JPH04350996A - ハンダ付け補助層 - Google Patents

ハンダ付け補助層

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Publication number
JPH04350996A
JPH04350996A JP15260691A JP15260691A JPH04350996A JP H04350996 A JPH04350996 A JP H04350996A JP 15260691 A JP15260691 A JP 15260691A JP 15260691 A JP15260691 A JP 15260691A JP H04350996 A JPH04350996 A JP H04350996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
soldering
auxiliary layer
ceramic material
soldering auxiliary
circuit board
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP15260691A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Sakamoto
健 坂本
Michitomo Iiyama
飯山 道朝
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハンダ付け補助層に関
する。より詳細には、電子機器等に使用される回路基板
がハンダ付けされるアース板、シャシ等に具備されるハ
ンダ付け補助層に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の集積度の向上に伴い、半導
体装置を搭載する回路基板も複雑化している。例えば、
典型的な半導体装置には入出力端子が数本〜数百本あり
、このような半導体装置を数百個搭載するような回路基
板もある。また、マルチチップモジュールと呼ばれる、
入出力端子が数千本におよぶ半導体装置も使用されるこ
とがある。大型の電子機器においては、回路基板の一部
をカードと呼ばれる小規模な回路基板に分割し、複数の
カードをボードと呼ばれる大規模な回路基板に搭載して
電子機器を構成することが行われている。一方、金属板
を絶縁体で被覆した金属コア基板は、熱の放散、機械的
強度、剛性等の面で有利であり、過酷な環境で使用され
る電子機器に用いられることがある。
【0003】一般に電子機器の組立にはハンダ付けが使
用されるが、上記のマルチチップモジュールを回路基板
に実装したり、カードをボードに実装したり、金属コア
基板に半導体装置等を実装する場合、ハンダ付けを行う
電極の実質的な面積が大きかったり、放熱性が高いので
ハンダ付けの際に熱が逃げやすく、そのためにハンダ付
け強度が低下することがある。また、導体配線や半導体
装置が熱により損傷を受けることがある。この傾向は、
特に、アース板、筐体等の比較的面積の大きい導体と、
上記の各電子部品をハンダ付けする場合に顕著である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の問題の対策とし
て、電極、アース板等のハンダ付け部分を限定するよう
にソルダレジスト等で被覆して、ハンダが流れたり、熱
が逃げるのを防いでいる。このようなハンダ付け補助層
は、当然のことながら被覆する電極の特性に悪影響を与
えないようなものでなければならない。即ち、ハンダ付
け補助層で被覆されることより、電極の電気抵抗や反射
が増加したり、アース板等の特性が変化するようなこと
があってはならない。一方、上記の導体配線上に形成さ
れたハンダ付け補助層は、一般にハンダ付け工程の後に
除去しなければならない。このようなハンダ付け補助層
にはハンダ付け工程で加熱されても、焼きついたりせず
後工程で容易に除去できるような材料を使用しなければ
ならない。また、除去工程で電子部品、回路基板の端子
、アース板、筐体等に悪影響が生じないことも必要であ
る。さらに、上記のハンダ付け補助層は、ハンダ付け時
の熱処理に耐え、任意の形状に容易に形成可能でなけれ
ばならない。
【0005】しかしながら、従来のハンダ付け補助層は
、上記の要求を十分に満たせず、より高性能なハンダ付
け補助層が望まれていた。そこで本発明の目的は、上記
の要求に応え得る高性能なハンダ付け補助層を提供する
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に従うと、半導体
装置を搭載した回路基板がハンダ付けにより実装される
部品に具備され、ハンダ付け領域を限定するハンダ付け
補助層において、該ハンダ付け補助層が、希土類元素、
Ba、CuおよびOを含むセラミックス材料またはBi
、Sr、Ca、CuおよびOを含むセラミックス材料で
構成されていることを特徴とするハンダ付け補助層が提
供される。
【0007】
【作用】本発明のハンダ付け補助層は、Y1Ba2Cu
3OX、Ho1Ba2Cu3OX等、Re、Ba、Cu
およびO(Reは希土類元素を示す)を含むセラミック
ス材料またはBi2Sr2Ca1Cu2Oy等Bi、S
r、Ca、CuおよびOを含む各種セラミックス材料で
構成されているところにその主要な特徴がある。このセ
ラミックス材料は低濃度の酸で溶解し、0.1 %のH
Cl、H3PO4等の水溶液を用いて、1μm/分のエ
ッチング速度でエッチングすることができる。従って、
ハンダ付け処理後に電子部品、回路基板の端子等に悪影
響を与えることなく除去することが可能である。
【0008】また、本発明のハンダ付け補助層に使用さ
れるセラミックス材料は、例えばスクリーン印刷法、硝
酸塩水溶液を用いたディップ法等で薄膜を形成可能であ
る。従って、例えば、マスク等の治具を使用することに
より、導体部品の所定の位置にハンダ付け補助層を容易
に形成することができる。また、上記の治具の変更によ
り、どのような形状の導体部品に対しても対応すること
が可能である。
【0009】一方、上記のセラミックス材料は、酸化物
であるので加熱してもその性質等が変化することなく安
定している。従って、導体部品が腐蝕するなどの損傷を
受けることがなく、ハンダ付け工程、熱硬化性樹脂を用
いた場合に硬化工程等で高温に曝されても除去工程に影
響がない。また、本発明のハンダ付け補助層は、フロー
、リフロー、手ハンダ、ディップ、接着等あらゆるハン
ダ付け法に適用できる。
【0010】上記のハンダ付け補助層は、どのような材
料の部品にも形成することが可能である。特に、各種の
セラミックス材料に対して上記のセラミックス材料のハ
ンダ付け補助層は材料間のいわゆる相性がよく、精密な
ハンダ付け補助層が容易に形成でき、焼き付き等により
除去できなくなることがない。従って、本発明のハンダ
付け補助層が適用できる部品の材料に制限はない。
【0011】さらに本発明のハンダ付け補助層は、ハン
ダ付け後容易に除去することができる。従って、本発明
のハンダ付け補助層を、電子機器の放熱性が要求される
部分に形成して組み立てを行っても、ハンダ付け後に除
去して、放熱を妨げないようにすることができる。
【0012】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明するが、以下の開示は本発明の単なる実施例に過ぎ
ず、本発明の技術的範囲をなんら制限するものではない
【0013】
【実施例】図1に、本発明のハンダ付け補助層を具備し
たアース板の一例を示す。図1のアース板には、回路基
板2の端子がハンダ付けにより接続され、導体板1上に
ハンダ付け領域21を残して形成された本発明のハンダ
付け補助層3を具備する。
【0014】上記のアース板は、ハンダ付け補助層3に
より、ハンダ付けの際の熱が放散されることがないので
、十分な強度のハンダ付けが可能である。ハンダ付け後
にハンダ付け補助層3が不要であるならば、低濃度の酸
により除去することができる。
【0015】本実施例では、上記本発明のアース板を以
下のように製造した。まず、導体1の表面に、スクリー
ン印刷法により、ハンダ付け領域21の部分を除いてY
BaCuOセラミックス材料のハンダ付け補助層3を形
成する。ハンダ付け補助層3に使用する材料はY1Ba
2Cu3Oxセラミックス材料に限らず、Ho1Ba2
Cu3Oxセラミックス、Dy1Ba2Cu3Oxセラ
ミックス、Bi2Sr2Ca1Cu2Oyセラミックス
等が使用できる。
【0016】上記のアース板を使用して、電子機器の組
み立てを行うには、以下のようにする。まず、回路基板
2に通常のハンダ付け工程で電子部品をハンダ付け実装
する。回路基板2が組上がったら、回路基板2のアース
端子22を、アース板のハンダ付け領域21にハンダ付
けする。このとき、通常のハンダ付けを行ってもアース
板から熱が逃げないため、強固なハンダ付けが可能であ
る。 このハンダ付けの後、0.1 %のHCl水溶液で処理
すると、ハンダ付け補助層3が溶解する。また、回路基
板2の電子部品、導体配線等はこの程度の濃度の酸では
、悪影響を受けない。この後、回路基板2およびアース
板全体を洗浄して、電子機器の組立が終了する。尚、ハ
ンダ付け補助層3を溶解する酸には、上記のHCl以外
にも0.1%のH3PO4の水溶液が使用できる。
【0017】以上のように本発明のハンダ付け補助層を
使用すると、ハンダ付け工程で熱が逃げないので、熱の
放散がよい部品にも強固なハンダ付けが可能である。ま
た、従来熱が逃げるため別の工程でハンダ付けをおこな
っていた部分も一括にハンダ付けが可能であり、ハンダ
付け不良部分の修正も不要となって生産効率が向上する
【0018】
【発明の効果】以上詳述のように、本発明に従うと、熱
の逃げやすい部分でも強固なハンダ付けを行うことが可
能である。また、一括にハンダ付けを行ってもハンダ付
け強度が保たれるのでハンダ付け工程の効率も向上する
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のハンダ付け補助層を備えるアース板に
回路基板をハンダ付けする場合の説明図である。
【符号の説明】
1    導体板 2    回路基板 3    ハンダ付け補助層 21    ハンダ付け領域 22    端子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体装置を搭載した回路基板がハン
    ダ付けにより実装される部品に具備され、ハンダ付け領
    域を限定するハンダ付け補助層において、該ハンダ付け
    補助層が、希土類元素、Ba、CuおよびOを含むセラ
    ミックス材料またはBi、Sr、Ca、CuおよびOを
    含むセラミックス材料で構成されていることを特徴とす
    るハンダ付け補助層。
JP15260691A 1991-05-28 1991-05-28 ハンダ付け補助層 Withdrawn JPH04350996A (ja)

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JPH04350996A true JPH04350996A (ja) 1992-12-04

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ID=15544077

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Effective date: 19980806