JPH04353616A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH04353616A JPH04353616A JP12717091A JP12717091A JPH04353616A JP H04353616 A JPH04353616 A JP H04353616A JP 12717091 A JP12717091 A JP 12717091A JP 12717091 A JP12717091 A JP 12717091A JP H04353616 A JPH04353616 A JP H04353616A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオ用,コンピュー
タ用,デジタル・オーディオ・テープレコーダ用等に利
用される磁気記録媒体に関するものである。
タ用,デジタル・オーディオ・テープレコーダ用等に利
用される磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体としては、塗布型の
ものと金属薄膜型のものとが知られているが、後者の金
属薄膜型の磁気記録媒体においては、非磁性支持体の一
面に磁性金属薄膜を形成し、他面にバックコート層を設
けているものである。
ものと金属薄膜型のものとが知られているが、後者の金
属薄膜型の磁気記録媒体においては、非磁性支持体の一
面に磁性金属薄膜を形成し、他面にバックコート層を設
けているものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
金属薄膜型磁気記録媒体では、各種要因に基づく各種タ
イプの出力低下が発生しやすかった。この出力低下を招
く原因の一つにバックコート材料に基づくものがある。 この原因に基づく出力低下を防ぐため、一般的には耐摩
耗性の高い樹脂を用いてバックコート層を形成し、摩耗
粉の発生が少なくなるように設計してはいるが、これだ
けでは十分ではない。また、このバックコート材へ滑剤
をはじめから添加し、この滑剤のブルーミングにより摩
耗物の発生を防ぐ方法も知られてはいるが、やはり十分
ではない。さらに、バックコート層の表面粗さを粗くし
てゆくとバックコート層の摩耗粉は減少してゆくが、同
時に熱処理工程やテープの巻取り工程中での裏移りによ
り、このバックコート層の形状が磁性面へ移り、その形
状転写により出力低下を招くことになり、この方法にも
限界がある。
金属薄膜型磁気記録媒体では、各種要因に基づく各種タ
イプの出力低下が発生しやすかった。この出力低下を招
く原因の一つにバックコート材料に基づくものがある。 この原因に基づく出力低下を防ぐため、一般的には耐摩
耗性の高い樹脂を用いてバックコート層を形成し、摩耗
粉の発生が少なくなるように設計してはいるが、これだ
けでは十分ではない。また、このバックコート材へ滑剤
をはじめから添加し、この滑剤のブルーミングにより摩
耗物の発生を防ぐ方法も知られてはいるが、やはり十分
ではない。さらに、バックコート層の表面粗さを粗くし
てゆくとバックコート層の摩耗粉は減少してゆくが、同
時に熱処理工程やテープの巻取り工程中での裏移りによ
り、このバックコート層の形状が磁性面へ移り、その形
状転写により出力低下を招くことになり、この方法にも
限界がある。
【0004】本発明は、バックコート層のま摩耗粉に基
づく出力低下をなくし、信頼性の高い金属薄膜型磁気記
録媒体を提供するものである。
づく出力低下をなくし、信頼性の高い金属薄膜型磁気記
録媒体を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の一面に磁
性金属薄膜を形成し、支持体の反対側表面に含フッ素硬
質炭素膜を設けた構成を有している。
に、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の一面に磁
性金属薄膜を形成し、支持体の反対側表面に含フッ素硬
質炭素膜を設けた構成を有している。
【0006】
【作用】このように構成された磁気記録媒体は、含フッ
素硬質炭素膜を設けることにより、バックコート層の摩
耗粉に基づく出力低下が皆無になり、更に、硬質炭素膜
にフッ素を含むため、バックコート面に潤滑性も向上し
、高信頼性の磁気記録媒体を実現しうるものである。
素硬質炭素膜を設けることにより、バックコート層の摩
耗粉に基づく出力低下が皆無になり、更に、硬質炭素膜
にフッ素を含むため、バックコート面に潤滑性も向上し
、高信頼性の磁気記録媒体を実現しうるものである。
【0007】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【0008】図1は本発明の磁気記録媒体の実施例を示
す断面図である。図1に示すように、1はポリエチレン
テレフタレート,ポリエチレンナフタレート,ポリフェ
ニレンサルファイド,ポリイミド等から成る非磁性の支
持体、2,3は水溶性高分子から成るミミズ状の下塗り
層か、SiO2,TiO2,CaCo3,ZnO,ポリ
エチレン球等の微粒子を支持体1に分散させ表面突起形
状を設けるか、または微粒子の下塗り層を設けてもよい
。 支持体1上に、Co,Co−O,Co−Os,Co−T
i,Co−Cr,Co−Mo,Co−Ta,Co−Ni
,Co−Ni−O,Co−Ni−P,Co−Cr−Nb
等の強磁性金属薄膜4で、電子ビーム蒸着法,高周波ス
パッタリング法,イオンビームデポジション法,イオン
プレーティング法等により形成できるものである。更に
その表面には、パーフルオロカルボン酸,パーフルオロ
ポリエーテル,有機ケイ素化合物の滑剤で溶液塗布法や
真空蒸着法等で形成されたフロントコート層3である。 一方、支持体1の反対側表面には、直接含フッ素硬質炭
素膜6を形成するか、または、ウレタンエラストマーと
塩化ビニルー酢酸ビニル系やニトロセルロース系のポリ
マーと炭酸カルシウム,カーボンブラック,シリカ等の
フィラーとからなる混合物をグラビアコータ,リバース
コータ等の周知のコーティング法によってバックコート
層7を形成し、その表面に含フッ素硬質炭素膜6を形成
してもよい。かかる含フッ素硬質炭素膜6は、メタン,
エタン,プロパン,ブタン,ペンタン,ベンゼン等の炭
化水素化合物とフッ素系ガスの混合ガスのプラズマを発
生させ、これを加速照射する方法やグラファイトをター
ゲットにし、Ar+C4F8,Ar+H2+C4F8等
の混合ガスのプラズマを利用したスパッタリング等によ
り形成されるものである。含フッ素硬質炭素膜6の膜厚
は50〜2000Åの範囲で構成するのが好ましく、膜
厚が50Å以下では膜硬度が低下し、膜の欠陥や摩耗粉
が発生し出力低下を招く。また、膜厚が2000Å以上
では膜にクラックが発生し、出力低下の十分な抑制効果
が得られず実用的でない。
す断面図である。図1に示すように、1はポリエチレン
テレフタレート,ポリエチレンナフタレート,ポリフェ
ニレンサルファイド,ポリイミド等から成る非磁性の支
持体、2,3は水溶性高分子から成るミミズ状の下塗り
層か、SiO2,TiO2,CaCo3,ZnO,ポリ
エチレン球等の微粒子を支持体1に分散させ表面突起形
状を設けるか、または微粒子の下塗り層を設けてもよい
。 支持体1上に、Co,Co−O,Co−Os,Co−T
i,Co−Cr,Co−Mo,Co−Ta,Co−Ni
,Co−Ni−O,Co−Ni−P,Co−Cr−Nb
等の強磁性金属薄膜4で、電子ビーム蒸着法,高周波ス
パッタリング法,イオンビームデポジション法,イオン
プレーティング法等により形成できるものである。更に
その表面には、パーフルオロカルボン酸,パーフルオロ
ポリエーテル,有機ケイ素化合物の滑剤で溶液塗布法や
真空蒸着法等で形成されたフロントコート層3である。 一方、支持体1の反対側表面には、直接含フッ素硬質炭
素膜6を形成するか、または、ウレタンエラストマーと
塩化ビニルー酢酸ビニル系やニトロセルロース系のポリ
マーと炭酸カルシウム,カーボンブラック,シリカ等の
フィラーとからなる混合物をグラビアコータ,リバース
コータ等の周知のコーティング法によってバックコート
層7を形成し、その表面に含フッ素硬質炭素膜6を形成
してもよい。かかる含フッ素硬質炭素膜6は、メタン,
エタン,プロパン,ブタン,ペンタン,ベンゼン等の炭
化水素化合物とフッ素系ガスの混合ガスのプラズマを発
生させ、これを加速照射する方法やグラファイトをター
ゲットにし、Ar+C4F8,Ar+H2+C4F8等
の混合ガスのプラズマを利用したスパッタリング等によ
り形成されるものである。含フッ素硬質炭素膜6の膜厚
は50〜2000Åの範囲で構成するのが好ましく、膜
厚が50Å以下では膜硬度が低下し、膜の欠陥や摩耗粉
が発生し出力低下を招く。また、膜厚が2000Å以上
では膜にクラックが発生し、出力低下の十分な抑制効果
が得られず実用的でない。
【0009】以下、更に具体的な実施例について、比較
例との対比で説明する。厚み10μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを直径1mの円筒キャンに沿わせ
て、入射角90度から45度、真空度は酸素を導入し、
1×10−4Torrの条件で電子ビーム法で蒸着し、
膜厚0.18μmのCo−Oからなる金属薄膜層を形成
した。また、フロントコート層として、パーフルオロス
テアリン酸を溶液塗布法にて50Å形成した。また、フ
ィルムの反対側には、直径400ÅのAl2O3微粒子
を5ヶ/μm2配した下塗り層を形成したものを準備し
、実施例に用いた。
例との対比で説明する。厚み10μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを直径1mの円筒キャンに沿わせ
て、入射角90度から45度、真空度は酸素を導入し、
1×10−4Torrの条件で電子ビーム法で蒸着し、
膜厚0.18μmのCo−Oからなる金属薄膜層を形成
した。また、フロントコート層として、パーフルオロス
テアリン酸を溶液塗布法にて50Å形成した。また、フ
ィルムの反対側には、直径400ÅのAl2O3微粒子
を5ヶ/μm2配した下塗り層を形成したものを準備し
、実施例に用いた。
【0010】(実施例1)第1の実施例としてフィルム
の下塗り層上に、放電ガスとしてCH4とC4F8の混
合ガスを用い、真空度=0.15Torr,混合比CH
4:C4F8=10:10〜100:5,周波数13.
56MHZ,出力1.5KWのグロー放電法によりフッ
素を含有する硬質炭素膜を膜厚50〜2000Å形成し
、8mmの幅の磁気テープに加工した。
の下塗り層上に、放電ガスとしてCH4とC4F8の混
合ガスを用い、真空度=0.15Torr,混合比CH
4:C4F8=10:10〜100:5,周波数13.
56MHZ,出力1.5KWのグロー放電法によりフッ
素を含有する硬質炭素膜を膜厚50〜2000Å形成し
、8mmの幅の磁気テープに加工した。
【0011】(実施例2)第2の実施例としてフィルム
の下塗り層上に、炭酸カルシウムをウレタン樹脂に分散
させたバックコート層7をグラビアコーティング法によ
って膜厚0.2μm形成し、そのバックコート層上に、
実施例1と同一条件で膜厚50〜500Åの含フッ素硬
質炭素膜を形成し、8mmの幅の磁気テープに加工した
。
の下塗り層上に、炭酸カルシウムをウレタン樹脂に分散
させたバックコート層7をグラビアコーティング法によ
って膜厚0.2μm形成し、そのバックコート層上に、
実施例1と同一条件で膜厚50〜500Åの含フッ素硬
質炭素膜を形成し、8mmの幅の磁気テープに加工した
。
【0012】比較例1として、フィルムの下塗り層上に
、炭酸カルシウムをウレタン樹脂に分散させたバックコ
ート層7をグラビアコーティング法によって膜厚0.2
〜0.6μm形成し、8mmの幅の磁気テープに加工し
た。
、炭酸カルシウムをウレタン樹脂に分散させたバックコ
ート層7をグラビアコーティング法によって膜厚0.2
〜0.6μm形成し、8mmの幅の磁気テープに加工し
た。
【0013】比較例2として、フィルムの下塗り層上に
、炭酸カルシウムをウレタン樹脂に分散させ、更に、潤
滑剤としてステアリン酸を重量比で2部添加したバック
コート層7をグラビアコーティング法によって膜厚0.
2〜0.6μm形成し、8mmの幅の磁気テープに加工
した。
、炭酸カルシウムをウレタン樹脂に分散させ、更に、潤
滑剤としてステアリン酸を重量比で2部添加したバック
コート層7をグラビアコーティング法によって膜厚0.
2〜0.6μm形成し、8mmの幅の磁気テープに加工
した。
【0014】このように作成された実施例1,2と比較
例1,2の磁気テープを市販の8mmビデオデッキ(A
V−300,ソニー(株)製)で100時間記録再生し
て、出力低下のトータル時間を比較した。出力低下は初
期出力と比較して3dB低下したトータル時間で表現し
、その測定環境は、温度23℃,湿度70%である。 使用テープは120分用テープである。その結果を(表
1)に示す。
例1,2の磁気テープを市販の8mmビデオデッキ(A
V−300,ソニー(株)製)で100時間記録再生し
て、出力低下のトータル時間を比較した。出力低下は初
期出力と比較して3dB低下したトータル時間で表現し
、その測定環境は、温度23℃,湿度70%である。 使用テープは120分用テープである。その結果を(表
1)に示す。
【0015】
【表1】
【0016】(表1)から明らかなように、本実施例1
,2は比較例1,2と比較して、出力低下トータル時間
は1/10以下に減少し、良好な結果が得られた。
,2は比較例1,2と比較して、出力低下トータル時間
は1/10以下に減少し、良好な結果が得られた。
【0017】
【発明の効果】以上のように本発明は、磁性面の反対側
に直接もしくはバックコート層を介して含フッ素硬質炭
素膜を形成することにより、出力低下を防止することが
できる優れた磁気記録媒体を実現できるものである。
に直接もしくはバックコート層を介して含フッ素硬質炭
素膜を形成することにより、出力低下を防止することが
できる優れた磁気記録媒体を実現できるものである。
【図1】本発明の実施例における概略的な断面図
1 非磁性支持体
2 下塗り層
3 下塗り層
4 磁性金属薄膜
5 フロントコート層
6 含フッ素硬質炭素膜
7 バックコート層
Claims (1)
- 【請求項1】 非磁性支持体の一面に磁性金属薄膜を
形成し、前記支持体の反対側表面に含フッ素硬質炭素膜
を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12717091A JPH04353616A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12717091A JPH04353616A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04353616A true JPH04353616A (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=14953399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12717091A Pending JPH04353616A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04353616A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0650158A1 (en) * | 1993-10-20 | 1995-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium, method for producing the same and method for forming film by plasma cvd |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP12717091A patent/JPH04353616A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0650158A1 (en) * | 1993-10-20 | 1995-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium, method for producing the same and method for forming film by plasma cvd |
US5496595A (en) * | 1993-10-20 | 1996-03-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for forming film by plasma CVD |
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