JPH04344403A - 走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法 - Google Patents
走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法Info
- Publication number
- JPH04344403A JPH04344403A JP11614291A JP11614291A JPH04344403A JP H04344403 A JPH04344403 A JP H04344403A JP 11614291 A JP11614291 A JP 11614291A JP 11614291 A JP11614291 A JP 11614291A JP H04344403 A JPH04344403 A JP H04344403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- organic solvent
- hydrophobic organic
- electrolyte
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 13
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 abstract description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011149 active material Substances 0.000 abstract 1
- -1 polyoxyethylene Polymers 0.000 description 28
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 17
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 17
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- GSPKZYJPUDYKPI-UHFFFAOYSA-N diethoxy sulfate Chemical compound CCOOS(=O)(=O)OOCC GSPKZYJPUDYKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は走査型トンネル顕微鏡用
チップの製造方法に係り、特に、走査型トンネル顕微鏡
用チップとして有用な、先端が高度に先鋭化された高強
度チップを安定に製造する方法に関する。
チップの製造方法に係り、特に、走査型トンネル顕微鏡
用チップとして有用な、先端が高度に先鋭化された高強
度チップを安定に製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】走査型トンネル顕微鏡では、第2図の模
式図に示すように、チップ13を圧電素子11及び12
により上下左右に移動可能に設置しておく。そして、該
チップ13と試料14との間に電圧Vを印加しておき、
チップ13を試料14に対して数Åの距離に近づけた際
のチップ13と試料14との間に流れるトンネル電流I
を測定することにより、試料14の表面の凹凸やポテン
シャルの測定を行なう。この走査型トンネル顕微鏡は、
例えば、光ディスクの溝形状やピット形状の評価に利用
される。
式図に示すように、チップ13を圧電素子11及び12
により上下左右に移動可能に設置しておく。そして、該
チップ13と試料14との間に電圧Vを印加しておき、
チップ13を試料14に対して数Åの距離に近づけた際
のチップ13と試料14との間に流れるトンネル電流I
を測定することにより、試料14の表面の凹凸やポテン
シャルの測定を行なう。この走査型トンネル顕微鏡は、
例えば、光ディスクの溝形状やピット形状の評価に利用
される。
【0003】このような走査型トンネル顕微鏡において
、数10nmの空間分解能を得ようとする場合、チップ
先端の形状を数10nm以下に先鋭化することが必要と
なる。従来、チップの先端を細くする一手法として、電
解研磨法が採用されている。即ち、例えば、直径0.2
mmφ程度のタングステン等のチップ用金属製微細材を
電解液中、例えば亜硝酸ナトリウム水溶液中で電解研磨
することにより、先端の曲率半径を50nm程度に細く
している。
、数10nmの空間分解能を得ようとする場合、チップ
先端の形状を数10nm以下に先鋭化することが必要と
なる。従来、チップの先端を細くする一手法として、電
解研磨法が採用されている。即ち、例えば、直径0.2
mmφ程度のタングステン等のチップ用金属製微細材を
電解液中、例えば亜硝酸ナトリウム水溶液中で電解研磨
することにより、先端の曲率半径を50nm程度に細く
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前述の如く、走査型ト
ンネル顕微鏡において、高い空間分解能を得ようとする
場合、チップ先端の形状としては先端の曲率半径が小さ
い先鋭形状であることが望まれる。また、その強度につ
いても、より高いものが望ましい。
ンネル顕微鏡において、高い空間分解能を得ようとする
場合、チップ先端の形状としては先端の曲率半径が小さ
い先鋭形状であることが望まれる。また、その強度につ
いても、より高いものが望ましい。
【0005】しかしながら、従来の電解研磨法では、チ
ップ先端の曲率半径を50nmよりも更に小さく尖らす
ことは難しく、しかも、従来法では、先端だけが鋭く尖
っていて、先鋭化した部分の短い、高強度なチップを安
定供給することは難しいという欠点がある。
ップ先端の曲率半径を50nmよりも更に小さく尖らす
ことは難しく、しかも、従来法では、先端だけが鋭く尖
っていて、先鋭化した部分の短い、高強度なチップを安
定供給することは難しいという欠点がある。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決し、強度
が高く、先端が高度に先鋭化されたチップを安定供給す
ることが可能な走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方
法を提供することを目的とする。
が高く、先端が高度に先鋭化されたチップを安定供給す
ることが可能な走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方
法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の走査型トンネル
顕微鏡用チップの製造方法は、電解液中に、走査型トン
ネル顕微鏡製造用の金属製の線状微細材を浸漬して電解
研磨することにより先端が先鋭化された走査型トンネル
顕微鏡用チップを製造する方法において、疎水性有機溶
媒の層と、該疎水性有機溶媒の層の上に形成された、界
面活性剤を含有する電解液の薄層とを有する処理液を用
い、走査型トンネル顕微鏡用チップを製造する方法であ
って、該走査型トンネル顕微鏡用チップを製造するため
の前記線状の微細材を、前記電解液薄層及び疎水性有機
溶媒層の双方に浸漬されるように該処理液中に上下方向
に挿入し、該線状微細材のうち該電解液薄層に接してい
る部分を、該部分が切断されるまで電解研磨することを
特徴とする。
顕微鏡用チップの製造方法は、電解液中に、走査型トン
ネル顕微鏡製造用の金属製の線状微細材を浸漬して電解
研磨することにより先端が先鋭化された走査型トンネル
顕微鏡用チップを製造する方法において、疎水性有機溶
媒の層と、該疎水性有機溶媒の層の上に形成された、界
面活性剤を含有する電解液の薄層とを有する処理液を用
い、走査型トンネル顕微鏡用チップを製造する方法であ
って、該走査型トンネル顕微鏡用チップを製造するため
の前記線状の微細材を、前記電解液薄層及び疎水性有機
溶媒層の双方に浸漬されるように該処理液中に上下方向
に挿入し、該線状微細材のうち該電解液薄層に接してい
る部分を、該部分が切断されるまで電解研磨することを
特徴とする。
【0008】以下に図面を参照して本発明を詳細に説明
する。第1図は本発明の走査型トンネル顕微鏡用チップ
の製造方法の一実施例を説明する断面図であり、1はチ
ップ製造用の線状微細材、2は対向電極(白金電極)、
3は電解液薄層、4は疎水性有機溶媒を示す。
する。第1図は本発明の走査型トンネル顕微鏡用チップ
の製造方法の一実施例を説明する断面図であり、1はチ
ップ製造用の線状微細材、2は対向電極(白金電極)、
3は電解液薄層、4は疎水性有機溶媒を示す。
【0009】本実施例においては、水より比重の大きな
疎水性有機溶媒4上に、アルカリ金属水酸化物の水溶液
よりなる電解液に、親水性の強い界面活性剤を添加して
薄い層3を形成し、この中に研磨するタングステン等の
金属よりなるチップ製造用の線状微細材1を、電解液薄
層3及び疎水性有機溶媒4の層の双方に浸漬されるよう
に、白金対向電極2と共に浸し、両者間に交流電圧5を
印加して電解研磨(エッチング)を行なう。この電解研
磨が終了した時点で、電解液薄層3中にて研磨された部
分で微細材1が切断され、チップが疎水性有機溶媒4中
に落下する。その結果、先端だけが鋭く尖った強度の高
い走査型トンネル顕微鏡に好適なチップを安定に得るこ
とが可能とされる。
疎水性有機溶媒4上に、アルカリ金属水酸化物の水溶液
よりなる電解液に、親水性の強い界面活性剤を添加して
薄い層3を形成し、この中に研磨するタングステン等の
金属よりなるチップ製造用の線状微細材1を、電解液薄
層3及び疎水性有機溶媒4の層の双方に浸漬されるよう
に、白金対向電極2と共に浸し、両者間に交流電圧5を
印加して電解研磨(エッチング)を行なう。この電解研
磨が終了した時点で、電解液薄層3中にて研磨された部
分で微細材1が切断され、チップが疎水性有機溶媒4中
に落下する。その結果、先端だけが鋭く尖った強度の高
い走査型トンネル顕微鏡に好適なチップを安定に得るこ
とが可能とされる。
【0010】本発明で用いる電解液としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の
1〜40重量%の水溶液が挙げられる。また、疎水性有
機溶媒としては水に溶けにくく、且つ水より比重の大き
い有機溶媒、例えば四塩化炭素、ジクロルエタン等の塩
素化炭化水素が好適に使用される。
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の
1〜40重量%の水溶液が挙げられる。また、疎水性有
機溶媒としては水に溶けにくく、且つ水より比重の大き
い有機溶媒、例えば四塩化炭素、ジクロルエタン等の塩
素化炭化水素が好適に使用される。
【0011】なお、本発明における界面活性剤としては
、水溶性の非イオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤及び両性界面活性剤のいずれも使用
可能である。このうち、非イオン界面活性剤としては、
例えばポリオキシエチレンの脂肪族アルコールエーテル
、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマ
ー、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪族アミン、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂
肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、
しょ糖脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ク
エン酸モノ−(ジ−又はトリ−)ステアリルエステル、
ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、トリメチロール
プロパン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステ
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、N・N−ビス(2−ヒドロキシエチル)脂肪酸アミ
ン、脂肪酸とジエタノールアミンの縮合生成物等が挙げ
られる。なお、上記において、脂肪族アルコールとして
は炭素数8〜18、脂肪族アミン、脂肪酸としては炭素
数8〜22のものが適当である。
、水溶性の非イオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤及び両性界面活性剤のいずれも使用
可能である。このうち、非イオン界面活性剤としては、
例えばポリオキシエチレンの脂肪族アルコールエーテル
、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマ
ー、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪族アミン、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂
肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、
しょ糖脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ク
エン酸モノ−(ジ−又はトリ−)ステアリルエステル、
ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、トリメチロール
プロパン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステ
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、N・N−ビス(2−ヒドロキシエチル)脂肪酸アミ
ン、脂肪酸とジエタノールアミンの縮合生成物等が挙げ
られる。なお、上記において、脂肪族アルコールとして
は炭素数8〜18、脂肪族アミン、脂肪酸としては炭素
数8〜22のものが適当である。
【0012】アニオン界面活性剤としては、例えばアル
キルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ア
ルキルナフタレンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホ
ン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、
アルキルサルフェート、ソジウムアルキルスルホサクシ
ネート、高級アルコールエトキシサルフェート、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ジアル
キルスルホコハク酸エステル塩、アルキルリン酸エステ
ル塩、脂肪酸アルキロールアマイドの硫酸エステル塩、
ナフタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合物、ポリオ
キシエチレンアルキルホスフェート等が挙げられる。な
お、上記において、アルキル基としては炭素数4〜22
のもの、塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩が適当である。
キルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ア
ルキルナフタレンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホ
ン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、
アルキルサルフェート、ソジウムアルキルスルホサクシ
ネート、高級アルコールエトキシサルフェート、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ジアル
キルスルホコハク酸エステル塩、アルキルリン酸エステ
ル塩、脂肪酸アルキロールアマイドの硫酸エステル塩、
ナフタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合物、ポリオ
キシエチレンアルキルホスフェート等が挙げられる。な
お、上記において、アルキル基としては炭素数4〜22
のもの、塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩が適当である。
【0013】カチオン界面活性剤としては、種々の第四
級アンモニウム塩が挙げられ、また、両性界面活性剤と
しては、N−アシル(炭素数8〜18)ザルコネート、
アルキルグリシン型のもの、ペタイン型のもの、イミダ
ゾリン型のもの、カルボン酸型のもの、アラニン型のも
の、硫酸エステル型のもの等が挙げられる。本発明にお
いて、これらの各種界面活性剤は、その1種類を単独使
用しても良く、また、任意に2種以上を併用しても良い
。
級アンモニウム塩が挙げられ、また、両性界面活性剤と
しては、N−アシル(炭素数8〜18)ザルコネート、
アルキルグリシン型のもの、ペタイン型のもの、イミダ
ゾリン型のもの、カルボン酸型のもの、アラニン型のも
の、硫酸エステル型のもの等が挙げられる。本発明にお
いて、これらの各種界面活性剤は、その1種類を単独使
用しても良く、また、任意に2種以上を併用しても良い
。
【0014】本発明において、上記界面活性剤は、形成
される電解液の層3の厚さが2mm以下、特に1〜2m
mの範囲内となるように、疎水性有機溶媒4上の電解液
の層上に添加するのが好ましい。即ち、添加する界面活
性剤の量を調整して、形成される電解液の層の厚さを調
節することにより、微細材の電解研磨される範囲を変え
ることができるが、本発明においては、先鋭化された部
分の短い、高強度なチップを製造することを目的として
いるため、この電解液の層は薄く形成するのが好ましい
。
される電解液の層3の厚さが2mm以下、特に1〜2m
mの範囲内となるように、疎水性有機溶媒4上の電解液
の層上に添加するのが好ましい。即ち、添加する界面活
性剤の量を調整して、形成される電解液の層の厚さを調
節することにより、微細材の電解研磨される範囲を変え
ることができるが、本発明においては、先鋭化された部
分の短い、高強度なチップを製造することを目的として
いるため、この電解液の層は薄く形成するのが好ましい
。
【0015】
【作用】本発明の方法によれば、タングステン等の金属
製チップ製造用微細材を一定時間電解液中で電解研磨す
るという簡便な操作により、走査型トンネル顕微鏡用チ
ップを容易に製造することが可能とされる。
製チップ製造用微細材を一定時間電解液中で電解研磨す
るという簡便な操作により、走査型トンネル顕微鏡用チ
ップを容易に製造することが可能とされる。
【0016】しかして、電解液は、界面活性剤により、
疎水性有機溶媒上にて容易かつ安定に薄層化され、その
厚さ調整も容易であるため、走査型トンネル顕微鏡用チ
ップとして安定した形状の、即ち、所望の先端部だけが
高度に先鋭化された、強度の高いチップを安定に製造す
ることができる。本発明の方法によれば、例えば、先端
部の曲率半径を10nm以下にすると共に、電解研磨に
より先鋭化される部分を1mm以下と短くし、チップ全
体の強度を高くすることができる。
疎水性有機溶媒上にて容易かつ安定に薄層化され、その
厚さ調整も容易であるため、走査型トンネル顕微鏡用チ
ップとして安定した形状の、即ち、所望の先端部だけが
高度に先鋭化された、強度の高いチップを安定に製造す
ることができる。本発明の方法によれば、例えば、先端
部の曲率半径を10nm以下にすると共に、電解研磨に
より先鋭化される部分を1mm以下と短くし、チップ全
体の強度を高くすることができる。
【0017】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。
【0018】即ち、下記実施例において、疎水性有機溶
媒として四塩化炭素を、電解液として5N NaOH
水溶液を、界面活性剤としてアルキルエーテル硫酸エス
テルナトリウムと脂肪酸アルカノールアミドの混合液を
用い、交流電圧2Vとして実験を行なったが、これらの
条件は、電解液の種類や濃度、添加剤、材料等に応じて
異なるものであり、また、得られるチップの先端部の曲
率半径も各種条件によって変更可能であることは言うま
でもない。
媒として四塩化炭素を、電解液として5N NaOH
水溶液を、界面活性剤としてアルキルエーテル硫酸エス
テルナトリウムと脂肪酸アルカノールアミドの混合液を
用い、交流電圧2Vとして実験を行なったが、これらの
条件は、電解液の種類や濃度、添加剤、材料等に応じて
異なるものであり、また、得られるチップの先端部の曲
率半径も各種条件によって変更可能であることは言うま
でもない。
【0019】実施例1
第1図に示す装置を使用し、疎水性有機溶媒として四塩
化炭素、電解液として5N NaOH水溶液、界面活
性剤としてアルキルエーテル硫酸エステルナトリウムと
脂肪酸アルカノールアミドとの混合液をそれぞれ用い、
四塩化炭素層上に上記電解液に界面活性剤を添加した薄
い層(層厚2mm)を形成させた。この中に直径0.2
mmφのタングステンのチップ製造用の線状微細材と白
金電極を浸し、これに交流電圧2Vを印加して、上記タ
ングステンチップのエッチングを行なった。得られたチ
ップの先端部の曲率半径は10nm以下で、且つ、エッ
チング部分の長さは1mmであった。
化炭素、電解液として5N NaOH水溶液、界面活
性剤としてアルキルエーテル硫酸エステルナトリウムと
脂肪酸アルカノールアミドとの混合液をそれぞれ用い、
四塩化炭素層上に上記電解液に界面活性剤を添加した薄
い層(層厚2mm)を形成させた。この中に直径0.2
mmφのタングステンのチップ製造用の線状微細材と白
金電極を浸し、これに交流電圧2Vを印加して、上記タ
ングステンチップのエッチングを行なった。得られたチ
ップの先端部の曲率半径は10nm以下で、且つ、エッ
チング部分の長さは1mmであった。
【0020】比較例1
実施例1において、界面活性剤を全く添加しなかったこ
と以外は同様にしてエッチングを行なった。その結果、
得られたチップのエッチング部分の長さは5mmであっ
た。
と以外は同様にしてエッチングを行なった。その結果、
得られたチップのエッチング部分の長さは5mmであっ
た。
【0021】上記実施例及び比較例より、次のことが明
らかである。即ち、本発明の方法に従って電解液中に界
面活性剤を添加することにより、電解液層を薄く形成す
ることができ、このため、先端部のみが高度に先鋭化さ
れ、かつその先鋭化された部分が非常に短く、従って、
全体の強度が高いチップを得ることができる。これに対
して、電解液に界面活性剤を添加しない場合には、電解
液層が厚くなり、理想的な形状のチップを得ることは困
難である。
らかである。即ち、本発明の方法に従って電解液中に界
面活性剤を添加することにより、電解液層を薄く形成す
ることができ、このため、先端部のみが高度に先鋭化さ
れ、かつその先鋭化された部分が非常に短く、従って、
全体の強度が高いチップを得ることができる。これに対
して、電解液に界面活性剤を添加しない場合には、電解
液層が厚くなり、理想的な形状のチップを得ることは困
難である。
【0022】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の走査型トン
ネル顕微鏡用チップの製造方法によれば、先端のみが鋭
く尖った、先鋭化された部分の短い、高強度なチップを
容易かつ安定に製造することができる。本発明の方法に
より得られるチップによれば、走査型トンネル顕微鏡に
より、高い空間分解能にて安定した観察像を得ることが
可能とされる。
ネル顕微鏡用チップの製造方法によれば、先端のみが鋭
く尖った、先鋭化された部分の短い、高強度なチップを
容易かつ安定に製造することができる。本発明の方法に
より得られるチップによれば、走査型トンネル顕微鏡に
より、高い空間分解能にて安定した観察像を得ることが
可能とされる。
【図1】第1図は本発明の走査型トンネル顕微鏡用チッ
プの製造方法の一実施例を説明する断面図である。
プの製造方法の一実施例を説明する断面図である。
【図2】第2図は一般的な走査型トンネル顕微鏡の構成
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
1 微細材
2 対向電極
3 電解液薄層
4 疎水性有機溶媒
Claims (1)
- 【請求項1】 電解液中に、走査型トンネル顕微鏡製
造用の金属製の線状微細材を浸漬して電解研磨すること
により先端が先鋭化された走査型トンネル顕微鏡用チッ
プを製造する方法において、疎水性有機溶媒の層と、該
疎水性有機溶媒の層の上に形成された、界面活性剤を含
有する電解液の薄層とを有する処理液を用い、前記線状
微細材を、前記電解液薄層及び疎水性有機溶媒層の双方
に浸漬されるように該処理液中に上下方向に挿入し、該
線状微細材のうち該電解液薄層に接している部分を、該
部分が切断されるまで電解研磨することを特徴とする走
査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11614291A JPH04344403A (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11614291A JPH04344403A (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04344403A true JPH04344403A (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=14679790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11614291A Pending JPH04344403A (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04344403A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100390526C (zh) * | 2003-03-27 | 2008-05-28 | 上海交通大学 | 扫描隧道显微镜针尖自动控制刻蚀仪 |
CN102560616A (zh) * | 2011-11-18 | 2012-07-11 | 首都师范大学 | 用于制备金属纳米针尖的装置 |
CN102650073A (zh) * | 2011-02-24 | 2012-08-29 | 清华大学 | 一种在宏观细丝一端直接获得微纳米线的电化学腐蚀方法 |
CN104532337A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-04-22 | 中国矿业大学 | 一种电腐蚀法快速大面积制备铁基超疏水表面的方法 |
CN104880579A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-09-02 | 常州朗道科学仪器有限公司 | 超高真空自旋极化扫描隧道显微镜探针的制备方法和装置 |
CN105301289A (zh) * | 2014-06-13 | 2016-02-03 | 中国科学院物理研究所 | 一种电化学制备金属针尖的装置及方法 |
-
1991
- 1991-05-21 JP JP11614291A patent/JPH04344403A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100390526C (zh) * | 2003-03-27 | 2008-05-28 | 上海交通大学 | 扫描隧道显微镜针尖自动控制刻蚀仪 |
CN102650073A (zh) * | 2011-02-24 | 2012-08-29 | 清华大学 | 一种在宏观细丝一端直接获得微纳米线的电化学腐蚀方法 |
CN102560616A (zh) * | 2011-11-18 | 2012-07-11 | 首都师范大学 | 用于制备金属纳米针尖的装置 |
CN105301289A (zh) * | 2014-06-13 | 2016-02-03 | 中国科学院物理研究所 | 一种电化学制备金属针尖的装置及方法 |
CN104532337A (zh) * | 2015-01-09 | 2015-04-22 | 中国矿业大学 | 一种电腐蚀法快速大面积制备铁基超疏水表面的方法 |
CN104880579A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-09-02 | 常州朗道科学仪器有限公司 | 超高真空自旋极化扫描隧道显微镜探针的制备方法和装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6931661B2 (ja) | 遊離固形物によるイオン輸送を介して金属を平滑化し、研磨する方法、および前記方法を実施するための固形物 | |
Musselman et al. | Platinum/iridium tips with controlled geometry for scanning tunneling microscopy | |
KR100303676B1 (ko) | 표면을청소하는방법 | |
JP4115562B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
DE60319132T2 (de) | Reinigungsmittel, reinigungs- und herstellungsverfahren für halbleiterscheiben | |
TW201139306A (en) | Preparation of synthetic quartz glass substrates | |
Stemmer et al. | Scanning tunneling and transmission electron microscopy on identical areas of biological specimens | |
JPH04344403A (ja) | 走査型トンネル顕微鏡用チップの製造方法 | |
JP6110715B2 (ja) | Ni−Pメッキされたアルミ磁気ディスク基板粗研磨用研磨剤組成物、Ni−Pメッキされたアルミ磁気ディスク基板の研磨方法、Ni−Pメッキされたアルミ磁気ディスク基板の製造方法、及びNi−Pメッキされたアルミ磁気ディスク基板 | |
JP2007030146A (ja) | ナノ構造体の製造方法 | |
TW201718842A (zh) | 包含特定含硫化合物及糖醇或多元羧酸之化學機械拋光後之清洗組合物 | |
CN110658360A (zh) | 一种超细原子力显微镜金属探针的制备方法和装置 | |
US5085746A (en) | Method of fabricating scanning tunneling microscope tips | |
Ranaweera et al. | Real-time visualization of the cleaning of ceria particles from silicon dioxide films using PVA brush scrubbing | |
CN109722683B (zh) | 具有锥刺状表面的金纳米结构及其制备方法和用途 | |
US5164595A (en) | Scanning tunneling microscope tips | |
CN111220637B (zh) | 基于扫描电镜背散射模式下的纳米析出物图像获取方法 | |
Leidheiser Jr | The Mechanism of Leveling during the Electrodeposition of Nickel in the Presence of Organic Compoundsa–d | |
KR100379748B1 (ko) | 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법 | |
SU876808A1 (ru) | Раствор дл электрохимического полировани изделий из ниоби | |
Palomar et al. | Impact assessment of different cleaning methods for tarnished silver artefacts | |
JPH0357158B2 (ja) | ||
JP4354548B2 (ja) | 走査トンネル顕微鏡の銀探針製作方法 | |
JP3758613B2 (ja) | 液晶パネル用洗浄剤組成物 | |
CN107532115A (zh) | 玻璃制硬盘基板用清洗剂组合物 |