JPH04349131A - 結晶化ガラスの製造方法 - Google Patents
結晶化ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPH04349131A JPH04349131A JP14668891A JP14668891A JPH04349131A JP H04349131 A JPH04349131 A JP H04349131A JP 14668891 A JP14668891 A JP 14668891A JP 14668891 A JP14668891 A JP 14668891A JP H04349131 A JPH04349131 A JP H04349131A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- microwave
- crystallization
- molded body
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims abstract description 28
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004554 P2 O5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、結晶化ガラスの製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、結晶化ガラスは、靭性、耐熱性、
意匠性等の特徴を有することから、壁材、耐火窓材等の
建材用途や、基板材料等の電子用途での使用が広がりつ
つある。一方、これに対応する製造技術としては、熔融
ガラスをロールアウト法やフロート法等により板状等の
形状に成形したものや、ガラスカレットを集積・焼結さ
せた成形体等を、熱処理により結晶化させる方法が一般
的に採られている。
意匠性等の特徴を有することから、壁材、耐火窓材等の
建材用途や、基板材料等の電子用途での使用が広がりつ
つある。一方、これに対応する製造技術としては、熔融
ガラスをロールアウト法やフロート法等により板状等の
形状に成形したものや、ガラスカレットを集積・焼結さ
せた成形体等を、熱処理により結晶化させる方法が一般
的に採られている。
【０００３】かかる方法の問題点は、結晶化のメカニズ
ムに内在しており、特に、いわゆる表面結晶化、すなわ
ちガラス成形体の表面から内部に向けて結晶化が進行す
る組成の系においては、大面積の板材等を結晶化させた
場合、表面から結晶化が進行するため、結晶化にともな
う体積変化により、最終製品である結晶化ガラス中に多
大な内部応力を生成することがあり、これによる板割れ
や変形等の課題を有していた。また、体積結晶化、すな
わちガラス成形体内部から結晶化が進行する系において
も、外部加熱方式によれば均一加熱を要することから、
その温度管理等きわめて高精度のコントロールを必要と
していた。
ムに内在しており、特に、いわゆる表面結晶化、すなわ
ちガラス成形体の表面から内部に向けて結晶化が進行す
る組成の系においては、大面積の板材等を結晶化させた
場合、表面から結晶化が進行するため、結晶化にともな
う体積変化により、最終製品である結晶化ガラス中に多
大な内部応力を生成することがあり、これによる板割れ
や変形等の課題を有していた。また、体積結晶化、すな
わちガラス成形体内部から結晶化が進行する系において
も、外部加熱方式によれば均一加熱を要することから、
その温度管理等きわめて高精度のコントロールを必要と
していた。
【０００４】かかる課題は、要求物性を達成する組成を
決定する上での大きな制約因子となるばかりでなく、特
に建材用途での大面積化や、電子用途での寸法精度向上
の際の大きな課題であった。
決定する上での大きな制約因子となるばかりでなく、特
に建材用途での大面積化や、電子用途での寸法精度向上
の際の大きな課題であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の如き
従来技術の問題点を解消し、結晶化の際の板割れを抑止
し、また、内部応力の低減化を図かった結晶化ガラスの
製造方法を提供することを目的とするものである。
従来技術の問題点を解消し、結晶化の際の板割れを抑止
し、また、内部応力の低減化を図かった結晶化ガラスの
製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス成形体
に、マイクロ波を照射し、所定の温度パターンで発熱さ
せることにより該ガラス成形体を結晶化させることを特
徴とする結晶化ガラスの製造方法である。
に、マイクロ波を照射し、所定の温度パターンで発熱さ
せることにより該ガラス成形体を結晶化させることを特
徴とする結晶化ガラスの製造方法である。
【０００７】一般に、結晶化ガラスの製造方法は、予め
成形されたガラス成形体を低温度域から徐々に加熱し結
晶が生成する温度域まで昇温し、所定の温度パターンで
熱処理して結晶化ガラスとするものである。従って、ガ
ラス成形体に、マイクロ波を照射して発熱させることに
より、ガラス成形体内部の温度を外部の温度よりも高め
ることにより内部からの結晶生成を促進することができ
る。
成形されたガラス成形体を低温度域から徐々に加熱し結
晶が生成する温度域まで昇温し、所定の温度パターンで
熱処理して結晶化ガラスとするものである。従って、ガ
ラス成形体に、マイクロ波を照射して発熱させることに
より、ガラス成形体内部の温度を外部の温度よりも高め
ることにより内部からの結晶生成を促進することができ
る。
【０００８】更に、マイクロ波によるガラスの発熱のみ
では、所定の温度に昇温することが困難な場合あるいは
非効率的な場合には、ガラス成形体にマイクロ波を照射
して発熱させると共に、別に補助加熱装置を配設し加熱
することにより、全体の温度を上昇させることも可能で
ある。この場合の、マイクロ波を使用しない場合との効
果の差異は、マイクロ波を使用する場合には補助加熱に
よる温度上昇に、付加的に内部発熱による温度上昇が加
わる結果、ガラス成形体表面部分に比べ内部の温度が高
くなるため、外表面部分に比べ内部の結晶化が促進され
、均一な結晶化を達成することが可能となる。
では、所定の温度に昇温することが困難な場合あるいは
非効率的な場合には、ガラス成形体にマイクロ波を照射
して発熱させると共に、別に補助加熱装置を配設し加熱
することにより、全体の温度を上昇させることも可能で
ある。この場合の、マイクロ波を使用しない場合との効
果の差異は、マイクロ波を使用する場合には補助加熱に
よる温度上昇に、付加的に内部発熱による温度上昇が加
わる結果、ガラス成形体表面部分に比べ内部の温度が高
くなるため、外表面部分に比べ内部の結晶化が促進され
、均一な結晶化を達成することが可能となる。
【０００９】使用するマイクロ波の周波数は、１〜１０
ＧＨｚの範囲内であることが好ましい。この範囲よりも
低周波数側では、実質的に必要な発熱が得られず好まし
くない。また、この範囲以上の周波数では、設備上の制
約が大きく実用的でない。また、この様な結晶化を行う
上でガラスに求められる誘電損失は、使用するマイクロ
波の周波数等に依存するが、結晶化する温度近傍で、１
０−３以上であることが好ましい。１０−３以下では、
実質的に発熱が期待されず好ましくない。また、更に好
ましくは１０−２以上であることが、ガラス成形体の内
部と外表面の温度差という観点からは特に好ましい。
ＧＨｚの範囲内であることが好ましい。この範囲よりも
低周波数側では、実質的に必要な発熱が得られず好まし
くない。また、この範囲以上の周波数では、設備上の制
約が大きく実用的でない。また、この様な結晶化を行う
上でガラスに求められる誘電損失は、使用するマイクロ
波の周波数等に依存するが、結晶化する温度近傍で、１
０−３以上であることが好ましい。１０−３以下では、
実質的に発熱が期待されず好ましくない。また、更に好
ましくは１０−２以上であることが、ガラス成形体の内
部と外表面の温度差という観点からは特に好ましい。
【００１０】本発明におけるガラス成形体の形状として
は、板状曲面状等広範囲のものが使用される。また、そ
の組成としては発熱により結晶が析出するものであれば
特に限定されない。また、ガラス成形体を結晶化させる
発熱の温度パターンとしては、成形体が破損することな
く、結晶が析出するものであればよい。従って、ガラス
組成、肉厚等によりそのパターンは変る。以上、本発明
の詳細な説明を行ったが、かかる説明は本発明の理解の
助けとするものであり、本発明を限定するものでないこ
とは勿論である。
は、板状曲面状等広範囲のものが使用される。また、そ
の組成としては発熱により結晶が析出するものであれば
特に限定されない。また、ガラス成形体を結晶化させる
発熱の温度パターンとしては、成形体が破損することな
く、結晶が析出するものであればよい。従って、ガラス
組成、肉厚等によりそのパターンは変る。以上、本発明
の詳細な説明を行ったが、かかる説明は本発明の理解の
助けとするものであり、本発明を限定するものでないこ
とは勿論である。
【００１１】
【作用】本発明におけるガラスの結晶化は、予め成形さ
れたガラス成形体を、マイクロ波を照射することにより
、低温度域から徐々に加熱し結晶が生成する温度域まで
昇温し、所定の温度パターンで熱処理して結晶化ガラス
とするものである。マイクロ波の照射によりガラス成形
体内部から発熱させることにより、ガラス成形体内部の
温度を外部の温度よりも高めることにより内部からの結
晶生成を促進し、その結果、いわゆる体積結晶化が促進
され、内部応力の少ない、従って割れのない高品質の結
晶化ガラスを得ることが可能となる。
れたガラス成形体を、マイクロ波を照射することにより
、低温度域から徐々に加熱し結晶が生成する温度域まで
昇温し、所定の温度パターンで熱処理して結晶化ガラス
とするものである。マイクロ波の照射によりガラス成形
体内部から発熱させることにより、ガラス成形体内部の
温度を外部の温度よりも高めることにより内部からの結
晶生成を促進し、その結果、いわゆる体積結晶化が促進
され、内部応力の少ない、従って割れのない高品質の結
晶化ガラスを得ることが可能となる。
【００１２】
実施例１
予め、公知の方法で作成した、ガラス板１（３０ｃｍ×
３０ｃｍ×６ｍｍ）を、図１に示す結晶化炉内に装着し
た。図１は結晶化炉の断面図であり、２は炉壁、３はマ
イクロ波の出射口、４はガラス板を装着する台、５は補
助加熱ヒータ、６はマイクロ波遮蔽板である。ガラス板
１の組成は、ＳｉＯ２ 、Ａｌ２ Ｏ３ 、Ｌｉ２ Ｏ
、Ｐ２ Ｏ５ 、ＺｒＯ２ 、ＴｉＯ２ が各々６７、
２３、４、１、３、２ｗｔ％であった。
３０ｃｍ×６ｍｍ）を、図１に示す結晶化炉内に装着し
た。図１は結晶化炉の断面図であり、２は炉壁、３はマ
イクロ波の出射口、４はガラス板を装着する台、５は補
助加熱ヒータ、６はマイクロ波遮蔽板である。ガラス板
１の組成は、ＳｉＯ２ 、Ａｌ２ Ｏ３ 、Ｌｉ２ Ｏ
、Ｐ２ Ｏ５ 、ＺｒＯ２ 、ＴｉＯ２ が各々６７、
２３、４、１、３、２ｗｔ％であった。
【００１３】ガラス板１を装着後、空気雰囲気下で、補
助加熱ヒータ５により６００℃まで２時間で昇温した。 次いで図中には示していないマイクロ波発生装置を稼働
させてマイクロ波（最大出力５ｋｗ、周波数２．４ＧＨ
ｚ）を出射口３より炉内に照射した。更に、マイクロ波
を照射しながら、補助加熱ヒータの出力を調整しながら
、１時間かけて炉内温度を７５０℃迄昇温し２時間保持
した後、更に８４０℃まで５時間かけて昇温し２時間保
持した後冷却して結晶化ガラスを取り出した。得られた
結晶化ガラスは、割れ等もなく良好な品質であった。
助加熱ヒータ５により６００℃まで２時間で昇温した。 次いで図中には示していないマイクロ波発生装置を稼働
させてマイクロ波（最大出力５ｋｗ、周波数２．４ＧＨ
ｚ）を出射口３より炉内に照射した。更に、マイクロ波
を照射しながら、補助加熱ヒータの出力を調整しながら
、１時間かけて炉内温度を７５０℃迄昇温し２時間保持
した後、更に８４０℃まで５時間かけて昇温し２時間保
持した後冷却して結晶化ガラスを取り出した。得られた
結晶化ガラスは、割れ等もなく良好な品質であった。
【００１４】実施例２
予め公知の方法で作成したガラス板１１（１０ｃｍ×１
０ｃｍ×３ｍｍ）を、図２に示す結晶化炉内に装着した
。図２は、別の結晶化炉の断面図であり１２は炉壁、１
３はマイクロ波の出射口、１４はガラス板を装着する台
、１５は断熱材である。ガラス板１１の組成は、実施例
１の場合と同じであった。
０ｃｍ×３ｍｍ）を、図２に示す結晶化炉内に装着した
。図２は、別の結晶化炉の断面図であり１２は炉壁、１
３はマイクロ波の出射口、１４はガラス板を装着する台
、１５は断熱材である。ガラス板１１の組成は、実施例
１の場合と同じであった。
【００１５】ガラス板１１を装着後、図中には示してい
ないマイクロ波発生装置を稼働させて、空気雰囲気下で
、マイクロ波（最大出力１０ｋｗ、周波数２．４ＧＨｚ
）を出射口１３より炉内に照射した。マイクロ波の出力
を調節しながら、ガラス板の温度が７３０℃になるまで
６時間をかけて昇温した。次いで、４時間かけて８１０
℃まで昇温し、この温度で６時間保持した。得られた結
晶化ガラスは、割れ等もなく良好な品質であった。
ないマイクロ波発生装置を稼働させて、空気雰囲気下で
、マイクロ波（最大出力１０ｋｗ、周波数２．４ＧＨｚ
）を出射口１３より炉内に照射した。マイクロ波の出力
を調節しながら、ガラス板の温度が７３０℃になるまで
６時間をかけて昇温した。次いで、４時間かけて８１０
℃まで昇温し、この温度で６時間保持した。得られた結
晶化ガラスは、割れ等もなく良好な品質であった。
【００１６】比較例
実施例１と同一の結晶化炉を用い、マイクロ波を照射せ
ず、炉内保持温度を８６０℃に高めた以外は実施例１と
同様の条件で結晶化を行った。得られた結晶化ガラスは
、結晶化炉を開放した段階で破損していた。
ず、炉内保持温度を８６０℃に高めた以外は実施例１と
同様の条件で結晶化を行った。得られた結晶化ガラスは
、結晶化炉を開放した段階で破損していた。
【００１７】
【発明の効果】本発明によるガラス結晶化方法では、マ
イクロ波を使用することにより、ガラス成形体がマイク
ロ波を吸収し発熱してガラス内部から加熱される。その
結果、ガラス成形体内部の温度が外部の温度よりも高く
なり、内部からの結晶化が促進されて均一な結晶生成が
可能となるものであると考えられる。従って、結晶化に
伴う体積変化も均一化されるため、内部応力の少ない結
晶化ガラスの製造が可能となる。
イクロ波を使用することにより、ガラス成形体がマイク
ロ波を吸収し発熱してガラス内部から加熱される。その
結果、ガラス成形体内部の温度が外部の温度よりも高く
なり、内部からの結晶化が促進されて均一な結晶生成が
可能となるものであると考えられる。従って、結晶化に
伴う体積変化も均一化されるため、内部応力の少ない結
晶化ガラスの製造が可能となる。
【図１】結晶化炉の断面図
【図２】別の結晶化炉の断面図
１，１１ ガラス板
２，１２ 炉壁
３，１３ マイクロ波の出射口
Claims (4)
- 【請求項１】ガラス成形体に、マイクロ波を照射し、所
定の温度パターンで発熱させることにより、該ガラス成
形体を結晶化させることを特徴とする結晶化ガラスの製
造方法。 - 【請求項２】ガラス成形体を、マイクロ波の吸収により
発熱させると共に、別に配設された補助熱源により加熱
することにより、該ガラス成形体を結晶化させることを
特徴とする結晶化ガラスの製造方法。 - 【請求項３】マイクロ波の周波数が、１〜１０ＧＨｚの
範囲内である請求項１または２に記載の結晶化ガラスの
製造方法。 - 【請求項４】ガラス成形体の誘電損失が、使用するマイ
クロ波の周波数および結晶化する温度近傍で、１０−３
以上である請求項１、２または３に記載の結晶化ガラス
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14668891A JPH04349131A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 結晶化ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14668891A JPH04349131A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 結晶化ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04349131A true JPH04349131A (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=15413330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14668891A Withdrawn JPH04349131A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 結晶化ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04349131A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011241133A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Hitachi Ltd | 結晶化ガラスとその製法 |
| US9540279B2 (en) | 2013-05-24 | 2017-01-10 | Corning Incorporated | Method of producing glass-ceramic |
| CN108328916A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-07-27 | 四川名微晶科技股份有限公司 | 微波晶化窑及利用微波加热制备微晶玻璃的方法 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP14668891A patent/JPH04349131A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011241133A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Hitachi Ltd | 結晶化ガラスとその製法 |
| US9540279B2 (en) | 2013-05-24 | 2017-01-10 | Corning Incorporated | Method of producing glass-ceramic |
| CN108328916A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-07-27 | 四川名微晶科技股份有限公司 | 微波晶化窑及利用微波加热制备微晶玻璃的方法 |
| CN108328916B (zh) * | 2018-04-11 | 2024-02-02 | 四川一名微晶科技股份有限公司 | 微波晶化窑及利用微波加热制备微晶玻璃的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111018356B (zh) | 一种高晶体含量的微晶玻璃及其制备方法 | |
| US9249045B2 (en) | Transparent lithium glass-ceramic material, production and use thereof | |
| US3252778A (en) | Method of making a high strength semicrystalline article | |
| CN113677637B (zh) | 玻璃板和其制造方法 | |
| EP1142841B1 (en) | Glass material, glass ceramic product, and process for producing the glass material | |
| EP2604583A1 (en) | Li2O-Al2O3-SiO2-BASED CRYSTALLIZED GLASS | |
| CN113698082B (zh) | 微晶玻璃成型体的制造方法 | |
| JP2007197310A (ja) | 結晶化ガラスおよびそれを用いた反射鏡基材並びに反射鏡 | |
| US5061307A (en) | Crystallized glass having natural-marble-like surface patterns and method of producing the same | |
| JP2004075441A (ja) | Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶性ガラス及び結晶化ガラス、ならびに該結晶性ガラス及び結晶化ガラスの製造方法 | |
| CN111072276A (zh) | 含复合澄清剂的锂铝硅微晶玻璃及其制备方法 | |
| US3892904A (en) | Glass ceramic article having a metallic coating layer in a localized area or its surface and method of making the same | |
| JPH04349131A (ja) | 結晶化ガラスの製造方法 | |
| CN111533457A (zh) | 一种铁电性能连续、可调谐的Bi2GeO5铁电微晶玻璃及其制备方法 | |
| CN103771711B (zh) | 高品质因数的微晶玻璃及其制备方法 | |
| JPS6153131A (ja) | 結晶化ガラスおよびその製造方法 | |
| CN112159110B (zh) | 一种通过控制析晶动力调整铁电性的储能玻璃陶瓷、制备方法及应用 | |
| JP2016040222A (ja) | 高周波用結晶化ガラスセラミックス誘電体およびその製造方法 | |
| CN110803868A (zh) | 一种透辉石增强云母基可加工微晶玻璃及其制备方法 | |
| CN108328916A (zh) | 微波晶化窑及利用微波加热制备微晶玻璃的方法 | |
| KR102137875B1 (ko) | Las계 결정화 유리 및 그 제조 방법 | |
| JPH04149090A (ja) | 結晶質誘電体薄膜の作成方法 | |
| CN109704584B (zh) | 一种含SrNb6O16相钛酸盐与铌酸盐复合的低介电损耗的玻璃陶瓷及制备方法 | |
| JPH04278123A (ja) | 電子レンジ | |
| JPH01115848A (ja) | ガラスセラミックスの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |