JPH04348990A - 光記録方法及び再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高感度で優れたコント
ラストの記録を行なうことのできる光記録媒体及び光記
録媒体への情報の記録・再生方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光を用いて記録を行なう方法とし
て、例えば、「オプティカル　　エンジニアリング（Ｏ
ｐｔｉｃａｌ　　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ）、Ｖｏｌ．
１５　　Ｎｏ．２　　Ｍａｒｃｈ−Ａｐｒｉｌ　　１９
７６年、ｐｐ９９〜“Ｒｅｖｉｅｗ　　ａｎｄ　　Ａｎ
ａｌｙｓｉｓ　　ｏｆ　　Ｏｐｔｉｃａｌ　　Ｒｅｃｏ
ｒｄｉｎｇ　　Ｍｅｄｉａ”」に記載されている様に、
光ビーム、例えばレーザー光を光記録媒体の記録層へ照
射することにより、記録層に変形や孔を生じさせるタイ
プや、バブルを形成させるタイプ、および光学特性を変
化させるタイプ等が知られている。

【０００３】そして、例えば、記録層に変形を生じさせ
て記録を行なうタイプの光記録媒体としては、基板上に
Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｉｎ等の低融点金属やシアニ
ン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒ
ドロコリン系、ポリメチン系、ナフトキノン系、ベンゼ
ンジチオールニッケル錯体等の染・顔料（有機色素）、
及びこれら有機色素との複合系の薄膜を設けて構成され
ている。

【０００４】これらの薄膜からなる光記録層は光ビーム
の照射を受け、その吸収率に応じて熱エネルギーにかえ
、そのヒートモードによって記録層が溶解又は昇華し、
記録ピットが形成される。

【０００５】ところで、近年上記の記録層材料のうち、
有機系色素が安価な光記録媒体を得ることができるため
注目されている。すなわち、色素記録媒体は、溶媒塗布
法により基板上に記録層として形成することができ、真
空蒸着法で形成される低融点金属化合物よりも、量産性
に優れている。

【０００６】有機色素を記録層に用いた光記録媒体の記
録ピット部では、有機色素の熱分解による脱色によって
反射率が低下し、かつ記録ピット部の変形による光学的
散乱の効果によって、記録ピット部における情報再生レ
ーザ光の反射光量が変化するために、記録情報を検知す
ることができる。

【０００７】しかし、一般に記録用光源として用いられ
る、半導体レーザの発振波長である長波長側に吸収特性
をもつ有機色素は、十分なＳ／Ｎ比を有する記録を行な
う為には、例えば８３０ｎｍの波長のレーザーに対して
記録感度が１００ｍＪ／ｃｍ２　以上必要であり、デー
タの転送速度を速める為に高速で記録するには、より大
出力のレーザー光線が必要となり、ハードウェアの耐久
性、適合性を考慮すると、併せて記録媒体の感度を高め
る必要がある。

【０００８】また、光記録媒体の中でカード状の外形を
有する光カードはＩＳＯ（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ
　　Ｏｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎ　　ｆｏｒ　　Ｓｔａｎ
ｄａｒｉｚａｔｉｏｎ）の規格から０．７４〜０．７６
ｍｍの厚さが要求されている。一方、光記録媒体の基板
表面のゴミやキズの影響を少なくするためには、基板の
厚みはできるだけ厚い方が有利であり、通常０．４〜０
．６ｍｍ程度の厚みが適している。また、保護基板は０
．１５〜０．４ｍｍ程度の厚みが要求されている。した
がって、上記の厚みの光カード媒体を得るためには、基
板上に設けられた記録層上に厚み０．５〜１ｍｍ程度の
中空部を設け、その上に保護基板を積層したエアー・ギ
ャップ構造とすることは困難である。従って、光カード
等の薄型の光記録媒体に於ては記録層上に保護層が接着
層を介して積層する密着構造のものが必然となる。

【０００９】しかしながら、密着構造を有する光記録媒
体にレーザー光源を用いて光記録を行った場合、中空構
造を有する光記録媒体と比較して、レーザー光の照射に
よって発生した熱が密着構造部に速やかに拡散し、かつ
密着された構造のために、レーザー光の照射により形成
される記録ピット部の熱変形が抑制され、また色素記録
媒体等の熱分解も抑制される。その結果、密着構造の光
記録媒体の記録感度は、中空構造の光記録媒体と比較し
て１／３〜１／５に低下する。

【００１０】この様な問題点を解決するものとして、本
出願人は特開昭６２−２３９４３７号公報に、記録層中
に有機色素と熱によってラジカルを生成する遊離基発生
化合物を含有させて光照射部で有機色素とラジカルを反
応させて脱色部を形成して記録を行なう、記録感度を向
上させた光記録媒体を開示している。

【００１１】しかしながら、この光記録媒体は、ピット
部の有機色素の反応が記録時には完全には終了していな
いと考えられ、記録コントラストが経時的に変化してし
まうという問題点が有り、また記録ピットの周辺部分に
も脱色領域が生じ、ピット径が拡大してしまうという問
題点がある。

【００１２】また、ノボティニ及びアレキサンドル（Ｎ
ｏｖｏｔｎｙ　　ａｎｄ　　Ａｌｅｘａｎｄｒｕ）「ジ
ャーナル　　オブ　　アプライド　　フィジクス（Ｊｏ
ｕｎａｌ　　ｏｆＡｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｈｙｓｉｃｓ）
」，Ｖｏｌ．５０，Ｎｏ．３，ｐｐ１２１５〜（１９７
９年３月）の論文には、耐熱性の有機色素を樹脂基板上
に積層して、レーザービームの照射によって基板中に有
機色素を拡散させてスペクトル特性を変化させることに
より記録を行なう方法が記載されている。しかしながら
、光記録媒体用基板への有機色素の拡散によるスペクト
ル特性の変化では、十分なコントラスト比（例えば光カ
ードの場合０．４以上）の記録を行なうことができなか
った。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高い
記録感度及び優れた耐久安定性を有する光記録媒体を提
供することにある。又、本発明の他の目的は、優れたＳ
／Ｎ比を示す記録を行なうことができる記録方法を提供
することにある。更に、本発明の他の目的はコントラス
トの優れた再生を行なうことのできる再生方法を提供す
ることにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の第一の発
明は、所定波長を有する記録用光ビーム及び該所定波長
と同じ波長を有する再生用光ビームもしくは該所定波長
と異なる波長を有する再生用光ビームを利用する形式の
もので、基板と、有機色素を含有する記録層及び記録補
助層を有する多層膜とを具備し、該記録補助層は該記録
用光ビームの照射によって該有機色素との相溶状態を形
成し該光記録媒体に光学的に検出可能な変化を生じさせ
るものであることを特徴とする光記録媒体である。

【００１５】本発明の第二の発明は、基板と、有機色素
を含有する記録層及び記録補助層を有する多層膜とを具
備し、選択的な該有機色素と該記録補助層との相溶状態
の形成によって情報が記録されてなることを特徴とする
情報レコードである。

【００１６】本発明の第三の発明は、所定波長を有する
記録用光ビームと、上記と同じ波長を有する再生用光ビ
ームもしくは異なる波長を有する再生用光ビームを利用
する形式のもので、基板と、有機色素を含有する記録層
及び記録補助層を有する多層膜とを具備する光記録媒体
に、該記録用光ビームを照射して該有機色素と該記録補
助層との相溶状態を形成させて記録を行なうことを特徴
とする光記録方法である。

【００１７】本発明の第四の発明は、基板と、有機色素
を含有する記録層及び記録補助層を有する多層膜を具備
し、該有機色素と該記録補助層との相溶状態の選択的な
形成によって情報が記録されてなる情報レコードに、再
生用光ビームを照射して記録層の非記録部と相溶状態の
形成部のスペクトル特性の差を検知して情報の再生を行
なうことを特徴とする再生方法である。

【００１８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光記録媒体は、所定波長を有する記録用光ビーム及び該
所定波長と同じ波長を有する再生用光ビームもしくは該
所定波長と異なる波長を有する再生用光ビームを利用す
る形式のもので、基板と、有機色素を含有する記録層及
び記録補助層を有する多層膜とを具備し、該記録補助層
は、該記録用光ビームの照射によって、該有機色素との
相溶状態を形成し該光記録媒体に光学的に検出可能な変
化を生じさせるものである。

【００１９】即ち、本発明は、前述の従来の光記録媒体
の様に記録用光ビームの照射部に於て有機色素を反応さ
せて記録するのではなく、有機色素の構造を実質的に破
壊することなく、記録補助層に含まれる極性基と有機色
素間の相互作用、詳しくは、極性基と有機色素中のπ電
子との相互作用が生じる様な相溶状態を記録光照射部に
形成して有機色素の吸収帯を長波長側（深色効果）もし
くは短波長側（浅色効果）に移動させ、スペクトル特性
を有機色素記録層と変化させることにより記録を行なう
ものである。本発明によれば、有機色素層と記録補助層
の相溶状態は記録用光ビームの照射によって瞬時に形成
された後、急冷されて固定される為、この状態は熱的に
安定で記録を経時的に安定に保持でき、保存安定性に優
れた光記録媒体を得ることができるものである。

【００２０】又、本発明は有機色素との相互作用を生じ
させる機能を基板から分離したことにより、記録に最適
なスペクトル特性の変化を与える相溶状態をもたらす材
料を用いることができ、高性能の光記録媒体が得られる
ものである。

【００２１】次に、本発明を図を用いて詳細に説明する
。図１は本発明の光記録媒体を示す模式的断面図であり
、図１（ａ）は本発明の光記録媒体の一実施態様を、図
１（ｂ）は他の実施態様を示す模式的断面図である。

【００２２】本発明の図１（ａ）に示す光記録媒体は、
基板２上に記録層３、極性基を含むポリマーを含有する
記録補助層５が順次積層され、接着層６を介して保護基
板７が積層されている。

【００２３】また、本発明の図１（ｂ）に示す光記録媒
体は、プレフォーマットパターンの凹凸を有する基板２
上に、有機色素を含有する記録層３、該記録層３の上に
隔離層４及び極性基を含むポリマーを含有する記録補助
層５が順次積層されてなる多層膜８を設け、さらにその
上に接着層６を介して保護基板７を積層してなるもので
ある。

【００２４】そして、該隔離層４は通常は記録層３と記
録補助層５の間を離間して、この２層間での相互作用の
発生を防止し、該光記録媒体に記録用光ビーム９が照射
されると、図２に示す様に記録層に於て発生した熱によ
って溶融して破壊されるよう構成されている。又、記録
補助層５は、隔離層の破壊の結果、記録層３と接触する
と共に、該記録用光ビームの照射によって少なくとも記
録層３と記録補助層５の界面に於て、記録補助層中の極
性基が有機色素に作用して有機色素の吸収帯を移動させ
て再生用光ビームに対するスペクトル特性を変化させる
様な相溶状態を形成し、光記録媒体に光学的に検出可能
な変化（ピット１０）を生じさせるものである。

【００２５】そして、本発明の光記録媒体への情報の記
録方法は、光記録媒体１に記録用光ビーム９を照射して
、少なくとも記録層３と極性基を含むポリマーを含有す
る記録補助層５の界面に於て、有機色素と記録補助層と
の間で該極性基が該有機色素に作用して、再生用光ビー
ムに対する有機色素のスペクトル特性が変化する様な相
溶状態を形成せしめて記録を行なうものである。又は、
上記光記録媒体１に記録用光ビーム９を照射して、隔離
層４を破壊すると共に該記録層と該記録補助層の間で、
極性基が該有機色素に作用して再生用光ビームに対する
有機色素のスペクトル特性が変化する様な相溶状態を形
成させて記録を行なうものである。

【００２６】本発明に於ける相溶状態とは、有機色素が
記録補助層中に拡散した混合状態及び／又は、該記録補
助層中の極性基が記録層中に拡散した混合状態及び／又
は、有機色素が該記録補助層と溶解した状態で、且つ記
録補助層中の極性基が有機色素に作用して有機色素の吸
収スペクトルにおける吸収帯が移動した状態である。

【００２７】本発明に於て、情報の記録は有機色素の反
応による脱色を主とするものでなく、上記した相溶状態
の有機色素と記録補助層間での極性基と有機色素のπ電
子との相互作用によって生じるスペクトル特性の変化を
主として記録に用いるもので、この相溶状態が熱的安定
性に優れ、且つエネルギー的にも安定化しているため、
保存安定性の良い高性能な光記録媒体を得ることができ
る。

【００２８】本発明に於て、記録補助層としては、有機
色素との相溶状態を形成したとき有機色素の吸収スペク
トルの吸収帯を移動させることのできる極性基を含むポ
リマーを含有することが好ましい。即ち、極性基を含む
ポリマーは記録用光ビームの照射によって軟化溶融し、
有機色素と相溶状態を形成する。

【００２９】一方、有機色素は一般に共役二重結合を有
し、その分子中のπ電子の移動によって光の吸収、及び
反射現象が生じていると考えられている。そして、本発
明における相溶状態に於ては、有機色素と極性基の接近
によってπ電子の移動を極性基が阻害もしくは促進させ
るため有機色素の吸収スペクトルの吸収帯が、短波長側
もしくは長波長側に移動すると考えられる。

【００３０】本発明の極性基としては、例えば、吸収帯
を短波長側に移動させるものとして、カルボキシル基、
アミド基、アミン水酸基などが挙げられ、また、吸収帯
を長波長側に移動させるものとして、ハロゲンを有する
基などが挙げられる。

【００３１】そして、本発明に於て、極性基を含むポリ
マーとは、上記極性基を有する化合物をポリマーと混合
したものや上記極性基を有する化合物をポリマーに含侵
させたものをいう。

【００３２】具体的には、 ■　　ナイロン（アミド基を有するポリマー）やポリエ
ステル系ポリマーに極性化合物として、マレイン酸，フ
タル酸，無水フタル酸，無水マレイン酸やテレフタル酸
エステル，脂肪酸エステル，５フッ化プロパノールなど
を２〜３０ｗｔ％、好ましくは５〜１０ｗｔ％混合させ
たものや、

【００３３】■　　比較的に自由体積の大きいポリマー
（例えば、セルロース誘導体、芳香族アミド等）中に極
性化合物として、マレイン酸，フタル酸，無水マレイン
酸，テレフタル酸エステル，無水フタル酸，脂肪酸エス
テル，カルボン酸アミド類，５フッ化プロパノールなど
を５〜３０ｗｔ％、特に１０〜２０ｗｔ％含侵させたも
のが用いられる。

【００３４】■の極性基を含有するポリマーは、ポリマ
ーペレットと極性化合物を混合した後、押し出し成形す
ることで製造でき、又、■のポリマーは、溶媒キャステ
ィング法で製造できる。即ち、有機溶媒中に膨潤剤とし
て、ホルムアミド、水、過塩素酸マグネシウム、過塩素
酸カリウム、塩化カリウム等を１０〜２００ｗｔ％添加
し、更にポリマーを溶解させた後、ガラス基板にドクタ
ーブレード等で塗布した後、溶媒を蒸発させて多孔質の
フィルムを作製し、上記極性化合物中に浸漬、もしくは
上記極性化合物をポリマーの貧溶媒に溶解した溶液中に
浸漬して作製できる。

【００３５】そして、本発明に於て、有機色素にカチオ
ン性色素を用いる場合、ナイロンやポリエステル系ポリ
マーにマレイン酸、無水マレイン酸、フタル酸、無水フ
タル酸、テレフタル酸エステル、脂肪酸エステルを混合
させたものは色素の吸収帯を短波長側に大きく移動させ
ることができるとともに相溶状態が安定で好ましい。

【００３６】又、本発明の記録層に用いる有機色素とし
ては、例えば、アントラキノン誘導体（特に、インダス
レン骨格を有するもの）、ジオキサジン化合物及びその
誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナンスレン
誘導体、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、メロ
シアニン系化合物、ピリリウム系化合物、キサンテン系
化合物、トリフェニルメタン系化合物、クロコニウム系
色素、アゾ色素、クロコン類、アジン類、インジゴイド
類、ポリメチン系色素、アズレン類、スクアリウム誘導
体、硫化染料及び金属のジチオラート錯体等を挙げるこ
とができる。

【００３７】これらの有機色素の中でも、ポリメチン系
やシアニン系に代表されるカチオン性色素は記録補助層
との混合状態を安定に維持できる点で好ましく、更に下
記に示すカチオン性色素は記録感度に優れ、又、相溶状
態を極めて安定に維持できると共に、スペクトル特性が
より大きく変化するために良好なコントラストの記録を
行なうことができ特に好ましい。

【００３８】そのカチオン性色素を以下に挙げる。一般
式（Ｉ）で表わされるポリメチン系色素。

【００３９】

【化１３】

【００４０】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子、置換
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルケニル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、置換
もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換のス
チリル基及び置換もしくは未置換の複素環基から選ばれ
る基を示す。ｒ１　′，　ｒ２　′は水素原子、置換も
しくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換の環式
アルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換
もしくは未置換のアラルキル基及び置換もしくは未置換
のアリール基から選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌ
は０，１又は２で、Ｘ−　はアニオンを意味する。

【００４１】一般式（ＩＩ）で表わされる色素。

【００４２】

【化１４】

【００４３】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ及びＸ−　は上記と
同義で、ｒ１　〜ｒ５　は水素原子、ハロゲン原子、置
換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換
のアリール基を示す。Ｙは５員環又は６員環を完成する
に必要な原子群を有する２価の有機残基を示す。ｍ，ｎ
は０，１又は２である。

【００４４】一般式（ＩＩＩ）で表わされる色素。

【００４５】

【化１５】

【００４６】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ，　ｒ１　，ｒ２　
，ｒ３　，Ｙ及びＸ−　は上記と同義である。

【００４７】一般式（ＩＶ）で表わされる色素。

【００４８】

【化１６】

【００４９】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ，　ｒ１　，ｒ２　
，ｒ３　，ｒ４　，ｍ及びｎは上記と同義で、Ｚ−　は

【００５０】

【化１７】

【００５１】を示す。

【００５２】一般式（Ｖ）、（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）で
表わされるアズレニウム系色素。

【００５３】

【化１８】

【００５４】

【化１９】

【００５５】

【化２０】

【００５６】式中、Ｒ１　〜Ｒ７　は水素原子、ハロゲ
ン原子（塩素原子、臭素原子、沃素原子）又は１価の有
機残基を表わす。１価の有機残基としては、広範なもの
から選択することができる。

【００５７】又、Ｒ１　とＲ２　，Ｒ２　とＲ３　，Ｒ
３　とＲ４　，Ｒ４　とＲ５　，Ｒ５　とＲ６　および
Ｒ６　とＲ７　の組合せのうち少なくとも１つの組合せ
で置換又は未置換の縮合環を形成してもよい。縮合環と
しては５員，６員，または７員環の縮合環であり、芳香
族環（ベンゼン、ナフタレン、クロロベンゼン、ブロモ
ベンゼン、メチルベンゼン、エチルベンゼン、メトキシ
ベンゼン、エトキシベンゼンなど）、複素環（フラン環
、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジ
ン環、キノリン環、チアゾール環など）、脂肪族環（ジ
メチレン、トリメチレン、テトラメチレンなど）が挙げ
られる。Ｘ−　は上記と同義でアニオンを示す。

【００５８】Ｆは２重結合によって結合した２価の有機
残基を表わす。かかるＦを含む本発明の具体的な例とし
て、下記一般式（１）〜（１１）で表わされるものを挙
げることができる。但し、式中のＱ＋　は下記のアズレ
ニウム塩核を示し、式中のＱ＋を除く右辺がＦを示して
いる。

【００５９】アズレニウム塩核（Ｑ＋　）

【００６０】

【化２１】

【００６１】一般式（１）

【００６２】

【化２２】

【００６３】一般式（２）

【００６４】

【化２３】

【００６５】一般式（３）

【００６６】

【化２４】

【００６７】Ｒ１　′〜Ｒ７　′はＲ１　〜Ｒ７　と同
義である。又、Ｑ＋　で示すアズレニウム塩核と前記式
（３）における右辺のアズレン塩核とは対称であっても
よく又は非対称であってもよい。

【００６８】一般式（４）

【００６９】

【化２５】

【００７０】一般式（５）

【００７１】

【化２６】

【００７２】一般式（６）

【００７３】

【化２７】

【００７４】一般式（７）

【００７５】

【化２８】

【００７６】式中、Ｍは含窒素複素環を完成するに必要
な非金属原子群を表わす。

【００７７】一般式（８）

【００７８】

【化２９】

【００７９】式中、Ｒ１０は置換又は未置換のアリール
基あるいはそれらのカチオン基を表わす。ｐは１から８
までの整数を表わす。ｑは１又は２である。

【００８０】一般式（９）

【００８１】

【化３０】

【００８２】式中、Ｒ１１は複素環基あるいはそれらの
カチオン基を表わす。

【００８３】一般式（１０）

【００８４】

【化３１】

【００８５】式中、Ｒ１２は水素原子、アルキル基、置
換もしくは未置換のアリール基を表わす。

【００８６】一般式（１１）

【００８７】

【化３２】

【００８８】一般式（１２）

【００８９】

【化３３】

【００９０】式中、Ｚ２　は置換されてもよいピラン、
チアピラン、セレナピラン、テルロピラン、ベンゾピラ
ン、ベンゾチアピラン、ベンゾセレナピラン、ベンゾテ
ルロピラン、ナフトピラン、ナフトチアピラン又はナフ
トセレナピラン、ナフトテルロピランを完成するに必要
な原子群を示す。Ｌは、硫黄原子、酸素原子又はセレン
原子、テルル原子を表わす。Ｒ１３及びＲ１４は水素原
子、アルコキシル基、置換もしくは未置換のアリール基
、アルアルケニル基、複素環基を表わす。

【００９１】次に、好適な色素として一般式（ＶＩＩＩ
），（ＩＸ），（Ｘ），（ＸＩ）で表わされる色素を示
す。

【００９２】一般式（ＶＩＩＩ）

【００９３】

【化３４】

【００９４】一般式（ＩＸ）

【００９５】

【化３５】

【００９６】一般式（Ｘ）

【００９７】

【化３６】

【００９８】一般式（ＸＩ）

【００９９】

【化３７】

【０１００】上記一般式（ＶＩＩＩ），（ＩＸ），（Ｘ
），（ＸＩ）中で、Ｌ１　，Ｌ２　は置換された窒素原
子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子又はテルル原子を
示し、Ｚ１　は置換されてもよいピリリウム、チオピリ
リウム、セレナピリリウム、テルロピリリウム、ベンゾ
ピリリウム、ベンゾチオピリリウム、ベンゾセレナピリ
リウム、ベンゾテルロピリリウム、ナフトピリリウム、
ナフトチオピリリウム、ナフトセレナピリリウム又はナ
フトテルロピリリウムを完成するに必要な原子群、Ｚ２
　は置換されてもよいピラン、チオピラン、セレナピラ
ン、テルロピラン、ベンゾピラン、ベンゾチオピラン、
ベンゾセレナピラン、ベンゾテルロピラン、ナフトピラ
ン、ナフトチオピラン、ナフトセレナピラン又はナフト
テルロピランを完成するに必要な原子群を示す。ｓは０
又は１の整数である。Ｒ１５は置換または未置換のアリ
ール基、もしくは置換または未置換の複素環基を示す。 ｒ３　′〜ｒ７′は前述のｒ１　′，　ｒ２　′と同義
である。 Ｋ，ｎ，Ｍ，ｒ１′，ｒ２′，ｒ１，Ｙ，Ｚ−，Ｘ−は
前述と同義である。

【０１０１】上記一般式中の略号についてさらに詳しく
述べる。Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは、水素原子又はアルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ
ｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−ア
ミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチ
ル基など）を示し、さらに他のアルキル基、例えば置換
アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒ
ドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−ア
セトキシエチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキ
シエチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエ
チル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、
３−スルフェートプロピル基、４−スルフェートブチル
基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、
３−（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（アセ
チルスルファミル）ブチル基など）、環式アルキル基（
例えば、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（ビニ
ル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキ
セニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ドデシニル基
、プレニル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル
基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチ
ルメチル基など）、置換アラルキル基（例えば、カルボ
キシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベンジ
ル基など）を包含する。

【０１０２】ｒ１　′，ｒ２　′，ｒ３　′，ｒ４　′
，ｒ５　′，ｒ６　′，ｒ７　′は水素原子又はアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基
、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ
−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オ
クチル基など）を示し、さらに他のアルキル基、例えば
置換アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３
−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２
−アセトキシエチル基、カルボキシメチル基、２−カル
ボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スル
ホエチル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル
基、３−スルフェートプロピル基、４−スルフェートブ
チル基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル
基、３−（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（
アセチルスルファミル）ブチル基など）、環式アルキル
基（例えば、シクロヘキシル基など）、置換もしくは未
置換のアルケニル基（ビニル基、プロペニル基、ブテニ
ル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クテニル基、ドデシニル基、プレニル基など）、アラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフ
チルメチル基、β−ナフチルメチル基など）、置換アラ
ルキル基（例えば、カルボキシベンジル基、スルホベン
ジル基、ヒドロキシベンジル基など）を包含する。

【０１０３】さらに、Ｒ１　，Ｒ２　，Ｒ３　，Ｒ４　
およびＲ５　は置換もしくは未置換のアリール基（例え
ば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ジプロピルア
ミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル基、ジフェ
ニルアミノフェニル基など）、置換もしくは未置換のア
リール基（フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル
基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ジメトキシフェニ
ル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル
基、ニトロフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ジ
メチルアミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル基
など）を示す。

【０１０４】ｋ，ｓは０又は１で、Ｌ，　ｍ，ｎは０，
１又は２である。

【０１０５】ｒ１　，ｒ２　，ｒ３　，ｒ４　，ｒ５　
は水素原子、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子など）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基
、２−エチルヘキシル基、ｔ−オクチル基など）、アル
コキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基など）、置換もしくは未置換のアリール基（フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロフェ
ニル基、ニトロフェニル基、ジメチルアミノフェニル基
、α−ナフチル基、β−ナフチル基など）を示す。

【０１０６】Ｙは２価の炭化水素基で、例えば

【０１０
７】

【化３８】−ＣＨ２　−ＣＨ２　−，−（ＣＨ２　）３
　−，

【０１０８】などを表わし、これらの５員環又は
６員環は、ベンゼン環、ナフタレン環などと縮合されて
いてもよい。

【０１０９】Ｒ１　〜Ｒ７　及びＲ１　′〜Ｒ７　′は
水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子など）の他に、置換もしくは未置換の
アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミ
ル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘ
キシル基、ｔ−オクチル基など）、置換もしくは未置換
のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基など）、置換もしくは未置換のアリール
基（フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、ト
リメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ニトロフェニル基、ジメチルアミノフェニル
基、ジエチルアミノフェニル基、α−ナフチル基、β−
ナフチル基、ジプロピルアミノフェニル基、ジベンジル
アミノフェニル、ジフェニルアミノフェニル基など）、
置換もしくは未置換のアラルキル基（ベンジル基、２−
フェニルエチル基、２−フェニル−１−メチルエチル基
、ブロモベンジル基、２−ブロモフェニルエチル基、メ
チルベンジル基、メトキシベンジル基、ニトロベンジル
基）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、バレリル基、ベンゾイル基、トリオイル基、ナフ
トイル基、フタロイル基、フロイル基など）、置換もし
くは未置換アミノ基（アミノ基、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、アセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基など）、置換もしくは未置換ス
チリル基（スチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジ
エチルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基
、メトキシスチリル基、エトキシスチリル基、メチルス
チリル基など）、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ
ル基、シアノ基又は置換もしくは未置換アリールアゾ基
（フェニルアゾ基、α−ナフチルアゾ基、β−ナフチル
アゾ基、ジメチルアミノフェニルアゾ基、クロロフェニ
ルアゾ基、ニトロフェニルアゾ基、メトキシフェニルア
ゾ基、トリルアゾ基など）、置換もしくは未置換の複素
環基（例えば、ピリジル基、キノリル基、レピジル基、
メチルピリジル基、フリル基、チエニル基、インドリル
基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ−エチルカルバゾ
リル基など）、２，２−ジフェニルビニル基、２−フェ
ニル−２−メチルビニル基、２−（ジメチルアミノフェ
ニル）−２−フェニルビニル基、２−（ジエチルアミノ
フェニル）−２−フェニルビニル基、２−（ジベンジル
アミノフェニル）−２−フェニルビニル基、２，２−ジ
（ジエチルアミノフェニル）ビニル基、２，２−ジ（メ
トキシフェニル）ビニル基、２，２−ジ（エトキシフェ
ニル）ビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２
−メチルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニル）−
２−エチルビニル基など）を挙げることができる。

【０１１０】又Ｒ１　′〜Ｒ７　′もＲ１　〜Ｒ７　と
同様に縮合環を形成しても良い。Ｒ８　は、水素原子、
ニトロ基、シアノ基、アルキル基（メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基など）又はアリール基（フェニ
ル基、トリル基、キシリル基など）を表わす。

【０１１１】Ｒ９　は、アルキル基（メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基など）、置換アルキル基（２
−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエチル基、２−エ
トキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−メト
キシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−クロロ
プロピル基、３−ブロモプロピル基、３−カルボキシプ
ロピル基など）、環式アルキル基（シクロヘキシル基、
シクロプロピル基）、アリル基、アラルキル基（ベンジ
ル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基
、４−フェニルブチル基、α−ナフチルメチル基、β−
ナフチルメチル基）、置換アラルキル基（メチルベンジ
ル基、エチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメ
チルベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基
など）、アリール基（フェニル基、トリル基、キシリル
基、α−ナフチル基、β−ナフチル基）、又は置換アリ
ール基（クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリ
クロロフェニル基、エチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ジメトキシフェニル基、アミノフェニル基、ニト
ロフェニル基、ヒドロキシフェニル基など）を表わす。

【０１１２】Ｒ１０は置換又は未置換のアリール基（フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、α−
ナフチル基、β−ナフチル基、アントラリル基、ピレニ
ル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、ト
リメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキ
シフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基
、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモ
フェニル基、トリブロモフェニル基、エチルフェニル基
、ジエチルフェニル基、ニトロフェニル基、アミノフェ
ニル基、ジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフ
ェニル基、ジベンジルアミノフェニル基、ジプロピルア
ミノフェニル基、モルホリノフェニル基、ピペリジニル
フェニル基、ピペラジノフェニル基、ジフェニルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、ベンゾイルア
ミノフェニル基、アセチルフェニル基、ベンゾイルフェ
ニル基、シアノフェニル基など）を表わす。

【０１１３】Ｒ１１はフラン、チオフエン、ベンゾフラ
ン、チオナフテン、ジベンゾフラン、カルバゾール、フ
ェノチアジン、フェノキサジン、ピリジンなどの複素環
から誘導された１価の複素環基を表わす。

【０１１４】Ｒ１２は水素原子、アルキル基（メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基など）又は置換もし
くは未置換のアリール基（フェニル基、トリル基、キシ
リル基、ビフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ニ
トロフェニル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフ
ェニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノ
フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、アント
ラリル基、ピレニル基など）を表わす。

【０１１５】Ｒ１３およびＲ１４は水素原子、アルキル
基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など）
、アルコキシル基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、エトキシエチル基、メトキシエチル基など）、ア
リール基（フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロ
フェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基など）
、置換もしくは未置換のスチリル基（スチリル基、ｐ−
メチルスチリル基、ｏ−クロロスチリル基、ｐ−メトキ
シスチリル基など）、置換もしくは未置換の４−フェニ
ル１，３−ブタジエニル基（４−フェニル１，３−ブタ
ジエニル基、４−（ｐ−メチルフェニル）−１，３−ブ
タジエニル基など）、又は置換もしくは未置換の複素環
基（キノリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、フリル
基など）を表わす。

【０１１６】Ｍはピリジン、チアゾール、ベンゾチアゾ
ール、ナフトチアゾール、オキサゾール、ベンゾオキサ
ゾール、ナフトオキサゾール、イミダゾール、ベンズイ
ミダゾール、ナフトイミダゾール、２−キノリン、４−
キノリン、イソキノリン又はインドールなどの含窒素複
素環を完成するに必要な原子群で、ハロゲン原子（フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
ど）、アリール基（フェニル基、トリル基、キシリル基
など）、アルアルキル基（ベンジル基、ｐ−トリルメチ
ル基など）によって置換されていてもよい。

【０１１７】Ｘ−　はアニオンで塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼンスルホ
ン酸塩イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン、メチ
ル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩
イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テトラフェニ
ルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベ
ンゼンスルフィン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフル
オロ酢酸塩イオン、プロピオン酸塩イオン、安息香酸塩
イオン、シュウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン
酸塩イオン、オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオ
ン、クエン酸塩イオン、一水素二リン酸塩イオン、二水
素一リン酸塩イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、ク
ロロスルホン酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン
、トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフル
オロアンチモン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タ
ングステン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸
塩イオンなどを表わす。

【０１１８】これらの有機色素の具体例を表１にあげる
が、これらに限定はされるものではない。また、Ｚ−　
が

【０１１９】

【化３９】

【０１２０】のときをＺａ−　、Ｚ−　が

【０１２１】

【化４０】

【０１２２】のときをＺｂ−　として表わす。

【０１２３】

【表１】

【０１２４】

【表２】

【０１２５】

【表３】

【０１２６】

【表４】

【０１２７】

【表５】

【０１２８】

【表６】

【０１２９】

【表７】

【０１３０】

【表８】

【０１３１】

【表９】

【０１３２】

【表１０】

【０１３３】

【表１１】 又、これらの有機色素と共に、耐光性の向上を目的とし
て赤外線吸収剤などのスタビライザーや成膜性を向上さ
せるために、記録層のスペクトル特性を、有機色素単独
からなる記録層のスペクトル特性と変化させない様なバ
インダーを添加してもよい。

【０１３４】又、記録層の膜厚としては、基板上に形成
したプリフォーマットを精度良く再生できる様に記録層
が再生用光ビームに対して出来るだけ高い反射率、具体
的には８％以上の反射率を示すことが望ましく、少なく
とも反射率１０％を示す厚さとすることが好ましく、特
に反射率が最大値を示す膜厚とするのが好ましい。

【０１３５】また、本発明に於て、隔離層４としては、
記録層の発熱によって溶融、変形又は溶融及び変形を生
じ記録層と記録補助層を連通せしめ、また非記録時には
、記録層と記録補助層との間の相互作用を防止し、更に
記録層と接触している状態では相互に拡散しないか、或
いは拡散しても記録層のスペクトル特性の変化が殆んど
生じないものが好ましい。

【０１３６】この様な隔離層の材料としては、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル、酢
酸セルロース、ポリカーボネート、ポリスチレンなどの
ポリマーやＳｉＯ２　、ＳｉＯ、ＣＳ２　、Ｓｉ３　Ｎ
４　などの無機材料を用いることができる。隔離層の厚
さとしては、レーザ光の照射による記録時に記録層に生
じる熱で溶融又は変形もしくは記録層のわずかな変形に
追従して穴が形成されることが必要なことから、通常５
ｎｍ〜２５０ｎｍ、特に２０ｎｍ〜２００ｎｍ、好まし
くは３０〜１００ｎｍが望ましい。

【０１３７】この隔離層を設けることにより、記録層と
記録補助層が直接接している光記録媒体よりも耐久安定
性を向上させることができる。又、記録感度をこの隔離
層を設けることによって、記録層と記録補助層が直接接
している光記録媒体に比べ実質的に記録感度を低下させ
ることができ、高強度の再生用光ビームを使用しても該
光記録媒体に光学的変化を生じさせることがなく、高い
コントラストの信号を再生することができる。

【０１３８】なお、この隔離層としてポリマーを用いる
場合、ポリマー中に記録用光ビームを吸収して発熱する
材料、例えば記録用光ビームの波長域に吸収極大を有す
る有機色素を含有させた場合、隔離層の形成によって低
下した記録感度を或る程度回復させることができ、良好
な記録感度を有し、且つ記録された情報を高いコントラ
スト比で再生可能な、高性能の光記録媒体を得ることが
できる。隔離層中に有機色素を分散させる場合、記録補
助層との接触による拡散でスペクトル特性の変化が生じ
ない様に含有量を１〜５ｗｔ％、特に１〜３ｗｔ％とす
ることが好ましい。

【０１３９】本発明において、基板２はガラス板、透明
セラミックス板、ＰＶＣ、ポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリオレフィン樹
脂等などの透明プラスチック板などを使用することがで
きる。特に、光学的に複屈折が無く、かつ硬くて傷の付
きにくいポリメチルメタクリレートが好ましい。基板は
光学的に透明材料であることが好ましい。又、これらの
基板の表面に、トラッキング用の溝やプレピット等が形
成されていてもよい。

【０１４０】更にまた、保護基板７としては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルフォン
、塩化ビニル等を用いることができるが、特に薄い保護
基板には屈曲に対して強く印刷用のインク等の密着性が
良く、かつ安価なポリカーボネートが好ましい。

【０１４１】次に、本発明の光記録媒体は、例えば、基
板２上に有機色素を含有する記録層３を公知の塗布方法
、例えば、ディップコート、スプレーコート、スピナー
コート、バーコート、ブレードコート、ロールコート、
カーテンコート等の方法や、蒸着、スパッタリング等の
真空成膜法を用いて所定の厚さに形成する。次いで、記
録層３上に塗布、蒸着、或いはフィルムの積層によって
隔離層４を所定の厚さに形成し、更に隔離層４上に記録
補助層５を前述のポリマーの塗布もしくは前述のポリマ
ーをフィルムとしたものを積層して形成した後、保護基
板７を接着層６を介して貼り合わせることで製造できる
。また、記録補助層５にフィルムを用いる場合、該フィ
ルム上に隔離層４及び記録層３を順次積層して多層膜を
形成し、図１に示す様に、この多層膜を基板もしくは保
護基板上に接着層６を用いて固定することによっても製
造できる。

【０１４２】接着層６としては、シリコン系常温硬化接
着剤、エポキシ系常温硬化接着剤、ホットメルト系接着
剤等の常温又は比較的低温で硬化、接着するタイプが好
ましい。

【０１４３】次に、本発明の光記録媒体を用いた情報の
記録及び再生方法について図３を用いて説明する。先ず
、情報の記録モードについて説明する。図３に於て、１
は記録・再生装置の駆動手段（不図示）で駆動されてい
る本発明に係る光記録媒体である。ホストコンピュータ
ーから送られたデータはコントローラーにてパラレルデ
ータからシリアルデータへの変換、エラー訂正符号の付
加等が行なわれた後、変調回路３１によりシリアルデー
タはコード信号に変換される。また、光ヘッド３０はコ
ントローラによって光記録媒体１の記録／再生を行なう
目的のトラック上に移動させられる。そして、コード信
号に変換されたデータはレーザダイオードドライブ回路
３２によってレーザダイオード３３に送られてデータの
変調に応じて高レベルと低レベルとの間で強度の変化す
る記録用光ビームが放射される。

【０１４４】記録用光ビームは偏光ビームスプリッター
（ＰＢＳ）３４を通った後、１／４波長板（ＱＷＰ）３
５を通って円偏光に変わり、集光レンズ３６によって直
径約１μｍのスポットに集束されつつ光記録媒体１の基
板２に入射し記録層３を照射する。そして、記録用光ビ
ームの強度が高レベルにあるときは、光記録媒体の記録
層で発生した熱によって隔離層が破壊し、記録層と記録
補助層が相溶状態となって固定され、低レベルにあると
きは隔離層が破壊されない。その結果、相溶状態となっ
ている部位１０′は記録層のスペクトル特性が変化し情
報が記録され情報レコードが形成される。又このとき、
記録用光ビームの周波数と同一もしくはその近傍の領域
に吸収極大波長を示す有機色素を隔離層に含有させた場
合、高い記録感度が得られる。又、本発明に於て、記録
補助層は記録及び／又は再生光の入射方向に対して記録
層の反対側に設けるのが好ましい。

【０１４５】次に、本発明の光記録媒体に記録された情
報の再生方法について説明する。即ち、再生モードに於
ては、レーザダイオード３３の変調，制御系３１，３２
を適当に調整しレーザ出力の強度に変動を与えない。そ
して、レーザダイオードからの出力レベルは情報レコー
ドの隔離層の破壊に必要なレベルより小さい値にセット
する。そして、レーザビームは、ＰＢＳ３４、ＱＷＰ３
５、集光レンズ３６を経て、情報レコード１ａの記録層
面に基板２を介して集束される。次いで、記録層面で反
射された光は、再びＱＷＰを通って偏光面が入射光と９
０°異なりＰＢＳ３４で反射され光検出器３７に入る。

【０１４６】光検出器３７に入る光の強度は，集束ビー
ムがピット１０を有する記録層のピット部１０上を通過
することにより変化する。光検出器３７の出力はプリア
ンプ３８で増幅され、マトリックス回路３８にて再生信
号、フォーカスサーボ及びトラッキングサーボ用の信号
となる。次いで、マトリックス回路を出た再生信号はコ
ンパレータ３９にてデジタル信号に変換された後、ＰＬ
Ｌ回路でクロック信号を抽出し、このクロック信号を用
いてデータ同期検出系４０にて再生信号の同期復調を行
なう。そして、復調回路４１にて変調と逆のアルゴリズ
ムで元のデータに戻された後、光ディスクコントローラ
ーに送られ、ホストコンピューターに読み取られる。

【０１４７】このとき、再生用光ビームの波長を記録層
の非記録部の反射極大波長、もしくはその近傍に設定す
ると、記録部と非記録部との間のコントラストをより向
上させることができる。

【０１４８】又、記録用光ビームと再生用光ビームの波
長を変化させてもよく、例えば記録用光ビームの波長λ
１　、再生用光ビームの波長をλ２　としたとき、記録
層に用いる有機色素として反射極大波長がλ２　近傍に
ある有機色素を用い、隔離層に吸収極大波長がλ１　近
傍にある有機色素を含有させることにより、再生用光ビ
ームの強度を大きくすることができるため記録コントラ
ストが向上する。又、このとき、λ１　とλ２　の関係
を、λ２　≦　　λ１　とした場合、再生光による隔離
層の破壊を完全に防止できるので好ましい。

【０１４９】以上説明した様に、本説明は有機色素から
なる記録層に隔離層を介して記録補助層を積層して構成
されているので、基板を通して比較的弱い光記録レーザ
光（例えば、スポット径３μｍ、レーザパワー３ｍＷ、
レーザ照射時間１０〜５０μｓｅｃ）を照射すると、有
機色素の極一部が熱分解するとともに、発生した熱によ
って前記有機色素からなる記録層と記録補助層の間に形
成されている隔離層が溶融し、穴が形成される。その結
果、溶融した色素分子が、該記録補助層に拡散及び／又
は記録補助層が溶融し色素層に拡散し記録補助層と色素
層との界面に色素と反応性記録層との混合状態が形成さ
れる。この結果、記録補助層内の極性基（例えば、アミ
ド基、エーテル基、カルボニル基）と色素分子の相互作
用により色素分子間の配列が変化し、記録レーザ光の照
射部で有機色素記録層の反射率の変化が生じ、記録がな
されるものである。

【０１５０】そして、本発明によれば、有機色素と記録
補助層の相互作用を利用して記録を行なうため、従来知
られている色素の熱分解および熱変形による記録ピット
の形成とは異なり、貼り合わせ構造を有する記録媒体な
どにおいて、比較的低い記録パワーでも高品質な記録ピ
ットが得られる。

【０１５１】更に、従来の有機色素と他の物質を反応さ
せて、有機色素の分子構造を破壊して光学的変化を生じ
させる記録方法と異なり、本発明は有機色素の分子構造
は変化させず有機色素と記録補助層の混合状態における
スペクトル特性の変化を記録に用いており、この混合状
態は熱的に安定なため、保存中に記録コントラストの変
化しない耐久安定性に優れた光記録媒体が得られる。

【０１５２】本発明の光記録媒体は、密着構成を有する
光記録媒体における小さな熱変形、熱分解により形成さ
れるピットの小さな反射率の低下を、有機色素−記録補
助層の相互作用により補い、大きな色素の反射率の低下
が起こり、十分な記録コントラストを得ることができる
。

【０１５３】すなわち、本発明の光記録媒体は、従来知
られている有機色素の熱変形、熱分解が引き起こす反射
率変化に、さらに色素と記録補助層の相溶が引き起こす
反射率変化が加算され、低い記録エネルギーでも十分な
記録コントラストが得られる。

【０１５４】さらに、本発明の光記録媒体は記録層と記
録補助層の間に隔離層を設けたために、高温環境下にお
いて、記録補助層から遊離した物質が有機色素層に接触
するのを防ぐことができ、耐環境性が向上する。

【０１５５】又、本発明に於ては、光記録媒体の記録感
度を隔離層の記録用光ビームに対する感応性によって制
御でき、高感度の光記録媒体から環境安定性や再生光劣
化の少ない光記録媒体まで目的に応じたものを製造し得
る。

【０１５６】更にまた、図５に示す様に、平板状の基板
５１上に光硬化樹脂層５２を形成し、該光硬化樹脂層５
２にトラック溝等を形成する方法（２Ｐ法）によって、
形成した光記録媒体用基板は、従来耐溶剤性に優れる反
面、記録層の変形を強く抑制し、記録感度を大幅に低下
させてしまう問題点が有ったが、本発明によれば２Ｐ法
で作製した光記録媒体用基板を用いても高感度の光記録
媒体を得ることができる。

【０１５７】

【実施例】以下に実施例を示し本発明を更に詳細に説明
する。 実施例１ 基板として厚さ０．４ｍｍ、大きさ８５ｍｍ×５４ｍｍ
で片面に幅３μｍ、ピッチ１２μｍのトラック溝を有す
るポリメチルメタクリレートの光カード用基板を注型成
形で作成した。次に、光カード用基板のトラック溝を形
成した面に、下記構造式で表されるポリメチン系色素（
有機色素Ｎｏ．５）をグラビアコーターで厚さ１０００
Åに塗布し記録層を設けた。なお、この厚さは波長８３
０ｎｍの光に対して最大反射率を示すものである（図６
参照）。また、図７は実施例１に用いた有機色素の厚さ
１０００Åの薄膜の反射率と波長の関係を示すグラフで
ある。

【０１５８】

【化４１】

【０１５９】次いで、記録補助層として厚さ３０μｍの
ポリエステル系ポリマー（商品名：ケミット２４８；東
レ（株）製）に無水フタル酸１０ｗｔ％を混合したフィ
ルムを積層した後、シリコン系接着剤（信越シリコーン
製、ＴＳＥ３０３３）を用いて、０．３ｍｍ厚のポリカ
ーボネート製保護基板を積層し、光カードを得た。

【０１６０】この光カードを光カード記録再生機（キャ
ノン（株）製）に装着し、得られた光記録媒体に記録レ
ーザパワー３ｍＷ、波長８３０ｎｍ、パルス幅２０μｓ
ｅｃ（レーザ光照射時間）、スポット径３μｍの半導体
レーザビームを基板を通して入射させ記録を行なった。 次いで、波長８３０ｎｍ、再生レーザパワー０．２ｍＷ
で記録部を再生したところ、コントラスト比［（Ｒ１−
Ｒ２）／Ｒ１］は０．６と良好であった。但し、光カー
ドの搬送速度は記録時１２０ｍｍ／ｓｅｃ、再生時４８
０ｍｍ／ｓｅｃとした。又、Ｒ１は非記録部の出力レベ
ルで、Ｒ２　　は記録部の出力レベルである。また、波
長８３０ｎｍの光に対する非記録部の反射は１６％、記
録部の反射率は３％であった。

【０１６１】次に、この光カードの非記録部の記録層の
分光透過率及び、レーザビーム照射部（ピット）の分光
透過率を瞬間マルチ測光システム（商品名：ＭＣＰＤモ
デル１０００；大塚電子（株））で測定した。その結果
を図４に示す。なお図４に於て、（ａ）非記録部の記録
層の分光透過率、（ｂ）ピットの分光透過率である。ま
た、上記の光カードを温度５０℃、ＲＨ９０％の条件下
で１０００ｈｒ放置した後のコントラストを測定したと
ころ、コントラスト比の変化は初期値の１０％以内であ
った。

【０１６２】比較例１ 実施例１で用いた光カード基板上に厚さ１０００Åに実
施例１で用いた有機色素を塗布し、次いで光照射により
ラジカルを発生する化合物として過酸化ベンゾイル９重
量部をニトロセルロース１重量部と共にジクロロエタン
１重量部、ジアセトンアルコール２重量部の混合液に溶
解分散し、同様にグラビアコーターで塗布し、乾燥膜厚
７５０Åの過酸化ベンゾイル含有層を成膜し、次いで実
施例１と同様にして保護基板を積層し光カードを得た。 この光カードに実施例１と同様に記録を行ない再生した
ところ、ピット部の反射率は８％で、コントラスト比は
０．５であった。又ピット部の分光透過率を実施例１と
同様に測定した。その結果を図４に（ｃ）として示す。

【０１６３】また、上記の光カードを、温度５０℃、Ｒ
Ｈ９０％の条件下で光カードの耐久性を調べたところ、
耐久時間１０００ｈｒにおいて、記録ピットのサイズが
拡大してピット間隔が記録時と変化し正確な情報の再生
が不可能であった。

【０１６４】図４の（ａ）、（ｂ）より、有機色素記録
層の分光透過率（分光吸収）の波形が、記録レーザ光の
波長λ付近でシフトする様な現象として観察され、８３
０ｍｍの波長の光に対して反射率は１６％から３％に低
下する。又実施例１のピット部での現象は、図４の（ｃ
）に示す有機色素の分解による記録部の分光透過率の波
形と異なっていることから、従来の光記録媒体のピット
部の色素の分解とは異なった変化が生じているものと考
えられる。

【０１６５】参考例１ ガラス基板上に実施例１で用いたＮｏ．５の有機色素と
、記録補助層の材料を１：２０の割合（重量比）でジク
ロロベンゼンに溶解・分散させグラビアコーターで厚さ
１０００Åに塗布し、記録層を形成した。次いで、この
記録層の分光透過率の測定を行なった。なお、測定はガ
ラス基板を通して行なったものである。その結果を図４
に（ｄ）として示す。

【０１６６】次に、この記録層からジアセトンアルコー
ルで有機色素を抽出した後、ガラス基板上に厚さ１００
０Åに塗布し、その分光吸収特性を測定したところ、最
大吸収波長は実施例１の記録層の非記録部の吸収極大波
長と一致し、またその分光吸収特性もほぼ一致した。こ
のことから記録補助層と有機色素の混合状態では有機色
素の分解を伴なう反応は生じていないことが分かる。

【０１６７】また、図４の（ｄ）に示した参考例１の分
光透過率の波形が実施例１のピット部の分光透過率の波
形とほぼ一致していることから、本発明の記録が、有機
色素の分解でなく、有機色素と記録補助層の拡散による
スペクトル特性の変化によるものであることが分かる。

【０１６８】実施例２ 基板として厚さ０．４ｍｍ、大きさ８５ｍｍ×５４ｍｍ
で片面に幅３μｍ、ピッチ１２μｍのトラック溝を有す
るポリメチルメタクリレートの光カード用基板を注型成
形で作成した。次に、光カード用基板のトラック溝を形
成した面に、下記構造式で表されるポリメチン系色素（
有機色素Ｎｏ．５）をグラビアコーターで厚さ１０００
Åに塗布し記録層を設けた。

【０１６９】

【化４２】

【０１７０】次に、上記記録層上に、隔離層として厚み
１０００Åのポリパラキシレンの蒸着フィルムを積層し
、次いで記録補助層として厚さ３０μｍのポリエステル
系ポリマー（商品名：ケミット２４８；東レ（株）製）
に無水フタル酸１０ｗｔ％を混合したフィルムを積層し
た後、シリコン系接着剤（信越シリコーン製、ＴＳＥ３
０３３）を用いて、０．３ｍｍ厚のポリカーボネート製
保護基板を積層し、光カードを得た。

【０１７１】この光カードを光カード記録再生機（キャ
ノン（株）製）に装着し、得られた光記録媒体を記録レ
ーザパワー３ｍＷ、波長８３０ｎｍ、パルス幅２０μｓ
ｅｃ（レーザ光照射時間）、スポット径３μｍで記録し
、再生レーザーパワー０．２ｍＷで再生したところ、コ
ントラスト比は０．６と良好であった。但し、光カード
の搬送速度は記録時１００ｍｍ／ｓｅｃ、再生時４００
ｍｍ／ｓｅｃとした。

【０１７２】また、上記の光カードを、温度５０℃、Ｒ
Ｈ９０％の条件下で光カードの耐久性を調べたところ、
耐久時間１０００ｈｒにおいてもコントラスト比の変化
は初期値の５％以内であった。

【０１７３】比較例２ 実施例１の光カードに於いて、記録補助層を除き接着層
としてエチレン−酢酸ビニル系ホットメルトフィルム（
ヒロダイン７５８０；ヒロダイン（株）製）を用いた以
外は実施例１と同様にして光カードを作製した。この光
カードを用いて実施例１と同様にして記録・再生を行な
ったところ、コントラスト比は０．３であった。更に、
耐久試験後のコントラスト比の変化率は最大２０％であ
った。

【０１７４】実施例３ 実施例２の記録補助層にポリエステル系ポリマーＰＨ４
１３（日本マタイ製）に無水マレイン酸を１０ｗｔ％混
合したフィルムを用いても実施例１と同等の感度を有す
る光記録媒体を得ることができた。

【０１７５】実施例４ 実施例２の光カードの記録補助層にポリアミド系ポリマ
ー：ダイアミド（ダイセル化学製）に無水フタル酸を５
ｗｔ％混合したフィルムを用いて作製した光記録媒体に
、実施例２と同様な方法で記録しても、記録コントラス
トが０．７の高感度な結果を得ることができた。

【０１７６】実施例５ 実施例２の光カードの記録補助層にエポキシ系ポリマー
ＰＨＥ４１１（日本マタイ製）にフタル酸５ｗｔ％添加
したフィルムを用い、実施例２と同様な方法で記録する
と、記録コントラストが０．５の高感度な光記録媒体を
得ることができた。

【０１７７】実施例６ 実施例２の隔離層を厚み５００Åのポリスチレンフィル
ムに変えても実施例２と同等な光記録媒体が得られた。

【０１７８】実施例７ 実施例６の光カードに於いて、隔離層として、ポリスチ
レンに記録層に用いたＮｏ．５の有機色素を２ｗｔ％を
添加し、メチルエチルケトンに１ｗｔ％溶解分散させ、
記録層上にスピンコートで厚さ５００Åに塗布した以外
は、実施例６と同様にして光カードを作製した。

【０１７９】この光カードを実施例２の記録・再生条件
に於て、記録速度１２０ｍｍ／ｓｅｃ、再生速度４８０
ｍｍ／ｓｅｃとした以外は同じ条件でコントラスト比０
．７が得られた。又耐久後のコントラスト比の変化率は
１０％以内であった。

【０１８０】実施例８ 図５に示す様に、基板として厚さ０．４ｍｍ、大きさ８
５ｍｍ×５４ｍｍのポリカーボネート樹脂製基板５１上
に、下記の組成から成る紫外線硬化樹脂５２を厚さ４０
μｍに塗布した。次いで、溝幅３μｍ、ピッチ１２μｍ
、溝深さ３０００Åの光カード用トラック溝に対応する
パターンを有するスタンパーを、該紫外線硬化樹脂層に
密着させ、紫外線（２ＫＷ高圧水銀ランプ、３００ｍＷ
／ｃｍ２）を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、
スタンパーを剥離して光カード用基板２を得た。

【０１８１】 　　紫外線硬化樹脂の組成 　　　　ウレタンアクリレート　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　３０重量部　　　
　ネオペンチルグリコール変性 　　　　　　　　トリメチロールプロパンジアクリレー
ト　　　　　　　　６７重量部　　　　１−ヒドロキシ
シクロヘキシル　　　　　　　　フエニルケトン　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　３重量部

【０１８２】次に、この光カード用基
板に実施例２と同様にして記録層、隔離層、記録補助層
及び保護基板を積層して光カードを形成した。この光カ
ードに実施例２と同様にして記録・再生を行なったとこ
ろ、コントラスト比は０．５と良好な値を示した。

【０１８３】比較例３ 実施例８に於て、隔離層及び記録補助層を除いた光カー
ドを作製し、実施例８と同様にして記録・再生を行なっ
たところ、コントラスト比は０．１で光カードとして実
用にならなかった。

【０１８４】実施例９ 実施例１で用いた記録補助層の上に吸収極大波長を８６
０ｎｍに有する下式に示す有機色素を０．０５ｗｔ％、
ホルムアミド１ｗｔ％、酢酸セルロース１ｗｔ、アセト
ン９７．８ｗｔ％の溶液を塗布して、厚さ１０００Åの
隔離層を形成した。次いで、記録層として反射極大波長
を７８０ｎｍに有するＮｏ．４０の有機色素のジクロロ
エタン３ｗｔ％溶液を実施例８で作製した基板上に塗布
して厚さ６００Åの記録層を形成した。

【０１８５】

【化４３】

【０１８６】次に、記録層と隔離層が接する様に重ね合
せた後、ゴム系ホットメルト接着剤（商品名：メルトロ
ン３Ｓ４２；ダイアボンド工業（株）製）を介して記録
補助層に保護基板を積層して光カードを作製した。

【０１８７】この光カードを光カード記録・再生装置に
装着し、搬送速度１２０ｍｍ／ｓｅｃで波長７８０ｎｍ
、レーザーパワー３ｍＷ、パルス幅２０μｓｅｃ、スポ
ット径３μｍで記録を行ない、次いで、搬送速度４８０
ｍｍ／ｓｅｃ、波長８３０ｎｍ、レーザーパワー０．３
ｍＷで再生したところ、コントラスト比は０．６と良好
で、耐久試験後のコントラストの変化は殆んど見られな
かった。

【０１８８】実施例１０〜１３ 実施例８の光カードに於て、有機色素層、隔離層及び記
録補助層として表１に示す材料を用いた以外は実施例２
と同様に光カードを作製した。この光カードについて、
実施例２と同一の条件にて記録及び再生を行なってコン
トラスト比を測定し、また耐久試験後のコントラストの
変化について測定した。以上の結果を表２に示す。

【０１８９】比較例４〜７ 実施例１０〜１３に於て、記録補助層及び隔離層を省略
した光カードを各々作製し、上記実施例１０〜１３と同
様にして光カードを作製し、コントラスト比、及び耐久
試験後のコントラスト比の変化について測定した。その
結果についても表３に示した。

【０１９０】

【表１２】

【０１９１】

【表１３】

【０１９２】実施例１４ 厚さ１．２ｍｍ、外径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍで、一
方の表面に幅０．６μｍ、ピッチ１．６μｍ、深さ１１
００Åのスパイラル状のトラック溝を有するガラス製光
ディスク用基板をリアクティブ・イオン・エッチング法
を用いて作製した。この光ディスク用基板のトラック溝
形成面にＮｏ．５の有機色素のジクロロメタンの４ｗｔ
％溶液をスピンコーターで塗布して厚さ１０００Åの記
録層を形成した。

【０１９３】次いで、記録層上に隔離層として１００Å
のポリスチレンを塗布し、更に記録補助層として、ナイ
ロンにフタル酸を１０ｗｔ％混合した厚さ３０μｍのフ
ィルムを積層し、その上にゴム系ホットメルト接着剤（
商品名：メルトロン３Ｓ４９；ダイアボンド工業（株）
製）を介して厚さ１．２ｍｍ、直径１３０ｍｍのガラス
製保護基板を接着し、光ディスクを作製した。

【０１９４】この光ディスクを光ディスク評価装置（商
品名：ＯＭＳ−１０００；ナカミチ（株）製）に装着し
、波長８３０ｎｍ、ビーム径１．６μｍ、パワー８．０
ｍＷの記録用光ビームを用い、光ディスクを線速度７ｍ
／ｓｅｃで回転させて記録パルス巾０．２μｓで情報の
記録を行なった。なお、記録用光ビームは透明基板を通
る様に入射させた。

【０１９５】波長８３０ｎｍ、ビーム径１．６μｍ、パ
ワー０．５ｍＷの再生用光ビームを透明基板を通過する
様に入射させて情報の再生を行ない、記録コントラスト
を測定した。更にまた、この光ディスクを温度５０℃、
ＲＨ９０％の条件下で、１０００ｈｒ放置した後の再生
信号（ＲＦ出力）の変化を測定した。

【０１９６】比較例８ 実施例１４に於て隔離層及び記録補助層を除いた光ディ
スクを作製し、実施例１４と同一の条件で記録及び再生
を行ないコントラストを測定し、耐久後の変化も測定し
た。以上の結果を表４に示す。

【０１９７】

【表１４】

【０１９８】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、本
発明の光記録媒体は、密着構成を有する光記録媒体にお
ける小さな熱変形、熱分解により形成されるピットの小
さな反射率の低下を、有機色素−記録補助層の相互作用
により補い、大きな色素の反射率の低下が起こり、比較
的低い記録パワーでも高品質な記録ピットが得られ、十
分な記録コントラストを得ることができる。

【０１９９】更に、本発明は有機色素の分子構造は変化
させず有機色素と記録補助層の混合状態におけるスペク
トル特性の変化を記録に用いており、この混合状態は熱
的に安定なため、保存中に記録コントラストの変化しな
い耐久安定性に優れた光記録媒体が得られる。

【０２００】さらに、本発明の光記録媒体は記録層と記
録補助層の間に隔離層を設けたために、高温環境下にお
いて、記録補助層から遊離した物質が有機色素層に接触
するのを防ぐことができ、耐環境性が向上する。

【０２０１】また、本発明によれば、上記の光記録媒体
を用いることにより、優れたＳ／Ｎ比を示す記録を行な
うことができ、さらにコントラストの優れた再生を行な
うことのできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体を示す概略断面図である。

【図２】本発明の光記録媒体の記録部の模式図断面図で
ある。

【図３】本発明の光記録媒体の記録・再生システムの概
略図である。

【図４】記録層の非記録部、従来の光記録媒体の記録部
、本発明による記録部の分光透過率を示すグラフである
。

【図５】本発明の光記録媒体の他の実施態様を示す概略
断面図である。

【図６】波長８３０ｎｍの光に対する実施例１に用いた
有機色素薄膜の反射率の膜厚依存性を示すグラフである
。

【図７】実施例１に用いた有機色素の厚さ１０００Åの
薄膜の反射率と波長の関係を示すグラフである。

【符号の説明】

１　　光記録媒体 ２　　基板 ３　　記録層 ４　　隔離層 ５　　記録補助層 ６　　接着層 ７　　保護基板 ８　　多層膜 ９　　記録用光ビーム １０　　ピット １１　　ハードコート層 ５１　　平板状の基板 ５２　　光硬化樹脂層

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　所定波長を有する記録用光ビーム及び
   該所定波長と同じ波長を有する再生用光ビームもしくは
   該所定波長と異なる波長を有する再生用光ビームを利用
   する形式のもので、基板と、有機色素を含有する記録層
   及び記録補助層を有する多層膜とを具備し、該記録補助
   層は該記録用光ビームの照射によって該有機色素との相
   溶状態を形成し該光記録媒体に光学的に検出可能な変化
   を生じさせるものであることを特徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】　　基板と、有機色素を含有する記録層，
   隔離層及び記録補助層とをこの順番で有する多層膜を具
   備し、該隔離層は記録用光ビームの照射によって破壊さ
   れるものであって、該記録補助層は該記録用光ビームの
   照射によって少なくとも該隔離層の破壊と共に生じる該
   記録層との界面に於て該有機色素と相溶状態を形成し該
   光記録媒体に光学的に検出可能な変化を生じさせるもの
   である請求項１記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】　　該記録層は該再生用光ビームに対し反
   射率が実質的に最大値を示す厚さを有する請求項１記載
   の光記録媒体。
4. 【請求項４】　　該有機色素がカチオン性色素である請
   求項１記載の光記録媒体。
5. 【請求項５】　　前記カチオン性色素が下記一般式（Ｉ
   ）で示されるポリメチン系色素である請求項４記載の光
   記録媒体。 【化１】 （式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子、置換もしくは未
   置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基
   、置換もしくは未置換のアラルキル基、置換もしくは未
   置換のアリール基、置換もしくは未置換のスチリル基及
   び置換もしくは未置換の複素環基から選ばれる基を示す
   。ｒ１　′，　ｒ２　′は水素原子、置換もしくは未置
   換のアルキル基、置換もしくは未置換の環式アルキル基
   、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未
   置換のアラルキル基及び置換もしくは未置換のアリール
   基から選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌは０，１又
   は２で、Ｘ−　はアニオンを意味する。）
6. 【請求項６】　　前記カチオン性色素が下記一般式（Ｉ
   Ｉ）、（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表わされる化合物であ
   る請求項４記載の光記録媒体。 【化２】 【化３】 【化４】 （式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ及びＸ−　は請求項５の記載と
   同義であり、ｒ１　〜ｒ５　は水素原子、ハロゲン原子
   、置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未
   置換のアリール基を示す。Ｙは置換もしくは未置換の５
   員環又は６員環を完成するに必要な原子群を有する２価
   の有機残基を示す。Ｚ−　は 【化５】 を示す。ｍ，ｎは０，１又は２である。）
7. 【請求項７】
   　　前記カチオン性色素が下記一般式（Ｖ）、（ＶＩ）
   及び（ＶＩＩ）から選ばれた化合物である請求項４記載
   の光記録媒体。 【化６】 【化７】 【化８】 （式中、Ｒ１　〜Ｒ７　は水素原子、ハロゲン原子又は
   １価の有機残基を示し、Ｒ１〜Ｒ７　は結合して置換ま
   たは未置換の縮合環を形成してもよい。Ｘ−　はアニオ
   ンを示し、Ｆは２価の有機残基を示す。）
8. 【請求項８】　　前記カチオン性色素が下記一般式（Ｖ
   ＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）及び（ＸＩ）から選ばれる
   化合物である請求項４記載の光記録媒体。 【化９】 【化１０】 【化１１】 【化１２】 （式中、Ｌ１　，Ｌ２　は硫黄原子、酸素原子、セレン
   原子又はテルル原子を示し、Ｚ１　は置換されてもよい
   ピリリウム系骨格を形成するに必要な原子群、Ｚ２　は
   置換されてもよいピラン系骨格を形成するに必要な原子
   群を示す。Ｒ１５はアリール基または置換もしくは未置
   換の複素環基を示す。　１Ｍ２　は含窒素複素環を完成
   するに必要な非金属原子群を示す。ｒ１　′〜ｒ７　′
   は請求項５記載のｒ１　′と同義で、Ｘ−　，Ｚ−　，
   Ｙ，ｒ１　はそれぞれ請求項６記載のＸ−　，Ｚ−　，
   Ｙ，ｒ１　と同義であり、ｋおよびｓは０又は１、Ｌお
   よびｎは０，１又は２である。）
9. 【請求項９】　　該基
   板が多層膜形成面にプリフォーマットを有する請求項１
   記載の光記録媒体。
10. 【請求項１０】　　基板と、有機色素を含有する記録層
    及び記録補助層を有する多層膜とを具備し、選択的な該
    有機色素と該記録補助層との相溶状態の形成によって情
    報が記録されてなることを特徴とする情報レコード。
11. 【請求項１１】　　該多層膜として有機色素を含有する
    記録層，隔離層及び記録補助層をこの順で積層してなり
    、該隔離層の破壊により該有機色素と該記録補助層とで
    該相溶状態が形成され情報が記録されてなる請求項１０
    記載の情報レコード。
12. 【請求項１２】　　所定波長を有する記録用光ビームと
    、上記と同じ波長を有する再生用光ビームもしくは異な
    る波長を有する再生用光ビームを利用する形式のもので
    、基板と、有機色素を含有する記録層及び記録補助層を
    有する多層膜とを具備する光記録媒体に、該記録用光ビ
    ームを照射して該有機色素と該記録補助層との相溶状態
    を形成させて記録を行なうことを特徴とする光記録方法
    。
13. 【請求項１３】　　該多層膜として記録層，隔離層及び
    記録補助層とをこの順番で積層されてなる光記録媒体に
    、該記録用光ビームを照射して該隔離層を破壊して該記
    録層と記録補助層とを連通させると共に該有機色素と該
    記録補助層との相溶状態を形成させて記録を行なう請求
    項１２記載の光記録方法。
14. 【請求項１４】　　基板と、有機色素を含有する記録層
    及び記録補助層を有する多層膜を具備し、該有機色素と
    該記録補助層との相溶状態の選択的な形成によって情報
    が記録されてなる情報レコードに、再生用光ビームを照
    射して記録層の非記録部と相溶状態の形成部のスペクト
    ル特性の差を検知して情報の再生を行なうことを特徴と
    する再生方法。
15. 【請求項１５】　　該再生用光ビームとして該記録層の
    非記録部に於ける反射極大波長と実質的に等しい波長の
    光を用いる請求項１４記載の再生方法。
16. 【請求項１６】　　該多層膜として記録層，隔離層及び
    記録補助層をこの順番で有し、該隔離層の破壊により該
    有機色素と該記録補助層とで相溶状態を形成し情報が記
    録されてなる情報レコードの再生方法であって、再生用
    光ビームとして、該記録層と該記録補助層が直接接して
    いる場合には該再生用光ビームの照射部で相溶状態の形
    成によって記録層のスペクトル特性が変化し、該隔離層
    が有る場合に該再生用光ビームの照射部で該隔離層が破
    壊されず相溶状態が形成されないような強度を有する光
    ビームを用いる請求項１４記載の再生方法。