JPH04360274A - Automatic formation processing system for area pattern - Google Patents

Automatic formation processing system for area pattern

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JPH04360274A
JPH04360274A JP3135121A JP13512191A JPH04360274A JP H04360274 A JPH04360274 A JP H04360274A JP 3135121 A JP3135121 A JP 3135121A JP 13512191 A JP13512191 A JP 13512191A JP H04360274 A JPH04360274 A JP H04360274A
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JP
Japan
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area
pattern
partial
density
pattern density
Prior art date
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Application number
JP3135121A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Suehiro
末廣 明彦
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To remove the warp of a printed substrate or the ununiformity of etching by providing this automatic formation processing system with a partial area dividing step for dividing the wired area of the printed substrate, a pattern density comparing step, a pattern density adjusting step, and so on. CONSTITUTION:The partial area dividing step 1 divides the wired area of the printed substrate into plural partial areas and a pattern density calculating step 2 finds out the pattern density of each partial area. The pattern density comparing step 3 compares the found pattern density values of respective partial areas and an area pattern forming step 4 forms the area pattern of an optional net in a partial area whose pattern density is low. The pattern density adjusting means 5 adjusts the density of the formed area pattern. Consequently the pattern density of the printed substrate can be uniformed, the warp of the printed substrate or the ununiformity of etching can be removed and noise can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板の自動設
計において領域パターンを生成する方式に関し、特に基
板上の任意の層の空き領域に電源,アース等の領域パタ
ーンを自動的に入力するための領域パターン自動生成処
理方式に関するものである。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a method for generating area patterns in the automatic design of printed circuit boards, and in particular to a method for automatically inputting area patterns for power, ground, etc. into empty areas of arbitrary layers on a board. The present invention relates to an area pattern automatic generation processing method.

【0002】近年における高密度実装の要求に伴って、
同一プリント基板上に異なるテクノロジーに基づく回路
を搭載することが多くなり、そのためプリント板上の各
部において、パターン密度が異なる場合がある。例えば
、表面実装部品(SMD)が搭載された部分は一般に配
線パターン密度が高くなるが、それ以外の部品が搭載さ
れた部分は配線パターン密度がそれほど高くならない。
[0002] With the recent demand for high-density packaging,
Circuits based on different technologies are often mounted on the same printed circuit board, and as a result, pattern densities may vary in different parts of the printed circuit board. For example, the wiring pattern density is generally high in a portion where a surface mount device (SMD) is mounted, but the wiring pattern density is not so high in a portion where other components are mounted.

【0003】このように同一プリント基板上で、配線パ
ターン密度が異なる場合には、プリント板の反りや、エ
ッチングの不均一等の問題を生じやすい。
[0003] When the wiring pattern densities differ on the same printed board as described above, problems such as warping of the printed board and uneven etching are likely to occur.

【0004】これに対して、プリント基板の自動設計時
に、プリント板上の空き領域に領域パターンを生成して
、配線パターン密度を均一化することによって、上述の
ような問題を解消する、領域パターン自動生成処理方式
が要望される。
On the other hand, when automatically designing printed circuit boards, area patterns are generated in vacant areas on the printed circuit board to make the wiring pattern density uniform, thereby solving the above-mentioned problems. An automatic generation processing method is desired.

【0005】[0005]

【従来の技術】従来、プリント基板における配線パター
ン密度の違いは、一般には特に考慮されていない場合が
多い。なお一部においては、空き領域を探してネットな
し、すなわちどこにも接続されない、ダミーのパターン
を入力する方法も用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, differences in wiring pattern densities on printed circuit boards have often not been particularly considered. In some cases, a method is also used in which a dummy pattern without a net, that is, is not connected to anything, is input by searching for an empty area.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プリン
ト基板上において配線パターン密度が異なる場合には、
プリント板の反りを生じやすいという問題がある。また
配線パターン密度が異なる場合には、パターン密度の小
さい部分においてオーバーエッチングを生じ、パターン
密度の大きい部分においてアンダーエッチングを生じる
ことによって、エッチングの不均一が生じやすいという
問題がある。
[Problem to be Solved by the Invention] However, when the wiring pattern density on the printed circuit board is different,
There is a problem in that the printed board is likely to warp. Further, when the wiring pattern densities are different, there is a problem that over-etching occurs in areas where the pattern density is low, and under-etching occurs in areas where the pattern density is high, resulting in non-uniform etching.

【0007】一方、空き領域にネットなしのダミーのパ
ターンを設ける方法では、このパターンに基づいてノイ
ズが増加する場合があるという問題があった。
On the other hand, the method of providing a dummy pattern without a net in an empty area has a problem in that noise may increase based on this pattern.

【0008】本発明はこのような従来技術の課題を解決
しようとするものであって、パターン設計が完了したプ
リント基板に対して、領域パターンを自動生成すること
によって、各部のパターン密度を均一化して、プリント
板の反りやエッチングの不均一をなくすとともに、自動
生成する領域パターンをアースネットまたは電源ネット
にすることによって、従来のダミーパターンの場合と比
べてノイズを減少させて特性を向上することができる、
領域パターン自動生成処理方式を提供することを目的と
している。
[0008] The present invention aims to solve the above-mentioned problems of the prior art, and by automatically generating area patterns on a printed circuit board for which pattern design has been completed, the pattern density of each part can be made uniform. In addition to eliminating warping of printed circuit boards and non-uniform etching, by using the automatically generated area pattern as a ground net or power net, noise is reduced and characteristics are improved compared to the case of conventional dummy patterns. can,
The purpose is to provide a region pattern automatic generation processing method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に配置
した部品のランド,領域パターン,配線ライン,配線ビ
ア等の要素を有するプリント基板上に任意のネットの領
域パターンを自動生成する方式において、プリント板の
配線領域を複数の部分領域に分割する部分領域分割段階
と、各部分領域におけるパターン密度を求めるパターン
密度算定段階と、求められた各部分領域のパターン密度
を比較するパターン密度比較段階と、パターン密度の低
い部分領域内に指定ネットの領域パターンを生成する領
域パターン生成段階と、生成した領域パターンの密度を
調整するパターン密度調整段階とを備えたことを特徴と
するものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention is a method for automatically generating an arbitrary net area pattern on a printed circuit board having elements such as lands, area patterns, wiring lines, wiring vias, etc. of components placed on the board. , a partial area dividing step in which the wiring area of a printed circuit board is divided into a plurality of partial areas, a pattern density calculation step in which the pattern density in each partial area is calculated, and a pattern density comparison step in which the pattern densities of the calculated pattern densities in each partial area are compared. a region pattern generation step of generating a region pattern of a designated net in a partial region with a low pattern density, and a pattern density adjustment step of adjusting the density of the generated region pattern. .

【0010】また本発明は、上述の領域パターン生成段
階が、パターン密度の低い部分領域内において、指定ネ
ットの部品ランドまたは配線ビアを基点として、この部
分領域内における空き領域を探索することによって、こ
の空き領域内に領域パターンを生成する処理を、指定ネ
ットの部品ランドおよび配線ビア数分、規定のパターン
密度になるまで繰り返すことによって実行されることを
特徴とするものである。
The present invention also provides that the above-mentioned area pattern generation step searches for an empty area within a partial area with low pattern density using the component land or wiring via of the specified net as a base point. This method is characterized in that the process of generating an area pattern in this empty area is executed by repeating the process for the number of component lands and wiring vias of the specified net until a specified pattern density is reached.

【0011】さらにまた本発明は、上述の領域パターン
生成段階が、パターン密度の低い部分領域内において、
指定ネットの配線ラインを基点として、この部分領域内
における空き領域または配線ラインの幅を広げた領域を
探索することによって、この領域内に領域パターンを生
成する処理を、指定ネットの配線ライン数分、規定のパ
ターン密度になるまで繰り返すことによって実行される
ことを特徴とするものである。
Furthermore, the present invention provides that the above-mentioned region pattern generation step is performed in a partial region with a low pattern density.
Using the wiring line of the specified net as a base point, the process of generating an area pattern within this area by searching for an empty area or an area where the width of the wiring line is widened within this partial area is performed for the number of wiring lines of the specified net. , is characterized in that it is executed by repeating it until a prescribed pattern density is reached.

【0012】0012

【作用】図1は、本発明の原理的構成を示したものであ
る。本発明の領域パターン自動生成処理方式においては
、部分領域分割段階1において、プリント板の配線領域
を複数の部分領域に分割し、パターン密度算定段階2に
おいて、各部分領域におけるパターン密度を求め、パタ
ーン密度比較段階3において、求められた各部分領域の
パターン密度を比較し、領域パターン生成段階4におい
て、パターン密度の低い部分領域内に任意のネットの領
域パターンを生成し、パターン密度調整段階5において
、生成した領域パターンの密度を調整するようにしたの
で、プリント板のパターン密度を均一化して、プリント
板の反りやエッチングの不均一をなくすとともに、自動
生成する領域パターンをアースネットまたは電源ネット
にすることによって、ノイズを減少させて特性を向上さ
せることができる。
[Operation] FIG. 1 shows the basic structure of the present invention. In the area pattern automatic generation processing method of the present invention, in the partial area division step 1, the wiring area of the printed board is divided into a plurality of partial areas, and in the pattern density calculation step 2, the pattern density in each partial area is calculated, and the pattern In the density comparison step 3, the pattern densities of the obtained partial regions are compared, and in the region pattern generation step 4, an arbitrary net region pattern is generated within the partial region with low pattern density, and in the pattern density adjustment step 5. Since the density of the generated area pattern is adjusted, the pattern density of the printed board can be made uniform to eliminate warping of the printed board and uneven etching, and the automatically generated area pattern can be used as an earth net or power net. By doing so, it is possible to reduce noise and improve characteristics.

【0013】以下、本発明の領域パターン自動生成処理
方式を、各段階ごとに詳細に説明する。
The automatic region pattern generation processing method of the present invention will be explained in detail below at each stage.

【0014】部分領域分割段階1においては、プリント
板の配線領域(矩形または任意の多角形)を、予め定め
られた分割方法に従って、複数の部分領域に分割する。 分割方法としては、例えば2等分,3等分,4等分,6
等分,8等分,…等がある。分割の際は、通常、各部分
領域の面積が等しくなるようにする。
In partial area division step 1, the wiring area (rectangular or arbitrary polygon) of the printed board is divided into a plurality of partial areas according to a predetermined dividing method. For example, dividing into 2 equal parts, 3 equal parts, 4 equal parts, 6 equal parts, etc.
There are equal parts, 8 parts, etc. When dividing, the area of each partial region is usually made equal.

【0015】図2は、配線領域を部分領域に分割する方
法を例示したものであって、(a) は2等分の場合、
(b) は3等分の場合、(c) は4等分の場合、(
d) は6等分の場合をそれぞれ示している。
FIG. 2 shows an example of a method of dividing a wiring region into partial regions, and (a) shows the case of dividing the wiring region into two equal parts.
(b) is divided into three equal parts, (c) is divided into four equal parts, (
d) shows the case of 6 equal parts.

【0016】パターン密度算定段階2においては、部分
領域分割段階1において求められた各部分領域のパター
ン密度を求める。
In the pattern density calculation step 2, the pattern density of each partial region determined in the partial region division step 1 is determined.

【0017】図3は、パターン密度算定の手順をフロー
チャートによって示したものである。図3に示すように
、部分領域の面積を求めたのち(S1)、各部分領域内
の配線パターンの総面積、すなわち部品ランド,ライン
,ビア,領域パターンの面積の総和を求め(S2)、こ
れを部分領域の面積で割る(S3)ことによって、パタ
ーン密度〔%〕が算定される。
FIG. 3 is a flowchart showing the procedure for calculating pattern density. As shown in FIG. 3, after determining the area of the partial region (S1), the total area of the wiring pattern in each partial region, that is, the sum of the areas of component lands, lines, vias, and area patterns, is determined (S2). By dividing this by the area of the partial region (S3), the pattern density [%] is calculated.

【0018】パターン密度比較段階3においては、パタ
ーン密度算定段階2において求められた各部分領域のパ
ターン密度を比較して、どの部分領域に領域パターンを
生成するかを決定する。通常は、最も密度の高い部分領
域のパターン密度と同じになるように、その他の部分領
域に領域パターンを生成する。
In the pattern density comparison step 3, the pattern densities of the respective partial regions obtained in the pattern density calculation step 2 are compared to determine in which partial region the region pattern is to be generated. Usually, area patterns are generated in other partial areas so that the pattern density is the same as that of the partial area with the highest density.

【0019】図4は、パターン密度比較の手順をフロー
チャートによって示したものである。部分領域のパター
ン密度の比較は図4に示すように、各部分領域における
パターン密度の最大値を求めたのち(S11)、パター
ン密度が最大の部分領域以外の部分領域に、どれだけの
面積の領域パターンを追加するかを、部分領域ごとに計
算する(S12)ことによって行なわれる。
FIG. 4 is a flowchart showing the procedure for pattern density comparison. As shown in FIG. 4, the comparison of the pattern densities of the partial regions is performed by determining the maximum value of the pattern density in each partial region (S11), and then determining how much area should be added to the partial region other than the partial region with the maximum pattern density. This is done by calculating whether to add a region pattern for each partial region (S12).

【0020】領域パターン生成段階4においては、パタ
ーン密度比較段階3において求められた低密度の部分領
域内に領域パターンを生成する。領域パターンの生成は
、公知技術の領域パターン生成方法によって行なう。
In the area pattern generation step 4, an area pattern is generated within the low density partial area determined in the pattern density comparison step 3. The area pattern is generated using a known area pattern generation method.

【0021】図5は、領域パターン生成方法を示したも
のであって、図形演算によって領域パターンを求める従
来の方法を示している。すなわち、部分領域11を指定
ネットの領域パターン入力エリアとして、指定ネット以
外の要素12(ライン,ランド,ビア,領域パターン,
パターン入力禁止領域)を、電気的に必要とするクリア
ランスの分だけ拡大した図形13との差を求めて、領域
パターン14とする。
FIG. 5 shows a method of generating an area pattern, and shows a conventional method of obtaining an area pattern by graphical operations. That is, the partial area 11 is used as the area pattern input area of the specified net, and the elements 12 (lines, lands, vias, area patterns,
The area pattern 14 is obtained by determining the difference between the pattern input prohibited area) and the figure 13 which is enlarged by the electrically required clearance.

【0022】図6は、領域パターン生成の手順をフロー
チャートによって示したものである。すなわち、低密度
の部分領域内における空き領域に、前述のように公知技
術によって指定ネットの領域パターンを生成する処理を
、低密度の部分領域の数だけ繰り返すことによって、領
域パターンが生成される。
FIG. 6 is a flowchart showing the procedure for generating an area pattern. That is, the area pattern is generated by repeating the process of generating the area pattern of the specified net using the known technique as described above in the empty area in the low-density partial area by the number of low-density partial areas.

【0023】パターン密度調整段階5においては、領域
パターン生成段階4において生成された、領域パターン
の密度を部分領域ごとに調整する。すなわち、部分領域
内に領域パターンを生成したのちに、パターン密度を計
算すると、目的とするパターン密度を超過してしまう場
合があるので、この場合は、生成した領域パターンを含
む最小矩形を求めて、その面積が小さくなる順に縮小化
処理を行なう。
In the pattern density adjustment step 5, the density of the region pattern generated in the region pattern generation step 4 is adjusted for each partial region. In other words, if you calculate the pattern density after generating an area pattern within a partial area, the target pattern density may be exceeded, so in this case, calculate the minimum rectangle that includes the generated area pattern. , the reduction process is performed in order of decreasing area.

【0024】図7は、領域パターンの縮小化処理を例示
したものであって、(a) は縮小処理前の領域パター
ンを示し、ハッチング部は領域パターンを、点線はこの
領域パターンを囲む最小矩形を示している。(b) は
縮小処理を示し、実線■〜■はこの線の外側の領域パタ
ーンを削除することによって、領域パターンを縮小する
ことを示している。(c) は縮小処理後の領域パター
ンを示したものである。
FIG. 7 shows an example of the area pattern reduction process, in which (a) shows the area pattern before the reduction process, the hatched area represents the area pattern, and the dotted line represents the minimum rectangle surrounding this area pattern. It shows. (b) shows the reduction process, and the solid lines ■ to ■ indicate that the area pattern is reduced by deleting the area pattern outside this line. (c) shows the area pattern after reduction processing.

【0025】この場合、一つの領域パターンで縮小でき
る範囲を決めておき、それを超えた場合に、複数の領域
パターンがあるときは、他の領域パターンについて縮小
処理を行なうようにする。
In this case, a range that can be reduced with one area pattern is determined, and if the range is exceeded and there are multiple area patterns, reduction processing is performed on other area patterns.

【0026】図8,図9は、パターン密度調整の手順を
示すフローチャートの前半および後半を示す図である。 両図に示すように、低密度の部分領域内に生成した領域
パターンの数とそれぞれの面積と、面積の総和とを求め
(S31)、領域パターン生成後のパターン面積が最大
密度の領域のパターン面積より大きいときは(S32)
、生成領域パターンが複数のときは(S33)、面積の
大きい順にソートして(S34)、面積最大の領域パタ
ーンを処理対象とする(S35)。次に、領域パターン
を含む最小矩形を求めて(S37)、上下左右から指定
の単位長さで領域パターンを切断したと仮定して、それ
ぞれの方向から削除される面積が最小となる方向を調べ
る(S37)。そして、生成領域が複数で1領域パター
ンでの縮小可能範囲を超えたときは(S38)、次に面
積の大きい領域パターンを処理対象として処理を行なう
(S39)。このような処理を、縮小後のパターン面積
が最大密度の領域のパターン面積より小さくなるまで繰
り返して行い(S40)、低密度の部分領域の数だけ処
理したとき終了とする(S41)。
FIGS. 8 and 9 are diagrams showing the first half and the second half of a flowchart showing the pattern density adjustment procedure. As shown in both figures, the number of area patterns generated in a low-density partial area, the area of each area, and the total area are calculated (S31), and the pattern area after area pattern generation is the pattern of the area with the maximum density. If it is larger than the area (S32)
If there are multiple generated area patterns (S33), they are sorted in descending order of area (S34), and the area pattern with the largest area is targeted for processing (S35). Next, find the minimum rectangle that includes the area pattern (S37), and, assuming that the area pattern is cut by the specified unit length from the top, bottom, left, and right, check the direction in which the area to be deleted from each direction is the minimum. (S37). When the number of generated regions exceeds the reducible range of one region pattern (S38), the region pattern with the next largest area is processed (S39). Such processing is repeated until the reduced pattern area becomes smaller than the pattern area of the maximum density region (S40), and ends when the number of low density partial regions has been processed (S41).

【0027】[0027]

【実施例】図10〜図15は、本発明方式の一実施例を
示したものであって、前述の図形演算の手法によって領
域パターンを生成する単純モデルの場合を示している。
Embodiment FIGS. 10 to 15 show an embodiment of the method of the present invention, in which a simple model is used to generate an area pattern using the above-mentioned graphic operation method.

【0028】図10は、本発明の一実施例におけるプリ
ント板の分割を例示したものであって、4分割した場合
の1個の部分領域が太実線で示されている。
FIG. 10 shows an example of how a printed circuit board is divided according to an embodiment of the present invention, and one partial area when divided into four is shown by a thick solid line.

【0029】図11は、本発明の一実施例における部分
領域の例を示したものである。このような各部分領域に
ついて、配線密度の計算を行なう。配線密度の計算は前
述のように、ランド,ライン,ビア,領域パターンの面
積の総和を、部分領域の面積で割ることによって求めら
れる。図中、□,■は部品接続取り付け用のランド、○
,●は層間接続用のビア(中継孔)を示し、●,■は指
定ネット、○,□は指定ネット以外のネットを示してい
る。ここで指定ネットは、同電位(指定電位)の部分を
示している。また実線は、ライン(配線)を示している
FIG. 11 shows an example of partial areas in one embodiment of the present invention. The wiring density is calculated for each such partial region. As described above, the wiring density is calculated by dividing the total area of the land, line, via, and region pattern by the area of the partial region. In the figure, □, ■ are lands for connecting and installing parts, ○
, ● indicate vias (relay holes) for interlayer connection, ● and ■ indicate specified nets, and ○ and □ indicate nets other than the specified nets. Here, the designated net indicates a portion at the same potential (designated potential). Further, solid lines indicate lines (wiring).

【0030】図12は、本発明の一実施例における領域
パターンの生成を示したものである。図中、斜線を施し
て示す部分21,22,23,24は、生成された領域
パターンを示している。このようにして領域パターンを
生成された各部分領域について、パターン密度の比較を
行なう。
FIG. 12 shows the generation of area patterns in one embodiment of the present invention. In the figure, hatched portions 21, 22, 23, and 24 indicate generated area patterns. Comparison of pattern densities is performed for each partial region whose region pattern has been generated in this manner.

【0031】図13は、本発明の一実施例における孤立
領域パターンの削除を示したものである。配線密度の計
算の結果、目標とする配線密度を超えている場合は、指
定ネットと接続できない孤立領域パターンを削除する。 この場合、領域パターンの削除ごとに配線密度を計算し
て、比較を行なう必要がある。図13においては、図1
2に示された領域パターン23,24が削除されたこと
が示されている。
FIG. 13 shows deletion of an isolated area pattern in one embodiment of the present invention. If the calculated wiring density exceeds the target wiring density, the isolated area pattern that cannot be connected to the specified net is deleted. In this case, it is necessary to calculate and compare the wiring density each time a region pattern is deleted. In Figure 13, Figure 1
It is shown that the area patterns 23 and 24 shown in No. 2 have been deleted.

【0032】図14は、本発明の一実施例における領域
縮小処理を示したものである。孤立パターンを削除した
図13の領域パターンのうちの最大の領域パターン21
について、図14において点線で示すように最小矩形を
求めて、この矩形内において、■〜■に示すように矩形
の外側から一定の値ずつ削除する。削除は上下左右の4
方向から、次第に内側へ削るようにする。図14は、削
除する領域が小さい順になるように制御する場合を示し
ている。
FIG. 14 shows area reduction processing in one embodiment of the present invention. The largest area pattern 21 of the area patterns in FIG. 13 with isolated patterns removed
, the minimum rectangle is found as shown by the dotted line in FIG. 14, and within this rectangle, certain values are deleted from the outside of the rectangle as shown by ■ to ■. Delete 4 up, down, left, and right
Start from the opposite direction and gradually scrape inward. FIG. 14 shows a case where control is performed so that the areas to be deleted are arranged in descending order.

【0033】図15は、本発明の一実施例における領域
縮小処理後の領域パターンを示したものであって、(a
) は図14における■の削除処理後の領域パターン、
(b) は図14における■の削除処理後の領域パター
ン、(b) は図14における■の削除処理後の領域パ
ターンをそれぞれ示している。
FIG. 15 shows a region pattern after region reduction processing according to an embodiment of the present invention.
) is the area pattern after deletion processing of ■ in Fig. 14,
(b) shows the area pattern after the deletion process of ■ in FIG. 14, and (b) shows the area pattern after the deletion process of ■ in FIG. 14, respectively.

【0034】このような領域パターンの削除を行なうと
きは、領域パターンが同じネットの要素から孤立しない
ように制御する。ただし、指定ネットと同じネットのラ
インは、領域に含んでもよい。
When deleting such a region pattern, control is performed so that the region pattern is not isolated from elements of the same net. However, lines of the same net as the designated net may be included in the area.

【0035】図16〜図19は、本発明方式の他の実施
例を示したものであって、部分領域内の指定ネットの部
品ランドまたはビアを基点として、空き領域を検索して
領域パターンを生成することによって、孤立パターンの
発生を防止する場合を示している。
FIGS. 16 to 19 show another embodiment of the method of the present invention, in which an area pattern is created by searching for an empty area using a component land or via of a specified net in a partial area as a base point. This shows a case in which the generation of isolated patterns is prevented by generating them.

【0036】図16は、本発明の他の実施例における部
分領域の例を示したものである。このような各部分領域
について、前述のように配線密度の計算を行なう。図中
、★で示す31は、指定ネットの注目ランドまたはビア
を示している。
FIG. 16 shows an example of partial areas in another embodiment of the present invention. For each such partial area, the wiring density is calculated as described above. In the figure, 31 indicated by a star indicates a land or via of interest of the designated net.

【0037】図17は、領域パターンの生成を示したも
のである。この場合は、注目ランドまたはビア31から
検索を開始し、部分領域の境界または他ネットを障害物
とみなして、これに行き当たったときは、規定方向に9
0°回転して検索を行なう処理を繰り返すことによって
空き領域を検索して、検索された空き領域に領域パター
ンを生成する。この場合、障害物に行き当たったときは
その障害物に沿って検索を行なうように制御を行なうと
ともに、障害物の周囲では障害物から一定のクリアラン
スを設けるようにする。同一ネットのランドおよびビア
は通常、障害物と同様に扱うが、同一ネットのラインは
障害物とみなさない。形成された領域パターンの内部に
他ネットのランドまたはビアが含まれるときは、その周
囲にクリアランスを設定する打抜きの処理を行なう。こ
のようにして、斜線を施して示す領域パターン32を生
成する。
FIG. 17 shows the generation of area patterns. In this case, start the search from the land or via 31 of interest, consider the boundary of the partial area or other nets as obstacles, and when you come across this, move 90 degrees in the specified direction.
An empty area is searched for by repeating the process of performing a search with 0° rotation, and an area pattern is generated in the searched empty area. In this case, when an obstacle is encountered, control is performed so that the search is performed along the obstacle, and a certain clearance from the obstacle is provided around the obstacle. Lands and vias of the same net are usually treated like obstacles, but lines of the same net are not considered obstacles. When lands or vias of other nets are included in the formed area pattern, a punching process is performed to set a clearance around the lands or vias. In this way, a region pattern 32 shown with diagonal lines is generated.

【0038】図18は、本発明の他の実施例における他
の領域パターンの生成を示したものである。この場合は
、★で示す指定ネットの注目ランドまたはビア33から
、同様に他ネットを障害物とみなして避けて検索するこ
とによって、斜線を施して示す領域パターン34を生成
する。この場合は、既に生成された領域パターンがある
場合、これと接続されている方向へは、探索を行なわな
い。
FIG. 18 shows the generation of another area pattern in another embodiment of the present invention. In this case, an area pattern 34 shown with diagonal lines is generated by searching from the noted land or via 33 of the designated net indicated by ★ while avoiding other nets by regarding them as obstacles. In this case, if there is an already generated area pattern, the search is not performed in the direction connected to this area pattern.

【0039】図19は、本発明の他の実施例における全
領域パターンの検索終了時を示したものであって、領域
パターン32,34が生成されたことが示されている。 なお、このような領域パターンの生成方法については、
特願昭61−255172(特開昭63−108466
),特願昭62−49188(特開昭63−21617
6)に詳細に記載されている。
FIG. 19 shows the end of the search for all area patterns in another embodiment of the present invention, and shows that area patterns 32 and 34 have been generated. For information on how to generate such area patterns, see
Patent application No. 61-255172 (Unexamined patent application No. 63-108466)
), Japanese Patent Application No. 62-49188 (Japanese Patent Application No. 63-21617)
6) is described in detail.

【0040】図20〜図24は、本発明方式のさらに他
の実施例を示したものであって、分割領域内の指定ネッ
トのラインを基点として、空き領域を検索して領域パタ
ーンを生成する場合を示している。
FIGS. 20 to 24 show still another embodiment of the method of the present invention, in which an area pattern is generated by searching for an empty area using the designated net line in the divided area as a base point. It shows the case.

【0041】図20は、本発明のさらに他の実施例にお
ける部分領域の例を示したものである。このような各部
分領域について、前述のようにして配線密度の計算を行
なう。図中、実線41,42は指定ネットのラインを示
している。
FIG. 20 shows an example of partial areas in still another embodiment of the present invention. For each such partial area, the wiring density is calculated as described above. In the figure, solid lines 41 and 42 indicate designated net lines.

【0042】図21は、本発明のさらに他の実施例にお
ける領域パターンの生成を示したものであって、ライン
41,42から前述と同様の方法によって空き領域を検
索することによって、領域パターン43を生成すること
が示されている。この例では、部分領域の配線密度の計
算結果、目標とする配線密度を超えているので、領域パ
ターンの削除が必要となる。
FIG. 21 shows the generation of an area pattern in still another embodiment of the present invention, in which an area pattern 43 is created by searching for an empty area from lines 41 and 42 in the same manner as described above. has been shown to generate. In this example, the calculation result of the wiring density of the partial area exceeds the target wiring density, so it is necessary to delete the area pattern.

【0043】図22は、本発明のさらに他の実施例にお
ける部分領域の他の例を示したものである。この場合は
、配線密度が高く、上述のように空き領域に領域パター
ンを生成する方法を用いることができないので、指定ネ
ットのラインの幅を広げることによって、領域パターン
を生成する。
FIG. 22 shows another example of partial areas in still another embodiment of the present invention. In this case, the wiring density is high and the method of generating an area pattern in a vacant area as described above cannot be used, so the area pattern is generated by widening the line width of the designated net.

【0044】図23は、本発明のさらに他の実施例にお
ける領域パターンの生成を示したものであって、図22
に示された部分領域における指定ネットのライン44,
45の幅を広げて領域パターン46,47を生成するこ
とが示されている。この場合は、目標とする配線密度を
超えていない。
FIG. 23 shows generation of area patterns in still another embodiment of the present invention, and FIG.
The line 44 of the specified net in the partial region shown in
It is shown that the width of 45 is widened to generate area patterns 46 and 47. In this case, the target wiring density is not exceeded.

【0045】図24は、本発明のさらに他の実施例にお
ける領域パターンの生成の他の例を示したものである。 この場合は、領域パターンの生成を、ラインの周りに限
定した場合を示している。図中、領域パターン48,4
9は、指定ネットのライン44,45の周りに限定して
生成された領域パターンを示している。この場合も同様
に、目標とする配線密度を超えていない。
FIG. 24 shows another example of region pattern generation in still another embodiment of the present invention. This case shows a case where the generation of the area pattern is limited to the area around the line. In the figure, area patterns 48, 4
9 shows an area pattern generated exclusively around the lines 44 and 45 of the designated net. In this case as well, the target wiring density is not exceeded.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、プ
リント基板上の任意の層に電源,アース等の領域パター
ンを入力する際に、分割された各部分領域について、パ
ターン密度をほぼ均一にすることができ、従ってプリン
ト板の反りやエッチングの不均一を除去することができ
るので、プリントの品質を向上し歩留りをよくすること
ができるとともに、ノイズを減少させることが可能とな
る。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, when inputting area patterns for power, ground, etc. to any layer on a printed circuit board, the pattern density is almost uniform for each divided partial area. Therefore, it is possible to eliminate warping of the printed board and non-uniformity of etching, thereby improving print quality and yield, as well as reducing noise.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の原理的構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the basic configuration of the present invention.

【図2】配線領域を部分領域に分割する方法を例示する
図であって、(a) は2等分の場合、(b) は3等
分の場合、(c) は4等分の場合、(d) は6等分
の場合をそれぞれ示す。
FIG. 2 is a diagram illustrating a method of dividing a wiring area into partial areas, in which (a) is a case where the area is divided into two equal parts, (b) is a case where it is divided into three equal parts, and (c) is a case where it is divided into four equal parts. , (d) respectively show the case of 6 equal divisions.

【図3】パターン密度算定の手順をフローチャートによ
って示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a procedure for pattern density calculation using a flowchart.

【図4】パターン密度比較の手順をフローチャートによ
って示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a procedure for pattern density comparison using a flowchart.

【図5】領域パターンの生成方法を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a region pattern generation method.

【図6】領域パターン生成の手順をフローチャートによ
って示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a procedure for region pattern generation using a flowchart.

【図7】領域パターンの縮小化処理を例示する図であっ
て、(a) は縮小処理前の領域パターンを示し、(b
) は縮小処理を示し、(c) は縮小処理後の領域パ
ターンを示す。
FIG. 7 is a diagram illustrating area pattern reduction processing, in which (a) shows the area pattern before reduction processing, and (b)
) shows the reduction process, and (c) shows the area pattern after the reduction process.

【図8】パターン密度調整の手順を示すフローチャート
の前半を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the first half of a flowchart showing a procedure for adjusting pattern density.

【図9】パターン密度調整の手順を示すフローチャート
の後半を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing the second half of a flowchart showing a procedure for adjusting pattern density.

【図10】本発明の一実施例におけるプリント板の分割
を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing division of a printed board in an embodiment of the present invention.

【図11】本発明の一実施例における部分領域の例を示
す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an example of a partial area in an embodiment of the present invention.

【図12】本発明の一実施例における領域パターンの生
成を示す図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating generation of area patterns in one embodiment of the present invention.

【図13】本発明の一実施例における孤立領域パターン
の削除を示す図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating deletion of an isolated area pattern in an embodiment of the present invention.

【図14】本発明の一実施例における領域縮小処理を示
す図である。
FIG. 14 is a diagram showing area reduction processing in an embodiment of the present invention.

【図15】本発明の一実施例における領域縮小処理後の
領域パターンを示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a region pattern after region reduction processing in an embodiment of the present invention.

【図16】本発明の他の実施例における部分領域の例を
示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing an example of a partial area in another embodiment of the present invention.

【図17】本発明の他の実施例における領域パターンの
生成を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing generation of area patterns in another embodiment of the present invention.

【図18】本発明の他の実施例における他の領域パター
ンの生成を示す図である。
FIG. 18 is a diagram illustrating generation of another area pattern in another embodiment of the present invention.

【図19】本発明の他の実施例における全領域パターン
の検索終了時を示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing the end of searching all area patterns in another embodiment of the present invention.

【図20】本発明のさらに他の実施例における部分領域
の例を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing an example of a partial area in still another embodiment of the present invention.

【図21】本発明のさらに他の実施例における領域パタ
ーンの生成を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing generation of area patterns in still another embodiment of the present invention.

【図22】本発明のさらに他の実施例における部分領域
の他の例を示す図である。
FIG. 22 is a diagram showing another example of a partial area in still another embodiment of the present invention.

【図23】本発明のさらに他の実施例における領域パタ
ーンの生成を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing generation of area patterns in still another embodiment of the present invention.

【図24】本発明のさらに他の実施例における領域パタ
ーンの生成の他の例を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing another example of region pattern generation in still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  部分領域分割段階 2  パターン密度算定段階 3  パターン密度比較段階 4  領域パターン生成段階 5  パターン密度調整段階 1 Partial region division step 2 Pattern density calculation stage 3 Pattern density comparison stage 4 Area pattern generation stage 5 Pattern density adjustment stage

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  基板上に配置した部品のランド,領域
パターン,配線ライン,配線ビア等の要素を有するプリ
ント基板上に任意のネットの領域パターンを自動生成す
る方式において、プリント板の配線領域を複数の部分領
域に分割する部分領域分割段階(1)と、該各部分領域
におけるパターン密度を求めるパターン密度算定段階(
2)と、該求められた各部分領域のパターン密度を比較
するパターン密度比較段階(3)と、パターン密度の低
い部分領域内に指定ネットの領域パターンを生成する領
域パターン生成段階(4)と、該生成した領域パターン
の密度を調整するパターン密度調整段階(5)とを備え
たことを特徴とする領域パターン自動生成処理方式。
Claim 1: A method for automatically generating an arbitrary net area pattern on a printed circuit board having elements such as lands, area patterns, wiring lines, wiring vias, etc. of components placed on the board. A partial area dividing step (1) of dividing the partial area into a plurality of partial areas, and a pattern density calculation step (1) of calculating the pattern density in each partial area.
2), a pattern density comparison step (3) of comparing the pattern densities of each of the obtained partial regions, and a region pattern generation step (4) of generating a designated net region pattern in the partial region with low pattern density. , a pattern density adjustment step (5) of adjusting the density of the generated area pattern.
【請求項2】  前記領域パターン生成段階(4)が、
パターン密度の低い部分領域内において、指定ネットの
部品ランドまたは配線ビアを基点として該部分領域内に
おける空き領域を探索することによって該空き領域内に
領域パターンを生成する処理を、指定ネットの部品ラン
ドおよび配線ビア数分、規定のパターン密度になるまで
繰り返すことによって実行されることを特徴とする請求
項1に記載の領域パターン自動生成処理方式。
2. The area pattern generation step (4) comprises:
In a partial area with low pattern density, a process of generating an area pattern in the empty area by searching for an empty area in the partial area using the component land or wiring via of the specified net as a base point is performed. 2. The area pattern automatic generation processing method according to claim 1, wherein the area pattern automatic generation processing method is executed by repeating the process for the number of wiring vias until a predetermined pattern density is reached.
【請求項3】  前記領域パターン生成段階(4)が、
パターン密度の低い部分領域内において、指定ネットの
配線ラインを基点として該部分領域内における空き領域
または該配線ラインの幅を広げた領域を探索することに
よって該領域内に領域パターンを生成する処理を、指定
ネットの配線ライン数分、規定のパターン密度になるま
で繰り返すことによって実行されることを特徴とする請
求項1に記載の領域パターン自動生成処理方式。
3. The area pattern generation step (4) comprises:
A process of generating an area pattern within a partial area with low pattern density by searching for an empty area within the partial area or an area where the width of the wiring line is widened using the wiring line of the specified net as a base point. 2. The area pattern automatic generation processing method according to claim 1, wherein the area pattern automatic generation processing method is executed by repeating the process for the number of wiring lines of the designated net until a prescribed pattern density is reached.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7222316B2 (en) 2004-08-11 2007-05-22 Fujitsu Limited Board design aiding apparatus, board design aiding method and board design aiding program
JP2007258331A (en) * 2006-03-22 2007-10-04 Denso Corp Design support device and method for multilayer substrate

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