JPH04356470A - ３−ベンジルオキシアルカン酸誘導体、その製造法及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な３−ベンジルオ
キシアルカン酸誘導体を有効成分とする除草剤に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術の説明】これまでに、農作業の省力化、農
産物の生産性の向上を図るために多くの除草剤が開発さ
れている。しかし、従来の除草剤は、ダイズなどの作物
に対する選択的除草効果が十分とは言えず、また、生物
に対する安全性に関する問題を十分に満足させていると
も言い難い。そこで、これらの課題を解決するために、
新規な除草剤の開発が望まれている。本発明の３−ベン
ジルオキシアルカン酸誘導体は新規化合物であり、その
除草効果は知られていなかった。

【０００３】

【発明が解決すべき課題】本発明の目的は、新規な３−
ベンジルオキシアルカン酸誘導体、その製造法及びそれ
を有効成分とする除草剤を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の問
題点を解決するために鋭意研究した結果、新規な３−ベ
ンジルオキシアルカン酸誘導体が、ダイズなどの作物に
対して優れた選択的除草効果を示すことを見出し、本発
明を完成させるに至った。即ち、本発明は次の通りであ
る。第１の発明は、次式：

【０００５】

【化７】

【０００６】（式中、Ｒ１は水素原子，低級アルキル基
，低級アルコキシ基，ハロゲン原子，ニトロ基，シアノ
基，ハロ低級アルキル基，低級アルキルチオ基又は低級
アルキルスルホニル基を表し；Ｒ２，Ｒ３又はＲ４は各
々独立しては水素原子又は低級アルキル基を表し；Ｒ５
は低級アルキル基又は低級アルコキシ基を表し；Ｒ６は
低級アルコキシ基を表し；Ｘは酸素原子又は硫黄原子を
表し；ｎは１〜５の整数を表す。）で示される３−ベン
ジルオキシアルカン酸誘導体に関するものである。第２
の発明は、次式：

【０００７】

【化８】

【０００８】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｘ及び
ｎは前記の記載と同義である。）で示される化合物と次
式：

【０００９】

【化９】

【００１０】（式中、Ｒ５及びＲ６は前記の記載と同義
である。）で示される化合物とを反応させることを特徴
とする前記の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオキシア
ルカン酸誘導体の製造法に関するものである。第３の発
明は、次式：

【００１１】

【化１０】

【００１２】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は前記
の記載と同義であり、Ｒ７は低級アルキル基，置換フェ
ニル基又はハロ低級アルキル基を表す。）で示される化
合物と次式：

【００１３】

【化１１】

【００１４】（式中、Ｒ５及びＲ６は前記の記載と同義
である。）で示される化合物とを反応させることを特徴
とする前記の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオキシア
ルカン酸誘導体の製造法に関するものである。第４の発
明は、次式：

【００１５】

【化１２】

【００１６】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，
Ｒ６及びｎは前記の記載と同義であり、Ｒ８は低級アル
キル基を表す。）で示される化合物を加水分解すること
を特徴とする前記の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオ
キシアルカン酸誘導体の製造法に関するものである。第
５の発明は、前記の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオ
キシアルカン酸誘導体を有効成分とする除草剤に関する
ものである。

【００１７】以下、本発明を詳細に説明する。前記の目
的化合物である新規な３−ベンジルオキシアルカン酸誘
導体（Ｉ）、その製造原料である（ＩＩ）〜（ＶＩ）の
化合物において、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６
，Ｒ７，Ｒ８，Ｘ及びｎは次の通りである。

【００１８】Ｒ１としては、水素原子，低級アルキル基
，低級アルコキシ基，ハロゲン原子，ニトロ基，シアノ
基，ハロ低級アルキル基，低級アルキルチオ基，低級ア
ルキルスルホニル基などを挙げることができ；低級アル
キル基，低級アルコキシ基，ハロ低級アルキル基，低級
アルキルチオ基，低級アルキルスルホニル基などにおけ
る炭素原子数としては、好ましくは直鎖状又は分岐状で
１〜６、さらに好ましくは１〜４（例えば、メチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，ｉ−プロピル基，ｎ−ブチ
ル基，ｉ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔ−ブチル基
など）がよく；ハロゲン原子又はハロ低級アルキル基に
おけるハロゲン（例えば、フッ素原子，塩素原子，臭素
原子，ヨウ素原子など）としては、好ましくはフッ素原
子，塩素原子がよい。

【００１９】Ｒ２，Ｒ３又はＲ４としては、水素原子，
低級アルキル基などを挙げることができ；低級アルキル
基の炭素原子数としては、直鎖状又は分岐状で１〜６が
よく、好ましくは１〜４（例えば、前記に記載の１〜４
のもの）がよいが；さらに好ましい低級アルキル基とし
ては、Ｒ２及びＲ３ではメチル基がよく，Ｒ４ではエチ
ル基がよい。

【００２０】Ｒ５としては、低級アルキル基，低級アル
コキシ基などを挙げることができ；低級アルキル基，低
級アルコキシ基などにおける炭素原子数としては、直鎖
状又は分岐状で１〜６がよく、好ましくは１〜４（例え
ば、前記に記載の１〜４のもの）がよいが；さらに好ま
しい低級アルキル基としては、メチル基がよく；さらに
好ましい低級アルコキシ基としてはメトキシ基がよい。

【００２１】Ｒ６としては、低級アルコキシ基などを挙
げることができ；炭素原子数としては、直鎖状又は分岐
状で１〜６がよく、好ましくは１〜４（例えば、前記に
記載の１〜４のもの）がよいが；さらに好ましくは、メ
トキシ基がよい。

【００２２】Ｒ７としては、低級アルキル基，置換フェ
ニル基，ハロ低級アルキル基などを挙げることができ；
低級アルキル基における炭素原子数としては直鎖状又は
分岐分岐状で１〜６がよく、好ましくは１〜４（例えば
、前記に記載の１〜４のもの）がよいが；さらに好まし
くは、メチル基がよく；置換フェニル基の置換基として
は低級アルキル基がよい〔この低級アルキル基における
炭素原子数としては直鎖状又は分岐分岐状で１〜６がよ
く、好ましくは１〜４（例えば、前記に記載の１〜４の
もの）がよいが；さらに好ましくは、メチル基がよい〕
。

【００２３】Ｒ８としては、低級アルキル基（例えば、
前記に記載の１〜４のもの）などを挙げることができる
。

【００２４】Ｘとしては、酸素原子，硫黄原子などを挙
げることができる。ｎとしては、１〜５の整数を挙げる
ことができるが；好ましくは１又は２がよい。

【００２５】目的化合物である新規な３−ベンジルオキ
シアルカン酸誘導体（Ｉ）としては、不斉炭素原子に基
づく光学異性体も挙げることができる。化合物（Ｉ）は
、例えば、以下に示す製造法１〜３によって製造するこ
とができる。

【００２６】（製造法１）

【００２７】

【化１３】

【００２８】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，
Ｒ６，Ｘ及びｎは前記の記載と同義である。）化合物（
Ｉ）は、通常、原料化合物（ＩＩ）と原料化合物（ＩＩ
Ｉ）とを溶媒中で塩基存在下に反応させることによって
製造するのが好ましい。

【００２９】化合物（ＩＩ）は、Ｘが酸素原子の場合に
は、例えば、〔Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔｅ
ｒ　　Ｎｏ．３６　　３７６１頁（１９７２年）〕又は
〔Ｏｒｇ．Ｓｙｎ．　　ＩＶ　　４５９頁〕に記載され
た方法によって製造したエポキシアルカン酸エステル類
を、以下に示すようにアルコール中で、酸触媒（硫酸，
パラトルエンスルホン酸等）で反応させることによって
容易に製造することができる。

【００３０】

【化１４】

【００３１】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ８は前記
の記載と同義である。）また、化合物（ＩＩ）は、Ｘが
イオウ原子の場合には、例えば、以下に示すように化合
物（ＩＶ）を極性溶媒中で水硫化ナトリウムと反応させ
ることによって容易に製造することができる。

【００３２】化合物（ＩＩ）としては、例えば、表１〜
１０中に示した化合物番号１，３，６１１，１４，１６
，１８，２０，２２，２４，２６，２８，３０，３２，
３６，３９，４２，４５，４７，５１，５４，５６，５
９，６３，７３に対応した各置換基の種類からなる各化
合物〔各々、化合物（ＩＩ）１，（ＩＩ）３，（ＩＩ）
６，（ＩＩ）１１，（ＩＩ）１４，（ＩＩ）１６，（Ｉ
Ｉ）１８，（ＩＩ）２０，（ＩＩ）２２，（ＩＩ）２４
，（ＩＩ）２６，（ＩＩ）２８，（ＩＩ）３０，（ＩＩ
）３２，（ＩＩ）３６，（ＩＩ）３９，（ＩＩ）４２，
（ＩＩ）４５，（ＩＩ）４７，（ＩＩ）５１，（ＩＩ）
５４，（ＩＩ）５６，（ＩＩ）５９，（ＩＩ）６３，（
ＩＩ）７３と称する。〕を挙げることできる〔例えば、
化合物番号１に対応した化合物（ＩＩ）を化合物（ＩＩ
）１と称す。そして、この化合物（ＩＩ）１とは化合物
（ＩＩ）における（Ｒ１）ｎ，Ｒ２及びＲ３がＨ、Ｒ４
がＣ２Ｈ５、ＸがＯを意味する。〕。化合物（ＩＩＩ）
は、例えば、特開昭６３−２３８７０に記載の方法に準
じて容易に製造することができる。

【００３３】化合物（ＩＩＩ）としては、例えば、表１
〜１０中に示した化合物番号１，３，６１１，１４，１
６，１８，２０，２２，２４，２６，２８，３０，３２
，３６，３９，４２，４５，４７，５１，５４，５６，
５９，６３，７３に対応した各置換基の種類からなる各
化合物〔各々、化合物（ＩＩＩ）１，（ＩＩＩ）３，（
ＩＩＩ）６，（ＩＩＩ）１１，（ＩＩＩ）１４，（ＩＩ
Ｉ）１６，（ＩＩＩ）１８，（ＩＩＩ）２０，（ＩＩＩ
）２２，（ＩＩＩ）２４，（ＩＩＩ）２６，（ＩＩＩ）
２８，（ＩＩＩ）３０，（ＩＩＩ）３２，（ＩＩＩ）３
６，（ＩＩＩ）３９，（ＩＩＩ）４２，（ＩＩＩ）４５
，（ＩＩＩ）４７，（ＩＩＩ）５１，（ＩＩＩ）５４，
（ＩＩＩ）５６，（ＩＩＩ）５９，（ＩＩＩ）６３，（
ＩＩＩ）７３と称する。〕を挙げることできる〔例えば
、化合物番号１に対応した化合物（ＩＩＩ）を化合物（
ＩＩＩ）１と称す。そして、この化合物（ＩＩＩ）１と
は化合物（ＩＩＩ）におけるＲ５及びＲ６がＯＣＨ３で
あることを意味する。〕。

【００３４】溶媒としては、本反応に直接関与しないも
のであれば特に限定されず、例えば、アセトン．メチル
エチルケトン．メチルイソブチルケトンなどのケトン類
；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノ
ン，ジメチルスルホキシドなどの双極性非プロトン溶媒
；水；前記溶媒の混合物などを挙げることができる。

【００３５】塩基としては、例えば、トリエチルアミン
、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンなどのような有
機塩基；ナトリウムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化ナト
リウムなどの無機塩基などを挙げることができる。

【００３６】化合物（Ｉ）の製造法は、反応濃度が５〜
１００％で行うことができる。その製造法において、原
料化合物（ＩＩ）と（ＩＩＩ）とを用いる割合は、原料
化合物（ＩＩ）１モルに対して、原料化合物（ＩＩＩ）
０．５〜２モルの割合で加えることがでるが、好ましく
は１〜１．５モルがよい。

【００３７】その反応温度は、使用する溶媒の沸点以下
で行う限り特に限定されないが、１０〜１００℃、好ま
しくは３０〜６０℃がよい。

【００３８】その反応時間は、前記の濃度、温度によっ
て変化するが、通常１〜１２時間で行うことができる。 化合物（Ｉ）としては、例えば、表１〜１０中に示した
化合物番号１〜７４に対応した各置換基の種類からなる
各化合物〔化合物１〜７４と称する。〕を挙げることで
きる〔例えば、化合物番号１に対応した化合物（Ｉ）を
化合物１と称す。そして、この化合物１とは化合物（Ｉ
）における（Ｒ１）ｎ，Ｒ２及びＲ３がＨ、Ｒ４がＣ２
Ｈ５、Ｒ５及びＲ６がＯＣＨ３、ＸがＯを意味する。〕
。

【００３９】（製造法２）

【００４０】

【化１５】

【００４１】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，
Ｒ６，Ｒ７及びｎは前記の記載と同義である。）化合物
（Ｉ）は、製造法１において、原料化合物の（ＩＩ）の
かわりに（ＩＶ）を用い、原料化合物の（ＩＩＩ）のか
わりに（Ｖ）を用いて、同様に反応させることによって
得ることができる。

【００４２】化合物（ＩＶ）は、例えば、以下に示すよ
うに化合物（ＩＩ）とスルホニルクロライドとを適当な
溶媒中、塩基触媒の存在下で反応することによって容易
に製造することができる。

【００４３】

【化１６】

【００４４】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ７及
びｎは前記の記載と同義である。）

【００４５】化合物（ＩＶ）としては、例えば、表１〜
１０中に示した化合物番号３８，４９，５０に対応した
各置換基の種類からなる各化合物〔各々、化合物（ＩＶ
）３８，（ＩＶ）４９，（ＩＶ）５０と称する。〕を挙
げることできる〔例えば、化合物番号５０に対応した化
合物（ＩＶ）を化合物（ＩＶ）５０と称す。そして、こ
の化合物（ＩＶ）５０とは化合物（ＩＶ）における（Ｒ
１）ｎが２−Ｃｌ、Ｒ２，Ｒ３及びＲ４がＨ、Ｒ７がパ
ラトルエンであることを意味する。〕。

【００４６】化合物（Ｖ）は、例えば、化合物（ＩＩＩ
）を、次に示すように水又はアルコール中で水硫化ナト
リウムを加えて加熱攪拌することによって容易に製造す
ることができる。

【００４７】

【化１７】

【００４８】（式中、Ｒ４及びＲ５は前記の記載と同義
である。）

【００４９】化合物（Ｖ）としては、例えば、表１〜１
０中に示した化合物番号３８，４９５０に対応した各置
換基の種類からなる各化合物〔各々、化合物（Ｖ）３８
，（Ｖ）４９，（Ｖ）５０と称する。〕を挙げることで
きる〔例えば、化合物番号５０に対応した化合物（Ｖ）
を化合物（Ｖ）５０と称す。そして、この化合物（Ｖ）
５０とは化合物（Ｖ）におけるＲ５及びＲ６がＯＣＨ３
であることを意味する。〕。

【００５０】溶媒，塩基，反応温度，反応時間は、製造
法１に記載したものを使用して反応させることができる
。（製造法３）

【００５１】

【化１８】

【００５２】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ８及びｎは前記の記載と同義である。）化合物（Ｉ）
は、化合物（ＶＩ）を溶媒中、塩基存在下で反応させる
ことによって得ることができる。

【００５３】化合物（ＶＩ）としては、例えば、表１〜
１０中に示した化合物番号２，７，１０１２，１５，１
７，１９，２１，２３，２５，２７，２９，３１，３３
，３４，３５，３７，４０，４１，４３，４４，４６，
４８，５２，５３，５５，５７，５８，６０，６１，６
２，６４，６５，６６，７２，７４に応した各置換基の
種類からなる各化合物〔各々、化合物（ＶＩ）２，（Ｖ
Ｉ）７，（ＶＩ）１０，（ＶＩ）１２，（ＶＩ）１５，
（ＶＩ）１７，（ＶＩ）１９，（ＶＩ）２１，（ＶＩ）
２３，（ＶＩ）２５，（ＶＩ）２７，（ＶＩ）２９，（
ＶＩ）３１，（ＶＩ）３３，（ＶＩ）３４，（ＶＩ）３
５，（ＶＩ）３７，（ＶＩ）４０，（ＶＩ）４１，（Ｖ
Ｉ）４３，（ＶＩ）４４，（ＶＩ）４６，（ＶＩ）４８
，（ＶＩ）５２，（ＶＩ）５３，（ＶＩ）５５，（ＶＩ
）５７，（ＶＩ）５８，（ＶＩ）６０，（ＶＩ）６１，
（ＶＩ）６２，（ＶＩ）６４，（ＶＩ）６５，（ＶＩ）
６６，（ＶＩ）７２，（ＶＩ）７４と称する。〕を挙げ
ることできる〔例えば、化合物番号２に対応した化合物
（ＶＩ）を化合物（ＶＩ）２と称す。そして、この化合
物（ＶＩ）２とは化合物（ＶＩ）における（Ｒ１）ｎ，
Ｒ２及びＲ３がＨ、Ｒ５及びＲ６がＯＣＨ３、Ｒ８がＣ
２Ｈ５であることを意味する。〕。

【００５４】溶媒としては、本反応に直接関与しないも
のであれば特に限定されず、例えば、アセトン．メチル
エチルケトン．メチルイソブチルケトンなどのケトン類
；メタノール，エタノールなどのアルコール類；テトラ
ヒドロフラン，１，４−ジオキサンなどのエーテル類；
水；前記溶媒の混合物などを挙げることができる。

【００５５】塩基としては、水酸化ナトリウム，水酸化
カリウムなどを挙げることができる。

【００５６】化合物（Ｉ）の製造法は、反応濃度が５〜
１００％で行うことができる。

【００５７】その反応温度は、使用する溶媒の沸点以下
で行う限り特に限定されないが、１０〜７０℃、好まし
くは２０〜５０℃がよい。

【００５８】その反応時間は、前記の濃度、温度によっ
て変化するが、通常０．５〜１２時間で行うことができ
る。

【００５９】化合物（Ｉ）を有効成分とする除草剤は、
ダイズなどに高い選択性を有し，かつ優れた除草効果を
示すものである。即ち、本発明の除草剤は、水田，畑等
に発生する一年生雑草及び多年生雑草に対して優れた除
草効果を示し、その除草効果は、特に、一年生の禾本科
雑草（例えば、メヒシバ，ノビエ，エノコログサなど）
、一年生の広葉雑草（例えば、アサガオ，シロザ，イヌ
ビユ，イチビなど）及び多年生雑草（例えば、ホタルイ
，ウリカワ，ジヨンソンラスなど）で顕著である。 また、本発明の除草剤は、前記の雑草に対して優れた除
草効果を示すが、そのような処理濃度では畑作物（例え
ば、ワタなど）に対して薬害を示さないものである。

【００６０】本発明の除草剤は、化合物（Ｉ）の１種以
上を有効成分として含有するものである。化合物（Ｉ）
は、単独で使用することもできるが、通常は常法によっ
て、担体，界面活性剤，分散剤，補助剤などを配合（例
えば、粉剤，乳剤，微粒剤，粒剤，水和剤，油性の懸濁
液，エアゾールなどの組成物として調製する。）して使
用することが好ましい。

【００６１】担体としては、例えば、タルク，雲母，ベ
ントナイト，クレー，カオリン，ケイソウ土，ホワイト
カーボン，バーミキュライト，ドロマイト，ゼオライト
，消石灰，ケイ砂，無水ケイ酸，硫安，尿素，木粉，澱
粉，セルロースなどの固体担体；炭化水素（ケロシン，
鉱油など），芳香族炭化水素（ベンゼン，トルエン，キ
シレンなど），塩素化炭化水素（クロロホルム，四塩化
炭素など），エーテル類（ジオキサン，テトラヒドロフ
ランなど），ケトン類（アセトン，シクロヘキサノン，
イソホロンなど），エステル類（酢酸エチル，エチレン
グリコールアセテート，マレイン酸ジブチルなど），ア
ルコール類（メタノール，ｎ−ヘキサノール，エチレン
グリコールなど），極性溶媒（ジメチルホルムアミド，
ジメチルスルホキシドなど），水などの液体担体；空気
，窒素，炭酸ガス，フレオンなどの気体担体（この場合
には、混合噴射することができる）などを挙げることが
でる。

【００６２】本剤の植物への付着，吸収の向上，薬剤の
分散，乳化，展着などの性能を向上させるために使用で
きる界面活性剤としては、非イオン系，陰イオン系，陽
イオン系，両性イオン系などの界面活性剤（例えば、ア
ルコール硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、リグ
ニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエー
テルなど）を挙げることができる。そして、その製剤の
性状を改善するためには、カルボキシメチルセルロース
，ポリエチレングリコール，アラビアゴムなどを補助剤
として用いることができる。

【００６３】本剤の製造では、前記の担体，界面活性剤
，分散剤，補助剤などの他に、その他の農薬（殺菌剤，
殺虫剤など），肥料，土壌改良剤などをそれぞれの目的
に応じて、各々単独で又は適当に組み合わせて使用する
ことができる。

【００６４】本発明の化合物（Ｉ）を製剤化した場合の
有効成分濃度は、乳剤では通常１〜５０重量％，粉剤で
は通常０．３〜２５重量％，水和剤では通常１〜９０重
量％，粒剤では通常０．５〜５重量％，油剤では通常０
．５〜５重量％，エアゾールでは通常０．１〜５重量％
である。これらの製剤を適当な濃度に希釈して、それぞ
れの目的に応じて、植物茎葉，土壌，水田の水面に散布
するか、又は直接施用することによって各種の用途に供
することができる。

【００６５】

【実施例】以下、本発明を実施例によって示す。なお、
これらの実施例は、本発明の範囲を限定するものではな
い。

【００６６】実施例１

【００６７】（１）３−ベンジルオキシ−２−（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシブタン酸エ
チル（化合物１）の合成 （製造法１）に記載の方法によって、本発明の化合物（
Ｉ）を合成した。２，３−エポキシブタン酸エチル（１
３．０ｇ、０．１ｍｏｌ）をベンジルアルコール（２１
．６ｇ、０．２ｍｏｌ）中に加え、触媒として硫酸（０
．５ｍｌ）を加えた後、６０℃で７時間攪拌した。反応
液からカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２０
０、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１溶出）によって
３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシブタン酸エチル（
１９．０ｇ）を得た。次に、得られた３−ベンジルオキ
シ−２−ヒドロキシブタン酸エチル（１９．０ｇ）と４
，６−ジメトキ−２−メチルスルホニルピリミジン（１
７．４ｇ、０．０８ｍｏｌ）とをＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（１５０ｍｌ）中に加え、さらに、炭酸カリウ
ム（１１．１ｇ、０．０８ｍｏｌ）を加えて６０℃で３
時間攪拌した。

【００６８】得られた反応液を水に加えて酢酸エチルで
抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧下で留去して得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲルＣ−２
００、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１溶出）によっ
て単離し、無色の油状物である目的化合物を２４．１ｇ
（収率は８０％）得た。

【００６９】（２）３−ベンジルオキシ−２−（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシブタン酸（
化合物２）の合成 （製造法３）に記載の方法によって、目的化合物（Ｉ）
を合成した。エタノール（１００ｍｌ）に、前記記載の
（１）で製造した化合物１を（３４．４ｇ、０．１ｍｏ
ｌ）を溶解した。そして、この中に、５Ｎ水酸化ナトリ
ウム（４０ｍｌ）を加え、３０℃で２時間攪拌した。そ
の後、エタノールを減圧下で留去し、得られた残渣に５
Ｎ塩酸（５０ｍｌ）を加えてクロロホルムで抽出した。 このクロロホルム層を水洗して乾燥し、クロロホルムを
減圧下で留去することによって、白色結晶である目的化
合物を２６．９ｇ（収率８５．０％）得た。

【００７０】（３）３−ベンジルオキシ−２−（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）チオブタン酸（化
合物３）の合成 （製造法１）に記載の方法によって、本発明の化合物（
Ｉ）を合成した。１Ｎ水酸化ナトリウム（２００ｍｌ）
に３−ベンジルオキシ−２−メルカプトブタン酸（２２
．６ｇ、０．１ｍｏｌ）を溶解した。そして、この中に
、アセトン（１００ｍｌ）に４，６−ジメトキシ−２−
メチルスルホニルピリミジン（２１．８ｇ、０．１ｍｏ
ｌ）を溶解した溶液を加え、室温で１時間攪拌した。

【００７１】得られた反応液に５Ｎ塩酸水溶液（１００
ｍｌ）を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽
和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エチ
ルを減圧下で留去して得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル：酢酸＝１：１：０．１溶出）によって単離し、
無色の油状物である目的化合物を２７．２ｇ（収率は７
５％）得た。

【００７２】（４）３−（２−クロロベンジル）オキシ
−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）チ
オブタン酸（化合物５０）の合成 （製造法２）に記載の方法によって、目的化合物（Ｉ）
を合成した。３−（２−クロロベンジル）オキシ−２−
パラトルエンスルホニルオキシブタン酸（３６．３ｇ、
０．１ｍｏｌ）と４，６−ジメトキシ−２−メルカプト
ピリミジン（１７．２ｇ、０．１ｍｏｌ）とをＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）中に溶解し、さら
に、炭酸カリウム（１３．８ｇ、０．１ｍｏｌ）を加え
て５０℃で２時間攪拌した。

【００７３】得られた反応液に１Ｎ塩酸水溶液（５００
ｍｌ）を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽
和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エチ
ルを減圧下で留去して得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲルＣ−２００、ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル：酢酸＝１：１：０．１溶出）によって単離し、
白色結晶である目的化合物を３１．８ｇ（収率は８０％
）得た。

【００７４】（５）表１〜１０中のその他の化合物（Ｉ
）の合成 （１）〜（４）のいづれかの合成方法に準じて、表１〜
１０中に示したような目的化合物（Ｉ）を得た。

【００７５】実施例２

【００７６】（１）〔粒剤の調製〕化合物１を８重量部
、ベントナイト３０重量部、タルク５９重量部、ネオペ
レックスパウダー（商品名；花王株式会社製）１重量部
及びリグニンスルホン酸ソーダ２重量部を均一に混合し
、次いで少量の水を添加して混練した後、造粒，乾燥し
て粒剤を得た。

【００７７】（２）〔水和剤の調製〕化合物３を５０重
量部、カオリン４６重量部、ネオペレックスパウダー（
商品名；花王株式会社製）２重量部及びデモールＮ（商
品名；花王株式会社製）２重量部を均一に混合し、次い
で粉砕して水和剤を得た。

【００７８】（３）〔乳剤の調製〕化合物３６を３０重
量部、キシレン６０重量部、ジメチルホルムアミド５重
量部及びソルポール３００５Ｘ（商品名；東邦化学工業
製）５重量部を加えて均一に混合し、溶解して乳剤を得
た。

【００７９】（４）〔粉剤の調製〕化合物５０を５重量
部、タルク５０重量部及びクレー４５重量部を均一に混
合して粉剤を得た。

【００８０】実施例３

【００８１】（１）〔水田除草試験〕１／５０００アー
ルのワグネルポットに宇部土壌（沖積埴壌土）を充填し
、雑草（ノビエ，ウリカワ，ホタルイ）の種子又は塊茎
を植え、水を加えて水深３ｃｍの湛水状態にした。実施
例２に準じて調製した表１〜１０に示す目的化合物（Ｉ
）の水和剤を、水で希釈し、ノビエ１葉期に、これらの
各薬液中における化合物（Ｉ）の有効濃度が２０ｇ／ａ
となるようにピペットを用いて滴下処理した。そして、
平均気温２５℃のガラス室で３週間管理した後に、それ
らの除草効果を調査した。薬剤効果の評価は、無処理区
の状態と比較して、６段階〔０：無害（正常発育），１
：僅少害，２：小害，３：中害，４：大害，５：完全枯
死）で示した（なお、−は未検討であることを示す。）
。その結果を表１１に示す。

【００８２】（２）〔畑作土壌処理試験〕１／５０００
アールのワグネルポットに宇部土壌（沖積埴壌土）を充
填し、ダイズ，メヒシバ，ノビエ，シロザ，イヌビユの
種子を植えて覆土した。実施例２に準じて調製した表１
〜１０に示す目的化合物（Ｉ）の水和剤を、水で希釈し
、これらの各薬液中における化合物（Ｉ）の有効濃度が
２０ｇ／ａとなるように各土壌表層に均一に噴霧した。 そして、平均気温２５℃のガラス室で３週間管理した後
に、それらの除草効果を調査した。その薬剤効果の判定
結果を、前記の水田除草効果試験（１）に記載の評価方
法で、表１２に示す。

【００８３】（３）〔畑作茎葉処理試験〕１／５０００
アールのワグネルポットに火山灰土壌を充填し、ダイズ
，メヒシバ，ノビエ，シロザ，イヌビユ，アサガオの種
子を植えて覆土し、２週間育成した。実施例２に準じて
調製した表１〜１０に示す目的化合物（Ｉ）の水和剤を
、展着剤であるネオエステリン（クミアイ化学社製）（
５００ｐｐｍ）を含む水で２０００ｐｐｍに希釈し、前
記の各植物体に均一に噴霧した。そして、平均気温２５
℃のガラス室で３週間管理した後に、それらの除草効果
を調査した。その薬剤効果の判定結果を、前記の水田除
草効果試験（１）に記載の評価方法で、第１３表に示す
。

【００８４】〔発明の効果〕本発明の新規な３−ベンジ
ルオキシアルカン酸誘導体は、一年生及び多年生雑草に
優れた除草効果を示し，かつダイズなどの作物に対して
優れた選択的除草効果を示すものである。

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【表６】

【表７】

【表８】

【表９】

【表１０】

【表１１】

【表１２】

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　次式： 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子，低級アルキル基，低級アルコ
   キシ基，ハロゲン原子，ニトロ基，シアノ基，ハロ低級
   アルキル基，低級アルキルチオ基又は低級アルキルスル
   ホニル基を表し；Ｒ２，Ｒ３又はＲ４は各々独立しては
   水素原子又は低級アルキル基を表し；Ｒ５は低級アルキ
   ル基又は低級アルコキシ基を表し；Ｒ６は低級アルコキ
   シ基を表し；Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し；ｎは１
   〜５の整数を表す。）で示される３−ベンジルオキシア
   ルカン酸誘導体。
2. 【請求項２】　　次式： 【化２】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｘ及びｎは請求項１
   の記載と同義である。）で示される化合物と次式：【化
   ３】 （式中、Ｒ５及びＲ６は請求項１の記載と同義である。 ）で示される化合物とを反応させることを特徴とする請
   求項１記載の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオキシア
   ルカン酸誘導体の製造法。
3. 【請求項３】　　次式： 【化４】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は請求項１の記載と
   同義であり、Ｒ７は低級アルキル基，置換フェニル基又
   はハロ低級アルキル基を表す。）で示される化合物と次
   式： 【化５】 （式中、Ｒ５及びＲ６は請求項１の記載と同義である。 ）で示される化合物とを反応させることを特徴とする請
   求項１記載の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオキシア
   ルカン酸誘導体の製造法。
4. 【請求項４】　　次式： 【化６】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びｎは
   請求項１の記載と同義であり、Ｒ８は低級アルキル基を
   表す。）で示される化合物を加水分解することを特徴と
   する請求項１記載の式（Ｉ）で示される３−ベンジルオ
   キシアルカン酸誘導体の製造法。
5. 【請求項５】　　請求項１記載の式（Ｉ）で示される３
   −ベンジルオキシアルカン酸誘導体を有効成分とする除
   草剤。