(I):
【0005
【化2】
【0006】(式中、Rfは各々同一又は異なってC6
 F11またはC9 F17で表わされるペルフルオロ
アルケニル基を示し、Rは各々同一又は異なって水素原
子または炭素数1〜3のアルキル基を示し、Arは、置
換基を有してもよいベンゼン環または置換基を有しても
よいナフタリン環を示す。nは1〜8の整数を示し、m
は0〜7の整数を示し、n+m≦8である。)で表され
る含フッ素芳香族エステルに係わる。
【0007】一般式(I)においてRfはC6 F11
またはC9 F17で表わされるペルフルオロアルケニ
ル基を示し、2個以上存在する場合には、同一又は異な
るものである。この基は一般的にはヘキサフルオロプロ
ペンの二量体もしくは三量体から誘導される。このよう
なペルフルオロアルケニル基としては次の構造で表され
るものが例示される。
【0008】
【化3】
【0009】一般式(I)において、Rは水素原子また
は炭素数1〜3のアルキル基を示し、2個以上存在する
場合には同一又は異なるものである。このようなアルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙
げられる。
【0010】Arは、置換基を有してもよいベンゼン環
または置換基を有してもよいナフタリン環を示す。置換
基としては、メチル基、エチル基、ハロゲン原子(F,
Cl,Br,I)、ニトリル基、ニトロ基、水酸基等が
挙げられ、これらの置換基の数としては、1又は2が好
ましい。
【0011】nは1〜8の整数を示し、好ましくは1〜
6の整数を示す。mは0〜7の整数を示し、好ましくは
0〜6の整数を示す。また、n及びmはn+m≦8を満
たすものである。
【0012】一般式(I)で表される含フッ素芳香族エ
ステルの製造方法は特に限定的ではないが、簡便な方法
としては以下のような製法例が挙げられる。
【0013】第一の製法は、一般式(II):
【001
4】
【化4】
【0015】(式中、Rfは前記に同じ。)で表される
含フッ素アルコールを酸触媒の存在下で、一般式(II
I): Ar(CO2 R)l               
       (III)(式中、RとArは、前記に
同じ。lは1〜8の整数を示す。)で表される芳香族カ
ルボン酸またはエステルと反応させる方法である。
【0016】一般式(II)の含フッ素アルコールの例
としては、p−(ペルフルオロノネニルオキシ)フェニ
ルエチルアルコール、p−(ペルフルオロヘキセニルオ
キシ)フェニルエチルアルコール等が挙げられる。含フ
ッ素アルコールは、例えばp−(ペルフルオロノネニル
オキシ)フェニルエチルアルコールについて例をあげる
と、p−ヒドロキシフェニルエチルアルコールにヘキサ
フルオロプルペンの三量体を塩基性条件下で反応させる
ことより高収量で得られる。
【0017】一般式(III)で表される芳香族カルボ
ン酸またはそのエステルの例としては、安息香酸、安息
香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、フタ
ル酸、イソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、
トリメリト酸トリエチル、トリメシン酸、ピロメリット
酸、メリット酸ヘキサメチル、ベンゼンテトラカルボン
酸、トルエンヘキサカルボン酸、ナフタル酸、ナフタリ
ン−1,4,5,8−テトラカルボン酸等が挙げられ、
これらのうちカルボン酸については、そのC1−3 ア
ルキルエステルも用いることができる。
【0018】上記した製法によれば、本発明化合物は、
一般式(III)で表される芳香族カルボン酸またはエ
ステル1モルに対して、0.1〜20モル、好ましくは
0.1〜10モルの一般式(II)で表される含フッ素
アルコールを酸触媒、例えば塩化水素、濃硫酸、p−ト
ルエンスルホン酸、強酸性イオン交換樹脂等の存在下、
50〜200℃、好ましくは60〜150℃の温度で1
〜48時間程度反応させることにより得られる。この際
所望により、不活性溶媒、例えばベンゼン、トルエン等
を使用してもよい。
【0019】上記製法により得られる化合物についてよ
り具体的に示すと、p−(ペルフルオロノネニルオキシ
)フェニルエチルアルコールと安息香酸(またはそのエ
ステル)とから、
【0020】
【化5】
【0021】が合成される。
【0022】トリメリット酸(またはそのエステル)か
らは、例えば下記の化合物が合成される。
【0023】
【化6】
【0024】トルエンペンタカルボン酸(またはそのエ
ステル)からは、次式のnが5までの化合物を得ること
ができる。
【0025】
【化7】
【0026】ナフタル酸(またはそのエステル)からは
、次のようなものが合成される。
【0027】
【化8】
【0028】(以上、Rf及びRは、前記に同じ)本発
明化合物の第二の製法は、一般式(II):
【0029
【化9】
【0030】(式中、Rfは前記と同意義である)で表
される含フッ素アルコールを塩基の存在下で、一般式(
IV): Ar(COX)p                 
       (IV)(式中、Xはハロゲン原子であ
り、pは1〜8の整数を示す。Arは、前記に同じ。)
で表されるカルボン酸ハロゲン化物、または一般式(V
):         (ROCO)r−Ar−((CO)2
 O)q        (V)(式中、Rは前記に同
じ。rは0〜6の整数を示し、qは1〜4の整数を示し
、r+p≦8である。Arは、前記に同じ。)で表され
るカルボン酸無水物と反応させる方法である。
【0031】一般式(IV)で表される芳香族カルボン
酸ハロゲン化物の例としては、塩化ベンゾイル、テレフ
タル酸二臭化物、トリメシン酸三塩化物等が挙げられ、
また、一般式(V)で表されるカルボン酸無水物の例と
しては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、ピロメリ
ット酸二無水物等が挙げられる。
【0032】上記第二の製法は、一般式(IV)または
一般式(V)で表される芳香族カルボン酸ハロゲン化物
またはカルボン酸無水物1モルに対して、0.1〜20
モル、好ましくは0.1〜10モルの一般式(II)で
表される含フッ素アルコールを塩基性化合物、例えばピ
リジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、塩基性イオ
ン交換樹脂等の存在下、−20〜100℃、好ましくは
−10〜80℃の温度で30〜180分間程度反応させ
ることにより実施できる。この際所望により、不活性溶
媒、例えばベンゼン、トルエン、アセトン、ヘキサン、
ジエチルエーテル等を使用してもよい。
【0033】上記等の製造法により得られた生成物は、
所望により蒸留、再結晶、、カラムクロマトグラフィー
等によって精製してもよい。
【0034】
【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。
【0035】
【実施例1】温度計、攪拌機および還流冷却管を備えた
反応容器内に、p−ペルフルオロノネニルオキシフェニ
ルエチルアルコール57.0g(0.1モル)、安息香
酸メチル13.9g(0.1モル)およびp−トルエン
スルホン酸0.8gを入れ、105−110℃で9時間
加熱攪拌した。
【0036】反応生成物をベンゼン300mlに溶かし
、溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水
で洗浄し、有機層を分取し溶媒を減圧下で加温除去した
【0037】得られた粗生成物を減圧蒸留に付して、下
記式で示す化合物Iを34.6g得た(収率51%)。
【0038】化合物Iの物性を以下の表−1に示す。
【0039】化合物I:
【0040】
【化10】
【0041】
【実施例2】温度計、攪拌機、還流冷却管および滴下漏
斗を備えた反応容器内に、p−ペルフルオロノネニルオ
キシフェニルエチルアルコール56.8g(0.1モル
)、テレフタル酸ジクロライド10.1g(0.05モ
ル)、アセトン30mlおよびベンゼン100mlを入
れ、該混合物中へ、トリエチルアミン13.5gをベン
ゼン30mlに溶かした溶液を、10℃以下に冷却しつ
つ滴下した。滴下終了後、室温にて12時間攪拌を行っ
た。
【0042】反応生成物をベンゼン300mlに溶かし
、溶液を5%希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、次い
で飽和食塩水で洗浄し、有機層を分取し溶媒を減圧下で
加温除去した。
【0043】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトに付して、下記式で示す化合物IIを36.7g得
た(収率58%)。化合物IIの物性を以下の表−1に
示す。
【0044】化合物II:
【0045】
【化11】
【0046】
【実施例3】温度計、攪拌機、還流冷却管および滴下漏
斗を備えた反応容器内に、p−ペルフルオロノネニルオ
キシフェニルエチルアルコール22.7g(0.04モ
ル)、無水ピロメリト酸4.4g(0.02モル)を入
れ、該混合物中へ、ピリジン10.5gを室温にて滴下
した。滴下終了後、50−55℃で4.5時間攪拌を行
った。
【0047】反応生成物をジエチルエーテル300ml
に溶かし、溶液を5%希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで飽和食塩水で洗浄し、有機層を分取し溶媒を
減圧下で加温除去した。
【0048】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトに付して、下記式で示す化合物III−aと化合物
III−bの混合物12.4gを得た(収率45%)。 化合物III−aと化合物III−bの物性を表−1に
示す。
【0049】化合物III−a
【0050】
【化12】
【0051】化合物III−b
【0052】
【化13】
【0053】
【実施例4】温度計、攪拌機および還流冷却管を備えた
反応容器内に、p−ペルフルオロノネニルオキシフェニ
ルエチルアルコール14.8g(0.03モル)、メリ
ット酸ヘキサメチル10.6g(0.02モル)、トル
エン20ml、および濃硫酸1mlを入れ、110−1
15℃で5時間加熱攪拌した。
【0054】反応生成物をベンゼン300mlに溶かし
、溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水
で洗浄し、有機層を分取し溶媒を減圧下で加温除去した
【0055】得られた粗生成物をヘキサン−ベンゼン(
9:1)で抽出し、次いでメタノールで洗浄して、下記
式で示す化合物IVを5.2g得た。化合物IVの物性
を以下の表−1に示す。
【0056】化合物IV:
【0057】
【化14】
【0058】
【表1】
【0059】
【発明の効果】本発明によって提供される含フッ素芳香
族エステルは1分子当たりのフルオロカーボン鎖を自由
に変えることができ、反応性残基(例えばカルボキシル
基)を有するので、高性能の潤滑剤、摺動剤、離型剤、
およびプラスチック、金属、木材等の表面改質剤等とし
て有用なばかりでなく、他の含フッ素エステルやアミド
等に容易に誘導可能であるので合成中間体としても有用
である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(I): 【化1】 (式中、Rfは各々同一又は異なってC6 F11また
    はC9 F17で表わされるペルフルオロアルケニル基
    を示し、Rは各々同一又は異なって水素原子または炭素
    数1〜3のアルキル基を示し、Arは置換基を有しても
    よいベンゼン環または置換基を有してもよいナフタリン
    環を示す。nは1〜8の整数を示し、mは0〜7の整数
    を示し、n+m≦8である。)で表される含フッ素芳香
    族エステル。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002501057A (ja) * 1998-01-27 2002-01-15 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー フルオロケミカルベンゾトリアゾール
WO2006021529A1 (en) * 2004-08-25 2006-03-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Surface modifiers
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TWI633084B (zh) * 2016-07-25 2018-08-21 信越化學工業股份有限公司 四羧酸二酯化合物、聚醯亞胺前驅體之聚合體及其製造方法、負型感光性樹脂組成物、圖案形成方法及硬化被膜形成方法

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