JPH0434345A - プリント基板検査装置のためのイメージ読取りシステム - Google Patents
プリント基板検査装置のためのイメージ読取りシステムInfo
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- JPH0434345A JPH0434345A JP2142889A JP14288990A JPH0434345A JP H0434345 A JPH0434345 A JP H0434345A JP 2142889 A JP2142889 A JP 2142889A JP 14288990 A JP14288990 A JP 14288990A JP H0434345 A JPH0434345 A JP H0434345A
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
この発明は、プリント基板の光学的外観検査装置で使用
されるイメージ読取りシステムに関するもので、特に、
配線パターンとスルーホールとのそれぞれの光学的イメ
ージを同時にとらえるための改良に関する。
されるイメージ読取りシステムに関するもので、特に、
配線パターンとスルーホールとのそれぞれの光学的イメ
ージを同時にとらえるための改良に関する。
周知のように、プリント基板においてはその片面または
両面に金属製の配線パターンが形成されるとともに、電
子部品の実装のためのスルーホールが基板を貫く方向に
形成されている。そして、これらの配線パターンやスル
ーホールが許容誤差以内の正確さで形成されているか否
かを検査するために、種々のタイプの光学的外観検査装
置が利用されている。
両面に金属製の配線パターンが形成されるとともに、電
子部品の実装のためのスルーホールが基板を貫く方向に
形成されている。そして、これらの配線パターンやスル
ーホールが許容誤差以内の正確さで形成されているか否
かを検査するために、種々のタイプの光学的外観検査装
置が利用されている。
第13図は配線パターン検査装置に用いられるイメージ
読取りシステムの従来例を示す概念図である。光源1で
発生した光2はハーフミラ−3によって反射され、プリ
ント基板5の表面へと照射される。このプリント基板5
には配線パターン6とスルーホール7とが形成されてお
り、光2がその表面で反射して得られる反射光8は、ハ
ーフミラ−3および結像レンズ4を介してリニアイメー
ジセンサ9上に結像する。
読取りシステムの従来例を示す概念図である。光源1で
発生した光2はハーフミラ−3によって反射され、プリ
ント基板5の表面へと照射される。このプリント基板5
には配線パターン6とスルーホール7とが形成されてお
り、光2がその表面で反射して得られる反射光8は、ハ
ーフミラ−3および結像レンズ4を介してリニアイメー
ジセンサ9上に結像する。
リニアイメージセンサ9における受光レベルの例が第1
4図に示されており、この受光レベルは第13図のに−
に線に沿ったリニアイメージに相当する。配線パターン
6は金属製であるためその光反射率は大きく、この配線
パターン6に相当する受光レベルも大きい。これに対し
て基板5の絶縁ベース5aからの受光レベルは比較的小
さく、スルーホール7では光2が基板5の下方へ透過し
てしまうため、そこからの受光レベルは実質的にゼロで
ある。このため、閾値THを用いて受光レベルを判別す
れば、配線パターン6のイメージを把握可能である。
4図に示されており、この受光レベルは第13図のに−
に線に沿ったリニアイメージに相当する。配線パターン
6は金属製であるためその光反射率は大きく、この配線
パターン6に相当する受光レベルも大きい。これに対し
て基板5の絶縁ベース5aからの受光レベルは比較的小
さく、スルーホール7では光2が基板5の下方へ透過し
てしまうため、そこからの受光レベルは実質的にゼロで
ある。このため、閾値THを用いて受光レベルを判別す
れば、配線パターン6のイメージを把握可能である。
このように、第13図の従来装置では、各領域5a、6
.7のそれぞれからの受光レベルの差が大きいというこ
とを前提としている。しかしながら、配線パターン6の
表面における光反射率は必ずしも一様ではなく、そこか
らの受光レベルも変動する場合がある。また、スルーホ
ール7の内壁部分からの反射光によって受光レベルの波
形が複雑となり、配線パターン6とスルーホール7との
それぞれのイメージの境界が不明確となる。
.7のそれぞれからの受光レベルの差が大きいというこ
とを前提としている。しかしながら、配線パターン6の
表面における光反射率は必ずしも一様ではなく、そこか
らの受光レベルも変動する場合がある。また、スルーホ
ール7の内壁部分からの反射光によって受光レベルの波
形が複雑となり、配線パターン6とスルーホール7との
それぞれのイメージの境界が不明確となる。
このような状況に対処するため、プリント基板の裏面側
にも別光源を配置し、その別光源からスルーホールを透
過した光を反射光とともにひとつのイメージセンサで検
出する方式が提案されている。このような例としては、
特公昭62−29737号公報に記載された技術がある
。また、ホールイメージのみをとらえる装置としては、
たとえば特開昭62−276443号公報に記載された
技術がある。
にも別光源を配置し、その別光源からスルーホールを透
過した光を反射光とともにひとつのイメージセンサで検
出する方式が提案されている。このような例としては、
特公昭62−29737号公報に記載された技術がある
。また、ホールイメージのみをとらえる装置としては、
たとえば特開昭62−276443号公報に記載された
技術がある。
ところで、このような光学的外観検査においては、配線
パターンとスルーホールとのそれぞれの形成状況を個別
に把握する必要があるばかりでなく、配置パターンとス
ルーホールとの相互位置関係も検査しなければならない
。したがって、配線パターンとスルーホールとのそれぞ
れのイメージを同時にとらえることかできる検査装置が
必要となってくる。しかしながら、上記の従来技術は配
線パターンのみ、またはスルーホールのみについてその
イメージをとらえようとするものであって、双方のイメ
ージを同時に把握するようには構成されていない。この
ため、このような技術を用いた場合には、配線パターン
の位置とスルーホールの位置との相互関係を知るために
それぞれのパターンを別々に検出し、その上で双方のパ
ターンの位置関係を算出するという手続が必要となる。
パターンとスルーホールとのそれぞれの形成状況を個別
に把握する必要があるばかりでなく、配置パターンとス
ルーホールとの相互位置関係も検査しなければならない
。したがって、配線パターンとスルーホールとのそれぞ
れのイメージを同時にとらえることかできる検査装置が
必要となってくる。しかしながら、上記の従来技術は配
線パターンのみ、またはスルーホールのみについてその
イメージをとらえようとするものであって、双方のイメ
ージを同時に把握するようには構成されていない。この
ため、このような技術を用いた場合には、配線パターン
の位置とスルーホールの位置との相互関係を知るために
それぞれのパターンを別々に検出し、その上で双方のパ
ターンの位置関係を算出するという手続が必要となる。
このため、検査時間が長くなり、システム構成も複雑に
なるという問題がある。
なるという問題がある。
そして、このような事情は、プリント基板に形成される
スルーホールの径が次第に小さくなり、たとえば直径0
.5〜O,lll1mのスルーホール(ミニバイアホー
ル)が利用されている状況においては特に深刻になって
くる。
スルーホールの径が次第に小さくなり、たとえば直径0
.5〜O,lll1mのスルーホール(ミニバイアホー
ル)が利用されている状況においては特に深刻になって
くる。
この発明は、従来技術における上述の問題の克服を意図
しており、プリント基板における配線パターンとスルー
ホールとのそれぞれのイメージを同時かつ正確に検出し
、それによって高速かつ高精度の外観検査を行うことが
できるイメージ読取りシステムを提供することを目的と
する。
しており、プリント基板における配線パターンとスルー
ホールとのそれぞれのイメージを同時かつ正確に検出し
、それによって高速かつ高精度の外観検査を行うことが
できるイメージ読取りシステムを提供することを目的と
する。
上述の目的を達成するため、この発明の第1の構成では
、プリント基板における配線パターンとスルーホールと
の外観を光学的に検査するための装置で使用されるイメ
ージ読取りシステムにおいて、(a) 第1の波長を
有する第1の光を発生し、前記プリント基板の被検査表
面に向けて前記第1の光を照射する第1の光源系と、(
b) 第2の波長を有する第2の光を発生し、前記被
検査表面の裏側から前記第2の光を前記プリント基板に
向けて照射する第2の光源系とを設ける。
、プリント基板における配線パターンとスルーホールと
の外観を光学的に検査するための装置で使用されるイメ
ージ読取りシステムにおいて、(a) 第1の波長を
有する第1の光を発生し、前記プリント基板の被検査表
面に向けて前記第1の光を照射する第1の光源系と、(
b) 第2の波長を有する第2の光を発生し、前記被
検査表面の裏側から前記第2の光を前記プリント基板に
向けて照射する第2の光源系とを設ける。
そして、さらに、(c) 前記第1の光が前記被検査
表面によって反射して得られる反射光と、前記第2の光
が前記スルーホールを透過して得られる透過光との複合
光を結像光学系を介して受光し、前記反射光と前記透過
光とを空間的に相互分離する光分離手段と、(d)
前記光分離手段で分離された後の前言己反射光を受光す
ることにより前記配線パターンのイメージ信号を生成す
る第1のイメージセンサと、(e) 前記光分離手段
で分離された後の前記透過光を受光することにより、前
記スルーホールのイメージ信号を生成する第2のイメー
ジセンサとを設けることによって、配線パターンとスル
ーホールとのそれぞれのイメージが検出される。
表面によって反射して得られる反射光と、前記第2の光
が前記スルーホールを透過して得られる透過光との複合
光を結像光学系を介して受光し、前記反射光と前記透過
光とを空間的に相互分離する光分離手段と、(d)
前記光分離手段で分離された後の前言己反射光を受光す
ることにより前記配線パターンのイメージ信号を生成す
る第1のイメージセンサと、(e) 前記光分離手段
で分離された後の前記透過光を受光することにより、前
記スルーホールのイメージ信号を生成する第2のイメー
ジセンサとを設けることによって、配線パターンとスル
ーホールとのそれぞれのイメージが検出される。
各イメージ信号の処理方式については特に限定するもの
ではなく、種々の方式が利用可能である。
ではなく、種々の方式が利用可能である。
一方、この発明の第2の構成では、波長が異なる2種類
の光のかわりに、偏光方向が異なる2種類の光を利用す
る。
の光のかわりに、偏光方向が異なる2種類の光を利用す
る。
好ましくは、少なくともプリント基板側においてテレセ
ントリックとなっているテレセントリックレンズ系を結
像光学系として使用する。
ントリックとなっているテレセントリックレンズ系を結
像光学系として使用する。
コノ発明では、配線パターンとスルーホールとのそれぞ
れのイメージを得るために、2種類の光源系が準備され
ている。第1の光源系は配線パターンの落射照明のため
のものであり、第2の光源系はスルーホールの透過照明
のためのものである。
れのイメージを得るために、2種類の光源系が準備され
ている。第1の光源系は配線パターンの落射照明のため
のものであり、第2の光源系はスルーホールの透過照明
のためのものである。
これらの2種類の光源系からのそれぞれの光は共通の被
検査エリアに向けて照射されるため、配線パターンから
の反射光とスルーホールからの透過光とは、空間的に重
なり合った複合光を形成する。したがって、第1と第2
の光源系から照射されるそれぞれの光の性質を同一とし
た場合には上記反射光と透過光とを相互に分離すること
はできない。
検査エリアに向けて照射されるため、配線パターンから
の反射光とスルーホールからの透過光とは、空間的に重
なり合った複合光を形成する。したがって、第1と第2
の光源系から照射されるそれぞれの光の性質を同一とし
た場合には上記反射光と透過光とを相互に分離すること
はできない。
そこで、この発明の第1の構成では、落射照明用の第1
の光の波長と透過照明用の第2の光の波長とを異なった
ものとする。このようにすれば、光分離手段として波長
分離ミラーなどを用いて反射波と透過波とを相互に分離
することが可能であり、配線パターンとスルーホールと
を同時かつ正確に検出できる。
の光の波長と透過照明用の第2の光の波長とを異なった
ものとする。このようにすれば、光分離手段として波長
分離ミラーなどを用いて反射波と透過波とを相互に分離
することが可能であり、配線パターンとスルーホールと
を同時かつ正確に検出できる。
また、この発明の第2の構成では、偏光方向が異なる第
1と第2の光を使用する。これらの光から得られる反射
光と透過光とは、光分離手段として偏光ビームスプリッ
タなどを用いて分離可能である。
1と第2の光を使用する。これらの光から得られる反射
光と透過光とは、光分離手段として偏光ビームスプリッ
タなどを用いて分離可能である。
さらに、第3の構成では、結像光学系としてテレセント
リックレンズ系を使用している。したがって、径の小さ
なスルーホール(ミニバイアホール)についても、その
透過光を利用した像を正確に得ることができる。
リックレンズ系を使用している。したがって、径の小さ
なスルーホール(ミニバイアホール)についても、その
透過光を利用した像を正確に得ることができる。
<A、全体構成〉
第1A図はこの発明の一実施例であるイメージ読取りシ
ステムを組込んだプリント基板検査装置10の切欠き平
面図であり、第1B図はその側面図である。この装置1
0は下部ハウジング11と上部ハウジング第2とを備え
ており、下部ハウジング11の上面開口付近には、水平
方向に移動テーブル13が設けられている。移動テーブ
ル13は矩形フレーム14の中にガラス板15を取付け
た構造となっており、このガラス板15の下面15aは
スリ面となっている。そして、ガラス板15の上面15
b上にプリント基板20が載置されて、このガラス板1
5によって支持される。
ステムを組込んだプリント基板検査装置10の切欠き平
面図であり、第1B図はその側面図である。この装置1
0は下部ハウジング11と上部ハウジング第2とを備え
ており、下部ハウジング11の上面開口付近には、水平
方向に移動テーブル13が設けられている。移動テーブ
ル13は矩形フレーム14の中にガラス板15を取付け
た構造となっており、このガラス板15の下面15aは
スリ面となっている。そして、ガラス板15の上面15
b上にプリント基板20が載置されて、このガラス板1
5によって支持される。
第2図に示すように、プリント基板20はガラスエポキ
シによって形成された絶縁ベース板27とその片面また
は両面に形成された銅製のプリント配線パターン22と
を有している。プリント配線パターン22は配線部分2
3とランド24とを有しており、ランド24中にはこの
プリント基板20を貫通するスルーホール25が形成さ
れている。
シによって形成された絶縁ベース板27とその片面また
は両面に形成された銅製のプリント配線パターン22と
を有している。プリント配線パターン22は配線部分2
3とランド24とを有しており、ランド24中にはこの
プリント基板20を貫通するスルーホール25が形成さ
れている。
第1A図および第1B図に戻って、フレーム14は一対
のガイドレール16上をスライド可能であり、このガイ
ドレール16に平行な方向にボールネジ17が伸びてい
る。フレーム14に固定されたボールナツト19がこの
ボールネジ17に螺合しており、モータ18によってボ
ールネジ17を回転させると移動テーブル13は水平(
土Y)方向に移動する。
のガイドレール16上をスライド可能であり、このガイ
ドレール16に平行な方向にボールネジ17が伸びてい
る。フレーム14に固定されたボールナツト19がこの
ボールネジ17に螺合しており、モータ18によってボ
ールネジ17を回転させると移動テーブル13は水平(
土Y)方向に移動する。
一方、上部ハウジング第2の内部にはイメージ読取りシ
ステム50が設けられている。イメージ読取りシステム
50の中央上部には、水平(±X)方向に伸びた光学へ
ラドアレイ100が配置されている。この光学へラドア
レイ100は8個の光学ヘッドHO〜H7を備えており
、これらの光学ヘッドHO〜H7は支持材101によっ
て等間隔に支持されている。この支持材101はガイド
材]02上を(±X)方向にスライド可能であり、ガイ
ド材102は一対の側部フレーム材51a。
ステム50が設けられている。イメージ読取りシステム
50の中央上部には、水平(±X)方向に伸びた光学へ
ラドアレイ100が配置されている。この光学へラドア
レイ100は8個の光学ヘッドHO〜H7を備えており
、これらの光学ヘッドHO〜H7は支持材101によっ
て等間隔に支持されている。この支持材101はガイド
材]02上を(±X)方向にスライド可能であり、ガイ
ド材102は一対の側部フレーム材51a。
51bに固定されている。この側部フレーム材51a、
51bはハウジング11.第2に対して固定された位置
にある。また、支持材101は、ボールナツト(図示せ
ず)とボールネジ104とを介してモータ103に結合
されている。したがってモータ103を回転させると、
光学ヘッドHO〜H7は支持材101とともに(±X)
方向に移動可能である。
51bはハウジング11.第2に対して固定された位置
にある。また、支持材101は、ボールナツト(図示せ
ず)とボールネジ104とを介してモータ103に結合
されている。したがってモータ103を回転させると、
光学ヘッドHO〜H7は支持材101とともに(±X)
方向に移動可能である。
光学ヘッドHO〜H7の下方には透過照明用光源第20
が配置されている。この光源第20は、多数の赤外線L
EDを(±X)方向に配列したものであって、実質的に
線状光源として機能する。
が配置されている。この光源第20は、多数の赤外線L
EDを(±X)方向に配列したものであって、実質的に
線状光源として機能する。
この光源第20は支持杆第21,第22によって側部フ
レーム51から支持されている。また、光学ヘッドHO
〜H7のそれぞれの下部には落射照明用光源110が取
付けられている。後に詳述するように、この光源110
は(±X)方向に伸びた赤色LEDの1次元配列を3組
備えている。
レーム51から支持されている。また、光学ヘッドHO
〜H7のそれぞれの下部には落射照明用光源110が取
付けられている。後に詳述するように、この光源110
は(±X)方向に伸びた赤色LEDの1次元配列を3組
備えている。
光学へラドアレイ100の前後には押えローラ機構20
OA、200Bが設けられている。前方ローラ機構20
0Aは8組のローラユニット210Aを備えており、シ
ャフト201Aを介して側部フレーム51a、51bに
取付けられている。
OA、200Bが設けられている。前方ローラ機構20
0Aは8組のローラユニット210Aを備えており、シ
ャフト201Aを介して側部フレーム51a、51bに
取付けられている。
後方ローラ機構200Bも8組のローラユニット210
Bを備えており、シャフト201Bを介して側部フレー
ム51a、51bに取付けられている。これらのローラ
ユニット20OA、200Bは、揺動自在のアームによ
って支持されたゴムローラを有しており、このゴムロー
ラとアームとはバネによって付勢されている。これらの
ローラ機構200A、200Bは、プリント基板20が
その下方に送られてきたときに、基板20を押えてその
位置ずれとたわみとを防止するために設けられている。
Bを備えており、シャフト201Bを介して側部フレー
ム51a、51bに取付けられている。これらのローラ
ユニット20OA、200Bは、揺動自在のアームによ
って支持されたゴムローラを有しており、このゴムロー
ラとアームとはバネによって付勢されている。これらの
ローラ機構200A、200Bは、プリント基板20が
その下方に送られてきたときに、基板20を押えてその
位置ずれとたわみとを防止するために設けられている。
下部ハウジング11の両側部上面には、一対の操作スイ
ッチ盤26が取付けられている。これらのスイッチ盤2
6には同一のスイッチ群が設けられており、ハウジング
11のいずれの側からも容易にスイッチ操作が行えるよ
うになっている。また、上部ハウジング第2中には、各
種のデータ処理や動作制御を行うためのデータ処理装置
300が配置されている。
ッチ盤26が取付けられている。これらのスイッチ盤2
6には同一のスイッチ群が設けられており、ハウジング
11のいずれの側からも容易にスイッチ操作が行えるよ
うになっている。また、上部ハウジング第2中には、各
種のデータ処理や動作制御を行うためのデータ処理装置
300が配置されている。
<B、概略動作〉
この検査装置10の細部構成を説明する前に、この装置
10の概略動作について述べておく。まず、jilA図
および第1B図の状態でプリント基板20がガラス板1
5の上に載置される。そしてスイッチ盤26が操作され
るとモータ18が正回転し、移動テーブル13とともに
プリント基板20が(+Y)方向へ移動する。また、光
源110゜第20が点灯する。
10の概略動作について述べておく。まず、jilA図
および第1B図の状態でプリント基板20がガラス板1
5の上に載置される。そしてスイッチ盤26が操作され
るとモータ18が正回転し、移動テーブル13とともに
プリント基板20が(+Y)方向へ移動する。また、光
源110゜第20が点灯する。
テーブル13の移動に伴ってプリント基板20がイメー
ジ読取りシステム50の位置へ至ると、押えローラ機構
20OA、200Bのローラがプリント基板20をガラ
ス板15に向けて押え付けつつ基板20の移動に伴って
回転する。そして、光源110からの落射照明によって
配線パターン22(第2図)のイメージが線順次に光学
ヘッドHO〜H7で読取られるとともに光源第20から
の透過照明によってスルーホール25のイメージが線順
次に光学ヘッドHO〜H7で読取られる。
ジ読取りシステム50の位置へ至ると、押えローラ機構
20OA、200Bのローラがプリント基板20をガラ
ス板15に向けて押え付けつつ基板20の移動に伴って
回転する。そして、光源110からの落射照明によって
配線パターン22(第2図)のイメージが線順次に光学
ヘッドHO〜H7で読取られるとともに光源第20から
の透過照明によってスルーホール25のイメージが線順
次に光学ヘッドHO〜H7で読取られる。
この読取りのための光学ヘッドHO〜H7の内部構成は
後述する。
後述する。
ところで、光学ヘッドHO−H7は直線状に配列されて
いるが、それぞれの視野の間にはギャップがあるため、
プリント基板20を(+Y)方向に移動させても、その
表面の画像全体を読取ることはできない。そこで、プリ
ント基板20を(+Y)方向に移動させ終った後にモー
タ103を駆動し、それによって光学ヘッドHO〜H7
の全体を(+X)方向へと移動させる。その移動量は光
学ヘッドHO〜H7の相互配列ピッチの半分とされる。
いるが、それぞれの視野の間にはギャップがあるため、
プリント基板20を(+Y)方向に移動させても、その
表面の画像全体を読取ることはできない。そこで、プリ
ント基板20を(+Y)方向に移動させ終った後にモー
タ103を駆動し、それによって光学ヘッドHO〜H7
の全体を(+X)方向へと移動させる。その移動量は光
学ヘッドHO〜H7の相互配列ピッチの半分とされる。
そして、この移動の後にモータ18を逆回転させてプリ
ント基板20を(−Y)方向に移動させつつ、光学ヘッ
ドHO〜H7による配線パターン22とスルーホール2
5とのイメージの読取りを行う。
ント基板20を(−Y)方向に移動させつつ、光学ヘッ
ドHO〜H7による配線パターン22とスルーホール2
5とのイメージの読取りを行う。
その結果、jlilA図中に実線矢印A1で示すスキャ
ンと破線矢印A2で示すスキャンとが実行されることに
なり、プリント基板20の表面全域にわたるイメージの
読取りが実現される。読取られたイメージはデータ処理
装置300に与えられ、所定の基準に従って配線パター
ン22とスルーホール25との良否が判定される。
ンと破線矢印A2で示すスキャンとが実行されることに
なり、プリント基板20の表面全域にわたるイメージの
読取りが実現される。読取られたイメージはデータ処理
装置300に与えられ、所定の基準に従って配線パター
ン22とスルーホール25との良否が判定される。
くC1光学ヘッドの詳細〉
第3A図は光学ヘッドHOの内部構成を示す模式的側面
図である。この第3A図はひとつの光学ヘッドHOにつ
いてのものであるが、他の光学ヘッドH1〜H7もこれ
と同一の構造を有している。
図である。この第3A図はひとつの光学ヘッドHOにつ
いてのものであるが、他の光学ヘッドH1〜H7もこれ
と同一の構造を有している。
光学ヘッドHOはケーシング130を有しており、この
ケーシング130の下部に取付けた支持材116.11
7によって落射照明用光源110か吊下げられている。
ケーシング130の下部に取付けた支持材116.11
7によって落射照明用光源110か吊下げられている。
光源110は正反射用光源111と乱反射用光源1第2
,113との組合せからなり、各光源111,1第2.
113のそれぞれは、波長λ1(−800〜700 n
m)の赤色光を発生する赤色LED115(第3B図)
の−次元配列からなる実質的な線状光源である。
,113との組合せからなり、各光源111,1第2.
113のそれぞれは、波長λ1(−800〜700 n
m)の赤色光を発生する赤色LED115(第3B図)
の−次元配列からなる実質的な線状光源である。
これらのうち、乱反射用光源1第2,113は、光学ヘ
ッドHO内に設けた結像レンズ系140の光軸LAから
かなり離れた位置に配置されているが、正反射用光源1
11はその端部が光軸LAに接する位置に設けられてい
る。後述するように結像レンズ系140はCCDリニア
イメージセンサ161.162上にプリント基板20の
配線パターン22とスルーホール25とのイメージをそ
れぞれ結像させるためのものである。そして、乱反射用
光源1第2.113はその結像のための開口角外に配置
され、正反射用光源111はその開口角の一部に配置さ
れていることになる。
ッドHO内に設けた結像レンズ系140の光軸LAから
かなり離れた位置に配置されているが、正反射用光源1
11はその端部が光軸LAに接する位置に設けられてい
る。後述するように結像レンズ系140はCCDリニア
イメージセンサ161.162上にプリント基板20の
配線パターン22とスルーホール25とのイメージをそ
れぞれ結像させるためのものである。そして、乱反射用
光源1第2.113はその結像のための開口角外に配置
され、正反射用光源111はその開口角の一部に配置さ
れていることになる。
これらの光源111,1第2.113からの光は、プリ
ント基板20の上面のうちその時点て光学ヘッドHOの
直下に存在する被検査エリアARに向けて照射される。
ント基板20の上面のうちその時点て光学ヘッドHOの
直下に存在する被検査エリアARに向けて照射される。
落射照明のために正反射用光源111と乱反射用光源1
第2.113とを設けているのは、配線パターン22の
表面は必ずしも鏡面となっていないため、配線パターン
22のイメージを正確にとらえるにはそれからの正反射
と乱反射との双方を利用することが好ましいからである
。なお、前述の光源111,1第2.113は、結像レ
ンズ系140側(図中で上側)が遮光されている。
第2.113とを設けているのは、配線パターン22の
表面は必ずしも鏡面となっていないため、配線パターン
22のイメージを正確にとらえるにはそれからの正反射
と乱反射との双方を利用することが好ましいからである
。なお、前述の光源111,1第2.113は、結像レ
ンズ系140側(図中で上側)が遮光されている。
一方、透過用光源第20は、波長λ2(−700〜1O
DOn■)の赤外光を発生する赤外LED第25(第3
B図)の1次元配列からなっている。この光源第20は
、結像レンズ系140の光軸LAと直角に交わる線上に
設けである。そして、この光源第20は、プリント基板
20の裏面のうち、被検査エリアARの裏側に相当する
エリアに向けて(+2)方向に赤外光を照射する。
DOn■)の赤外光を発生する赤外LED第25(第3
B図)の1次元配列からなっている。この光源第20は
、結像レンズ系140の光軸LAと直角に交わる線上に
設けである。そして、この光源第20は、プリント基板
20の裏面のうち、被検査エリアARの裏側に相当する
エリアに向けて(+2)方向に赤外光を照射する。
落射照明用光源111,1第2,113から被検査エリ
アARに向けて照射された赤色光はこの被検査エリアA
Rで反射される。また、透過照明用光源第20から照射
された赤外光のうちスルーホール25に向かう部分はス
ルーホール25を透過する。そして、これらの反射光と
透過光とは、空間的に重なり合った複合光として光学ヘ
ッドHOへと向かう。
アARに向けて照射された赤色光はこの被検査エリアA
Rで反射される。また、透過照明用光源第20から照射
された赤外光のうちスルーホール25に向かう部分はス
ルーホール25を透過する。そして、これらの反射光と
透過光とは、空間的に重なり合った複合光として光学ヘ
ッドHOへと向かう。
第4図に示すように、プリント基板20の被検査エリア
ARから結像レンズ系140の入射瞳の範囲内に向う光
束り。のうち、その半分に相当する部分L のみが結像
レンズ系140に到達し、残りの半分に相当する部分L
5は光源111およびその支持材116によってケラれ
る。したがって、部分り、Lbをそれぞれ「有効光束」
。
ARから結像レンズ系140の入射瞳の範囲内に向う光
束り。のうち、その半分に相当する部分L のみが結像
レンズ系140に到達し、残りの半分に相当する部分L
5は光源111およびその支持材116によってケラれ
る。したがって、部分り、Lbをそれぞれ「有効光束」
。
「無効光束」と呼ぶことにすれば、有効光束り。
の投射立体角(結像レンズ系140の複合光取込み角)
ω と無効光束L の投射立体角ω5とのa
b それぞれは、光束り。の投射立体角(開口角沖。の半分
となっている。すなわち、次式(1)〜(4)か成立す
る。
ω と無効光束L の投射立体角ω5とのa
b それぞれは、光束り。の投射立体角(開口角沖。の半分
となっている。すなわち、次式(1)〜(4)か成立す
る。
ω +ωb−ω0 ・・・(1)、
。 ・・・(2)ω −(
1−α)・ω ・・・(3)α−1/2
・・・(4)有効光束
L は第3A図に示すように結像レンズ系140を通っ
てコールドミラー150へと入射する。コールドミラー
150は赤外線のみを透過するミラーである。したがっ
て、有効光束Laに含まれる光のうち赤色光(すなわち
、プリント基板20の表面からの反射光LR)はこのミ
ラー150で反射されて(+Y)方向に進み、第1のC
CDリニアイメージセンサ−61の受光面上で結像する
。また、有効光束Laに含まれる赤外光(スルーホール
25の透過光LT)はミラー150を透過して第2のC
CDリニアイメージセンサ162の受光面上で結像する
。
。 ・・・(2)ω −(
1−α)・ω ・・・(3)α−1/2
・・・(4)有効光束
L は第3A図に示すように結像レンズ系140を通っ
てコールドミラー150へと入射する。コールドミラー
150は赤外線のみを透過するミラーである。したがっ
て、有効光束Laに含まれる光のうち赤色光(すなわち
、プリント基板20の表面からの反射光LR)はこのミ
ラー150で反射されて(+Y)方向に進み、第1のC
CDリニアイメージセンサ−61の受光面上で結像する
。また、有効光束Laに含まれる赤外光(スルーホール
25の透過光LT)はミラー150を透過して第2のC
CDリニアイメージセンサ162の受光面上で結像する
。
これらのCCDリニアイメージセンサ−61゜162は
(±X)方向に1次元配列したCCD受光セルを有して
いる。このため、第1のリニアイメージセンサ−61で
は落射照明によるプリント基板20の表面の1次元イメ
ージが検出され、第2のリニアイメージセンサ−62で
は透過照明によるスルーホール25の1次元イメージが
検出される。そして、第1A図および第1B図に示した
移動機構によってプリント基板20と光学ヘッドアレイ
100とを相対的に移動させることにより、プリント基
板20の各エリアがスキヤニ/され、各エリアについて
の配線パターン22とスルーホール25との2次元イメ
ージが把握される。
(±X)方向に1次元配列したCCD受光セルを有して
いる。このため、第1のリニアイメージセンサ−61で
は落射照明によるプリント基板20の表面の1次元イメ
ージが検出され、第2のリニアイメージセンサ−62で
は透過照明によるスルーホール25の1次元イメージが
検出される。そして、第1A図および第1B図に示した
移動機構によってプリント基板20と光学ヘッドアレイ
100とを相対的に移動させることにより、プリント基
板20の各エリアがスキヤニ/され、各エリアについて
の配線パターン22とスルーホール25との2次元イメ
ージが把握される。
リニアイメージセンサ161,162で得られたイメー
ジ信号は後述する回路によってデジタル化された後、第
5図(a) 、 (b)に示すように閾値TH1,TH
2を用いて2値化される。ただし、第5 図(a>は第
1のリニアイメージセンサ16]で得られるイメージ信
号PSoの例を示し、第5図(b)は第2のリニアイメ
ージセンサ162で得られるイメージ信号H8oの例を
示している。
ジ信号は後述する回路によってデジタル化された後、第
5図(a) 、 (b)に示すように閾値TH1,TH
2を用いて2値化される。ただし、第5 図(a>は第
1のリニアイメージセンサ16]で得られるイメージ信
号PSoの例を示し、第5図(b)は第2のリニアイメ
ージセンサ162で得られるイメージ信号H8oの例を
示している。
第3B図は第3A図に示した光学ヘッドHOの模式的正
面図であり、この第3B図においては、図示の便宜上、
第1のリニアイメージセンサ161は省略されている。
面図であり、この第3B図においては、図示の便宜上、
第1のリニアイメージセンサ161は省略されている。
また、光学ヘッドHO内の光路もスルーホール透過光の
みについて示しである。そして、この実施例では結像レ
ンズ系140として、プリント基板20側とリニアイメ
ージセンサ161.162側とのいずれにおいてもテレ
セントリックとなっているテレセントリックレンズ系が
使用されている。このため、このレンズ系140の視野
内にある各スルーホール25からの透過光の結像光軸は
、レンズ系140の前方および後方のいずれにおいても
レンズ系140自身の光軸LAと平行である。
みについて示しである。そして、この実施例では結像レ
ンズ系140として、プリント基板20側とリニアイメ
ージセンサ161.162側とのいずれにおいてもテレ
セントリックとなっているテレセントリックレンズ系が
使用されている。このため、このレンズ系140の視野
内にある各スルーホール25からの透過光の結像光軸は
、レンズ系140の前方および後方のいずれにおいても
レンズ系140自身の光軸LAと平行である。
以上の構成を有するイメージ読取りシステム50では次
のような利点がある。
のような利点がある。
(1) 配線パターン22のイメージとスルーホール
25のイメージとが同時に得られるため、外観検査を高
速に行うことができる。また、結像レンズ系140は配
線パターン22のイメージ検出とスルーホール25イメ
ージ検出とに共用されているため、ひとつの光学ヘッド
内に複数の結像レンズ系を並列的に設ける必要はない。
25のイメージとが同時に得られるため、外観検査を高
速に行うことができる。また、結像レンズ系140は配
線パターン22のイメージ検出とスルーホール25イメ
ージ検出とに共用されているため、ひとつの光学ヘッド
内に複数の結像レンズ系を並列的に設ける必要はない。
(2) 第5図(a) 、 (b)に示すように、配
線パターン22のイメージとスルーホール25のイメー
ジとがリニアイメージセンサ161,162で別個に検
出されるため、閾値レベルTRI、TH2は、それらの
相互関係を考慮せずに個別に最適の値とすることができ
る。その結果、各イメージの受光レベルが変動しても、
正確に各イメージを把握できる。
線パターン22のイメージとスルーホール25のイメー
ジとがリニアイメージセンサ161,162で別個に検
出されるため、閾値レベルTRI、TH2は、それらの
相互関係を考慮せずに個別に最適の値とすることができ
る。その結果、各イメージの受光レベルが変動しても、
正確に各イメージを把握できる。
(3) 結像レンズ系140はテレセントリックレン
ズ系となっているため、ミニバイアホールのような径の
小さなスルーホールについてもそのイメージを正確にと
らえることができる。その理由は次の通りである。すな
わち、まず、ミニバイアホールにおいては、第6図に示
すように、その長さ(深さ)Hと径りとの比(アスペク
ト比)が、たとえば、 H/ D −1,6mm/ 0.3mm
−5,8・・・(5) となっている。このため、第7A図のように非テレセン
トリックレンズ系141を用いたときには、レンズ系の
光軸から離れたホール25a、25bは透過照明の陰と
なり、これらに対応して得られるイメージ信号では、第
8A図に示すように、ホール25a、25bに対応する
ホールイメージ25A、25Bの一部分が欠けてしまう
。
ズ系となっているため、ミニバイアホールのような径の
小さなスルーホールについてもそのイメージを正確にと
らえることができる。その理由は次の通りである。すな
わち、まず、ミニバイアホールにおいては、第6図に示
すように、その長さ(深さ)Hと径りとの比(アスペク
ト比)が、たとえば、 H/ D −1,6mm/ 0.3mm
−5,8・・・(5) となっている。このため、第7A図のように非テレセン
トリックレンズ系141を用いたときには、レンズ系の
光軸から離れたホール25a、25bは透過照明の陰と
なり、これらに対応して得られるイメージ信号では、第
8A図に示すように、ホール25a、25bに対応する
ホールイメージ25A、25Bの一部分が欠けてしまう
。
これに対して、この実施例のようにテレセントリックレ
ンズ系140を用いれば、その光軸から離れたホール2
5a、25bのイメージも正確にとらえることができる
(第7B図および第8B図参照)。
ンズ系140を用いれば、その光軸から離れたホール2
5a、25bのイメージも正確にとらえることができる
(第7B図および第8B図参照)。
(4) プリント基板20の表面からレンズ系140
の入射瞳に向う光のうちの半分がリニアイメージセンサ
161.162上で結像する。これに対して第13図に
示した従来例では光源1からの光2はハーフミラ−3を
2回経由するため、イメージセンサ9に到達する光8は
光源1からの光2の1/4である。したがって、この実
施例ではリニアイメージセンサ161,162のそれぞ
れにおける受光光量が、従来例におけるイメージセンサ
9での受光光量の2倍となる。その結果、コントラスト
が大きく、ノイズの影響を受けにくいイメージを得るこ
とができる。
の入射瞳に向う光のうちの半分がリニアイメージセンサ
161.162上で結像する。これに対して第13図に
示した従来例では光源1からの光2はハーフミラ−3を
2回経由するため、イメージセンサ9に到達する光8は
光源1からの光2の1/4である。したがって、この実
施例ではリニアイメージセンサ161,162のそれぞ
れにおける受光光量が、従来例におけるイメージセンサ
9での受光光量の2倍となる。その結果、コントラスト
が大きく、ノイズの影響を受けにくいイメージを得るこ
とができる。
(5) ガラス板15の下面15a(第2図)がスリ
面となっているため、透過用光源第20からの光は基板
20の裏面に均一に照射される。このため、スルーホー
ル25のイメージ上における受光レベルが均一となる。
面となっているため、透過用光源第20からの光は基板
20の裏面に均一に照射される。このため、スルーホー
ル25のイメージ上における受光レベルが均一となる。
<D、電気的構成〉
第9図はこの実施例における電気的構成を示すブロック
図である。各光学ヘッドHO−H7から得られる配線パ
ターンイメージ信号PSo−PS7とスルーホールイメ
ージ信号H8−HS7とは、A/Dコンバータ301に
よってデジタル信号に変換された後、2値化回路302
.303へ与えられる。
図である。各光学ヘッドHO−H7から得られる配線パ
ターンイメージ信号PSo−PS7とスルーホールイメ
ージ信号H8−HS7とは、A/Dコンバータ301に
よってデジタル信号に変換された後、2値化回路302
.303へ与えられる。
光学ヘッドHOに対応する2値化回路302゜303の
組合せ304について、第10図にその詳細が示されて
いる。2値化回路302.303は比較器305,30
6によって構成されており、レジスタ307. 308
に保持されている閾値TH1,TH2がこれらの比較器
305,306に与えられている。比較器305,30
6はこれらの閾値TRI、TH2とデジタル化された後
のイメージ信号ps、psoをそれぞれ比較しく第5図
参照)、閾値THI、TH2よりも信号pso、Iso
のレベルが高いときに“Hlとなり、低いときに“L”
となる2値化信号をそれぞれ出力する。他の光学ヘッド
H1〜H7に対応する2値化回路302,303も同様
の構成となっており、レジスタ307,308からの閾
値TH1゜TH2は、2値化回路302.303のそれ
ぞれのベアについて共通に使用される。
組合せ304について、第10図にその詳細が示されて
いる。2値化回路302.303は比較器305,30
6によって構成されており、レジスタ307. 308
に保持されている閾値TH1,TH2がこれらの比較器
305,306に与えられている。比較器305,30
6はこれらの閾値TRI、TH2とデジタル化された後
のイメージ信号ps、psoをそれぞれ比較しく第5図
参照)、閾値THI、TH2よりも信号pso、Iso
のレベルが高いときに“Hlとなり、低いときに“L”
となる2値化信号をそれぞれ出力する。他の光学ヘッド
H1〜H7に対応する2値化回路302,303も同様
の構成となっており、レジスタ307,308からの閾
値TH1゜TH2は、2値化回路302.303のそれ
ぞれのベアについて共通に使用される。
第9図に戻って、このようにして得られた2値化済のイ
メージ信号はパターン検査回路400に与えられる。パ
ターン検査回路400ではそれらのイメージ信号に基づ
いて配線パターン22やスルーホール25の2次元イメ
ージを構築し、所定の基準に従ってその良否を判定する
。
メージ信号はパターン検査回路400に与えられる。パ
ターン検査回路400ではそれらのイメージ信号に基づ
いて配線パターン22やスルーホール25の2次元イメ
ージを構築し、所定の基準に従ってその良否を判定する
。
データ処理装置300にはまた、制御回路310が設け
られている。制御回路310は点灯回路311.3第2
を介して光源110,第20に点灯/消灯指令を与える
ほか、モーター8.103に駆動制御信号を出力する。
られている。制御回路310は点灯回路311.3第2
を介して光源110,第20に点灯/消灯指令を与える
ほか、モーター8.103に駆動制御信号を出力する。
また、モーター8にはロータリーエンコーダ18Eが設
けてあり、それによって検出されたモータ回転角信号が
制御回路310に取込まれる。この回転角信号は、デー
タ処理タイミングを規定する。
けてあり、それによって検出されたモータ回転角信号が
制御回路310に取込まれる。この回転角信号は、デー
タ処理タイミングを規定する。
以上のような構成によって、第1A図および第1B図に
示した光学的検査装置10は、プリント基板20の外観
検査を精度良く実行する。
示した光学的検査装置10は、プリント基板20の外観
検査を精度良く実行する。
〈E、他の実施例〉
(1) この発明は第1の構成においては、落射照明
用光源と透過照明用光源とのそれぞれから照射される光
の波長が異なっていればよく、上記実施例のように赤色
光と赤外光との組合せを必須とするものではない。
用光源と透過照明用光源とのそれぞれから照射される光
の波長が異なっていればよく、上記実施例のように赤色
光と赤外光との組合せを必須とするものではない。
たとえば、第3A図および第3B図における落射照明用
光源110として第1の波長を有する可視光を用い、透
過照明用光源第20として第2の波長を有する可視光を
用いてもよい。ただし、第1と第2の波長は、互いに異
なる波長である。このときには、コールドミラー150
のかわりにダイクロイックミラーを用いることができる
。そのダイクロイックミラーとしては、第1の波長の光
を反射し、第2の波長の光を透過するミラーを用いる。
光源110として第1の波長を有する可視光を用い、透
過照明用光源第20として第2の波長を有する可視光を
用いてもよい。ただし、第1と第2の波長は、互いに異
なる波長である。このときには、コールドミラー150
のかわりにダイクロイックミラーを用いることができる
。そのダイクロイックミラーとしては、第1の波長の光
を反射し、第2の波長の光を透過するミラーを用いる。
また、各光源110.第20としては、白色光源とカラ
ーフィルタとを組合せたものを使用してもよい。
ーフィルタとを組合せたものを使用してもよい。
(2) 第11図は、この発明の第2の構成の実施例
で用いられるイメージ読取りシステムの主要部を示す図
である。このシステムにおける光学ヘッドHOでは、落
射照明用光源系として、白色光源111A、1第2A、
113AとS波偏光板119との組合せを用いている。
で用いられるイメージ読取りシステムの主要部を示す図
である。このシステムにおける光学ヘッドHOでは、落
射照明用光源系として、白色光源111A、1第2A、
113AとS波偏光板119との組合せを用いている。
このため、落射照明光はS波(すなわちその電界ベクト
ルが±X方向となっている光波)となる。偏光板119
は図示しない支持材によって光学ヘッドHO側から支持
されている。
ルが±X方向となっている光波)となる。偏光板119
は図示しない支持材によって光学ヘッドHO側から支持
されている。
一方、透過照明用光源系は、白色光源第20Aと、P波
偏光波第29との組合せによって構成されており、P波
偏光板第20は、図示しない支持材によって白色光線第
2OA側から支持されている。このため、透過照明光は
P波(すなわちその電界ベクトルがX2面内にある光波
)となっている。
偏光波第29との組合せによって構成されており、P波
偏光板第20は、図示しない支持材によって白色光線第
2OA側から支持されている。このため、透過照明光は
P波(すなわちその電界ベクトルがX2面内にある光波
)となっている。
これらの各照明光は第3A図の場合と同様にプリント基
板20に向けて照射され、この基板20からの複合光は
テレセントリックレンズ系140を介して偏光ビームス
プリッタ151に入射する。
板20に向けて照射され、この基板20からの複合光は
テレセントリックレンズ系140を介して偏光ビームス
プリッタ151に入射する。
この偏光ビームスプリッタ151は、S波を反射し、P
波を透過させる。このため、配線パターン22のイメー
ジ情報を含むS偏光反射光LRはリニアイメージセンサ
161の受光面上で結像し、スルーホール25のイメー
ジ情報を含むP偏光透過光LTは他方のリニアイメージ
センサ162の受光面上で結像する。残余の構成は第3
A図のものと同一である。
波を透過させる。このため、配線パターン22のイメー
ジ情報を含むS偏光反射光LRはリニアイメージセンサ
161の受光面上で結像し、スルーホール25のイメー
ジ情報を含むP偏光透過光LTは他方のリニアイメージ
センサ162の受光面上で結像する。残余の構成は第3
A図のものと同一である。
この実施例においても配線パターン22とスルーホール
25とのそれぞれのイメージが別々のリニアイメージセ
ンサ161.162によって同時に検出されるため、第
3A図のシステムと同様の効果を奏する。なお、落射側
照明用の光をP偏光とし、透過照明用の光をS偏光とし
てもよい。また、レーザ光源のように特定の方向に偏光
した光を発生する光源を用いるときには、偏光板を用い
なくてもよい。
25とのそれぞれのイメージが別々のリニアイメージセ
ンサ161.162によって同時に検出されるため、第
3A図のシステムと同様の効果を奏する。なお、落射側
照明用の光をP偏光とし、透過照明用の光をS偏光とし
てもよい。また、レーザ光源のように特定の方向に偏光
した光を発生する光源を用いるときには、偏光板を用い
なくてもよい。
(3) 第第2図は光学ヘッドHOの他の構成例を示
す模式的正面図であり、第3B図に対応する。
す模式的正面図であり、第3B図に対応する。
この光学ヘッドHOでは結像レンズ系142としてプリ
ント基板20側のみテレセントリックなレンズ系を用い
ている。このような構成によってもスルーホール25の
イメージを正確にとらえることができる。
ント基板20側のみテレセントリックなレンズ系を用い
ている。このような構成によってもスルーホール25の
イメージを正確にとらえることができる。
以上説明したように、請求項1および2に記載されたい
ずれの発明においても、配線パターンは落射照明によっ
て、また、スルーホールは透過照明によってそれぞれ検
出される。したがって、それぞれのイメージを把握する
のに適した照明法が併用されるとともに、それらに使用
される2種類の光を分離できるような構成がとらえられ
ている。
ずれの発明においても、配線パターンは落射照明によっ
て、また、スルーホールは透過照明によってそれぞれ検
出される。したがって、それぞれのイメージを把握する
のに適した照明法が併用されるとともに、それらに使用
される2種類の光を分離できるような構成がとらえられ
ている。
その結果、それらのイメージの検出が同時かつ正確に検
出され、プリント基板の外観検査が高速かつ高精度とな
る。
出され、プリント基板の外観検査が高速かつ高精度とな
る。
また、請求項3の発明では、上記の発明においてテレセ
ントリックレンズ系が結像光学系として使用されており
、径の小さなスルーホールについてもそのイメージを正
確に検出できる。
ントリックレンズ系が結像光学系として使用されており
、径の小さなスルーホールについてもそのイメージを正
確に検出できる。
第1A図はこの発明の実施例であるイメージ読取りシス
テムを組込んだプリント基板の光学的検査装置の部分切
欠平面図、 第1B図は、第1A図に示した装置の部分切欠側面図、 第2図は、プリント基板の例を示す図、第3A図は、実
施例で用いられる光学ヘッドの模式的側面図、 第3B図は、第3A図に示した光学的ヘッドの模式的正
面図、 第4図は、正反射用光源の配置位置と結像レンズ系への
入射光束との関係を示す図、 第5図は、実施例のシステムによって得られるイメージ
信号とその2値化処理を示す波形図、第6図は、ミニバ
イアホールの説明図、第7A図および第7B図は、非テ
レセントリックレンズ系とテレセントリックレンズ系と
の説明図、 第8A図および第8B図は、非テレセントリックレンズ
系を介して得られるホールイメージとテレセントリック
レンズ系を介して得られるホールイメージとを示す図、 第9図および第10図は、第1A図および第1B図に示
した装置の電気的構成を示す図、第11図および第第2
図は、この発明の他の実施例を示す図、 第13図は、従来のイメージ読取りシステムの原理図、 第14図は、第13図のシステムによって得られるイメ
ージ信号の例を示す波形図である。 10・・・プリント基板検査装置、 13・・・移動テーブル、 20・・・プリント基板、
50・・・イメージ読取りシステム、 110・・・落射照明用光源、 111・・・正反射用光源、 1第2.113・・・乱反射用光源、 119・・・P偏光板、 第20・・・透過照明用光源
、第29・・・S偏光板、 140・・・結像レンズ
系、150・・・コールドミラー 151・・・偏光ビームスプリッタ、 161.162・・・CCDリニアイメージセンサ、H
O〜H7・・・光学ヘッド
テムを組込んだプリント基板の光学的検査装置の部分切
欠平面図、 第1B図は、第1A図に示した装置の部分切欠側面図、 第2図は、プリント基板の例を示す図、第3A図は、実
施例で用いられる光学ヘッドの模式的側面図、 第3B図は、第3A図に示した光学的ヘッドの模式的正
面図、 第4図は、正反射用光源の配置位置と結像レンズ系への
入射光束との関係を示す図、 第5図は、実施例のシステムによって得られるイメージ
信号とその2値化処理を示す波形図、第6図は、ミニバ
イアホールの説明図、第7A図および第7B図は、非テ
レセントリックレンズ系とテレセントリックレンズ系と
の説明図、 第8A図および第8B図は、非テレセントリックレンズ
系を介して得られるホールイメージとテレセントリック
レンズ系を介して得られるホールイメージとを示す図、 第9図および第10図は、第1A図および第1B図に示
した装置の電気的構成を示す図、第11図および第第2
図は、この発明の他の実施例を示す図、 第13図は、従来のイメージ読取りシステムの原理図、 第14図は、第13図のシステムによって得られるイメ
ージ信号の例を示す波形図である。 10・・・プリント基板検査装置、 13・・・移動テーブル、 20・・・プリント基板、
50・・・イメージ読取りシステム、 110・・・落射照明用光源、 111・・・正反射用光源、 1第2.113・・・乱反射用光源、 119・・・P偏光板、 第20・・・透過照明用光源
、第29・・・S偏光板、 140・・・結像レンズ
系、150・・・コールドミラー 151・・・偏光ビームスプリッタ、 161.162・・・CCDリニアイメージセンサ、H
O〜H7・・・光学ヘッド
Claims (3)
- (1)プリント基板における配線パターンとスルーホー
ルとの外観を光学的に検査するための装置に使用される
イメージ読取りシステムであって、(a)第1の波長を
有する第1の光を発生し、前記プリント基板の被検査表
面に向けて前記第1の光を照射する第1の光源系と、 (b)第2の波長を有する第2の光を発生し、前記被検
査表面の裏側から前記第2の光を前記プリント基板に向
けて照射する第2の光源系と、(c)前記第1の光が前
記被検査表面によって反射して得られる反射光と、前記
第2の光が前記スルーホールを透過して得られる透過光
との複合光を結像光学系を介して受光し、前記反射光と
前記透過光とを空間的に相互分離する光分離手段と、(
d)前記光分離手段で分離された後の前記反射光を受光
することにより前記配線パターンのイメージ信号を生成
する第1のイメージセンサと、(e)前記光分離手段で
分離された後の前記透過光を受光することにより、前記
スルーホールのイメージ信号を生成する第2のイメージ
センサとを備えることを特徴とする、プリント基板検査
装置のためのイメージ読取りシステム。 - (2)プリント基板における配線パターンとスルーホー
ルとの外観を光学的に検査するための装置に使用される
イメージ読取りシステムであって、(a)第1の偏光方
向に偏光した第1の光を発生し、前記プリント基板の被
検査表面に向けて前記第1の光を照射する第1の光源系
と、 (b)第2の偏光方向に偏光した第2の光を発生し、前
記被検査表面の裏側から前記第2の光を前記プリント基
板に向けて照射する第2の光源系と、 (c)前記第1の光が前記被検査表面によって反射して
得られる反射光と、前記第2の光が前記スルーホールを
透過して得られる透過光との複合光を結像光学系を介し
て受光し、前記反射光と前記透過光とを空間的に相互分
離する光分離手段と、(d)前記光分離手段で分離され
た後の前記反射光を受光することにより前記配線パター
ンのイメージ信号を生成する第1のイメージセンサと、
(e)前記光分離手段で分離された後の前記透過光を受
光することにより、前記スルーホールのイメージ信号を
生成する第2のイメージセンサとを備えることを特徴と
する、プリント基板検査装置のためのイメージ読取りシ
ステム。 - (3)請求項1または2記載のシステムにおいて、少な
くともプリント基板側においてテレセントリックとなっ
ているテレセントリックレンズ系を結像光学系として使
用した、プリント基板検査装置のためのイメージ読取り
システム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2142889A JPH0434345A (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | プリント基板検査装置のためのイメージ読取りシステム |
US07/706,801 US5197105A (en) | 1990-05-30 | 1991-05-29 | Method of reading optical image of inspected surface and image reading system employabale therein |
DE69124288T DE69124288T2 (de) | 1990-05-30 | 1991-05-29 | Verfahren zum Lesen einer optischen Abbildung einer untersuchten Oberfläche und dafür einsetzbare Bildleseeinrichtung |
EP91108874A EP0459489B1 (en) | 1990-05-30 | 1991-05-29 | Method of reading optical image of inspected surface and image reading system employable therein |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2142889A JPH0434345A (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | プリント基板検査装置のためのイメージ読取りシステム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0434345A true JPH0434345A (ja) | 1992-02-05 |
Family
ID=15325952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2142889A Pending JPH0434345A (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | プリント基板検査装置のためのイメージ読取りシステム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0434345A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004012219A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Hitachi Eng Co Ltd | 透明容器内注入液中の異物検出装置 |
KR100636576B1 (ko) * | 2004-05-05 | 2006-10-19 | 봅스트 쏘시에떼 아노님 | 기판상의 패턴을 검출하는 방법 및 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6176940A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Nagoya Denki Kogyo Kk | 実装済プリント基板自動検査装置 |
JPS62103548A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-14 | Dainippon Printing Co Ltd | リ−ドフレ−ムの欠陥検査装置 |
JPS636444A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
-
1990
- 1990-05-30 JP JP2142889A patent/JPH0434345A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6176940A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Nagoya Denki Kogyo Kk | 実装済プリント基板自動検査装置 |
JPS62103548A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-14 | Dainippon Printing Co Ltd | リ−ドフレ−ムの欠陥検査装置 |
JPS636444A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004012219A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Hitachi Eng Co Ltd | 透明容器内注入液中の異物検出装置 |
KR100636576B1 (ko) * | 2004-05-05 | 2006-10-19 | 봅스트 쏘시에떼 아노님 | 기판상의 패턴을 검출하는 방법 및 장치 |
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