JPH04341367A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH04341367A
JPH04341367A JP14091191A JP14091191A JPH04341367A JP H04341367 A JPH04341367 A JP H04341367A JP 14091191 A JP14091191 A JP 14091191A JP 14091191 A JP14091191 A JP 14091191A JP H04341367 A JPH04341367 A JP H04341367A
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JP
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cup
plate
lid
glass substrate
coating
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Hirohito Sago
宏仁 佐合
Katsuhiko Kudo
工藤 勝彦
Shigemi Fujiyama
藤山 重美
Katsuro Kobayashi
克朗 小林
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】液晶ディスプレイ(LCD)の製
造工程等に用いる塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ブラウン管(CRT)に代わる表示装置
として、表面に画素を構成する電極や素子を形成した2
枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造の液晶ディス
プレイが注目されている。そして上記の画素としては薄
膜トランジスタ(TFT)や金属/絶縁体/金属接合(
MIM)などの素子で駆動せしめるアクティブマトリク
ス方式が高画質の画面が得られるため主流になりつつあ
る。
【0003】上記の薄膜トランジスタ等をガラス基板上
に形成する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成す
る半導体製造技術をそのまま応用している。レジスト液
の塗布も一連の工程のうちの一つであり、この工程では
インナーカップ内の真空チャックにセットしたガラス基
板上にレジスト液を滴下し、次いでスピンナーによって
真空チャックとインナーカップを一体的に回転せしめ遠
心力によってガラス基板表面にレジスト液を均一に塗布
するようにしている。
【0004】そして、滴下した塗布液の一部は遠心力に
よってインナーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそ
のままにしておくと乾燥して固化し、小さな破片となっ
てガラス基板表面に付着することとなる。これを防止す
べく本出願人は先に、インナーカップの外周壁にドレイ
ンパイプを取り付け、余分な塗布液についてはドレイン
パイプを介して回収通路に排出するとともに、インナー
カップ及びアウターカップの開放された上面を蓋体で覆
うことで、一旦回収した塗布液が外部に吸引され霧状等
となって浮遊し、この浮遊する塗布液粒子がガラス基板
表面に付着してスポット的な欠陥を生じるのを防止する
技術を提案した。
【0005】しかしながら、カップ側壁にドレインパイ
プを取り付けると、回転に伴う遠心力によりカップ内の
空気或いはガスがドレインパイプを通って排出されカッ
プ内が減圧状態となる。そしてレジスト液の塗布が終了
し減圧状態で蓋体を外してガラス基板をカップから取り
出そうとすると、内部が減圧状態のため急激にカップ内
に空気が流入し、乾燥して固化したレジストの微細粉が
ガラス基板表面に付着する不利がある。
【0006】これを解消すべく更に本出願人は、インナ
ーカップの蓋体の下面に所定間隔離してカップ内に入り
込む寸法の円形の整流板を取り付け、この整流板と前記
蓋体との間の空間にガス導入ノズルを開口せしめる技術
を提案した。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】板状被処理物としての
ガラス基板の形状は一般には四角形(矩形)である。斯
かる四角形のガラス基板の上面に接近して円形の整流板
を臨ませて回転せしめると、これらの形状差に起因して
乱流が発生し、ガラス基板上に塗布したレジスト液の厚
みが部分的に異なる結果を招く。
【0008】そこで整流板をガラス基板に合わせて四角
形にすることが考えられるが、整流板を四角形にすると
今度は整流板とインナーカップ内周形状との形状差によ
り乱流が発生し、また部分的に整流板とインナーカップ
内周面との間隔が広くなりこの部分から上方に塗布液が
飛散してしまう。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、四角形などの矩形状をなす被処理物にレジスト
液を塗布する装置において、被処理物をセットする回転
カップ上面を蓋体で閉塞するとともに、この蓋体の下面
に被処理物より大寸法で相似形の整流板を被処理物との
間に一定の間隔を保持するように取り付け、この整流板
と前記蓋体との間の空間に洗浄液供給ノズル及び/又は
ガス導入ノズルを臨ませ、更に前記カップ内周には板状
被処理物より大寸法で相似形の開口を形成した飛散防止
リングを設けた。
【0010】
【作用】回転カップ上面を蓋体で閉塞した状態で、被処
理物表面に滴下した塗布液をカップを回転せしめて均一
に拡散せしめる際に、整流板が介在することで被処理物
表面にノズルから噴出するガスが当らず且つ被処理物表
面で乱流が発生しにくくなる。
【0011】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図1は本発明に係る塗布装置を組み
込んだ被膜形成ラインの平面図、図2は同塗布装置の蓋
体を上げた状態の断面図、図3は図2のA−A方向矢視
図、図4は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図、図
5は図4の要部拡大図である。
【0012】被膜形成ラインは図1の左側を上流部とし
、この上流部に矩形状をなす板状被処理物としてのガラ
ス基板Wの投入部1を設け、この投入部1の下流側に本
発明に係る塗布装置2を配置し、この塗布装置2の下流
側に順次、減圧乾燥装置3、ガラス基板Wの裏面洗浄装
置4及びホットプレート5a・・・とクーリングプレー
ト5bを備えた加熱部5を配置し、投入部1から加熱部
5に至るまでは搬送装置6によってガラス基板Wの前後
端の下面を支持した状態で搬送し、加熱部5においては
垂直面内でクランク動をなす搬送装置7によりガラス基
板Wの下面を支持した状態で各ホットプレート5a上を
順次移し換え、最終的にクーリングプレート5bで温度
を調整しつつガラス基板Wを搬送するようにしている。
【0013】塗布装置2はスピンナー装置の軸21に取
り付けられたインナーカップ22の外側にアウターカッ
プ23を配設している。インナーカップ22は底板22
aと側板22bからなり、アウターカップ23は軸21
が貫通する底板23a、本体23b及び側板23cから
構成される。
【0014】そして、インナーカップ22の底板22a
の中央にはガラス基板Wを吸着固定する真空チャック2
4を設け、側板22bの下部にはドレインパイプ25を
取り付け、一方、本体23bには環状のドレイン回収通
路27を形成し、この回収通路27の幅狭部28を介し
て前記ドレインパイプ25を回収通路27に臨ませてい
る。なお、ドレインパイプ25はスリット又は複数の孔
を有する庇状物であってもよい。
【0015】またインナーカップ22及びアウターカッ
プ23の上方には図1に示すようにアーム29、30を
配置している。これらアーム29、30は直線動、回転
動、上下動或いはこれらを合成した動きが可能で互いに
干渉しないようになっている。そして、アーム29には
レジスト液等の塗布液を滴下するノズルを取り付け、ア
ーム30の先端には下方に伸びる軸31を取り付け、こ
の軸31にはノズル孔32を穿設し、このノズル孔32
をジョイント及びアーム30内を通るホース33、34
を介してチッ素ガス供給源及び洗浄液供給源につなげて
いる。
【0016】また、前記軸31にはベアリング35及び
磁気シール36を介してボス部37を回転自在に嵌合し
、このボス部37にインナーカップ22の上面開口を閉
塞するための円板状をなすアルミニウム製の蓋体38を
取り付けている。また、この蓋体38の上方のアーム3
0の先端下面にはアウターカップ23の上面開口を閉塞
するための蓋体39を固着している。
【0017】蓋体38の下面にはビス40によってイン
ナーカップ22内の乱流を防止する整流板41を取り付
けている。この整流板41は図3に示すようにガラス基
板Wより若干大きな寸法で且つ相似形をしている。
【0018】またインナーカップ22の内周面の上端部
には複数個の係止部42を設け、これら係止部42にビ
ス43にてブロック44を固着し、このブロック44の
下面に環状をなす飛散防止リング45を取り付けている
。この飛散防止リング45は蓋体38を閉じた状態で前
記整流板41よりも上方に位置し、整流板41が上昇す
る際に干渉しないための開口46を形成している。この
開口46の形状は整流板41の外径寸法より若干大きな
寸法で且つ相似形をしている。
【0019】蓋体39は中央に形成した孔50を介して
アーム30の先端下面に取り付けた筒体51の外周に嵌
合し、孔50の周縁に固着したテフロン製の軸受け52
に筒体51に植設したガイドポスト53を係合せしめる
ことで蓋体39を上下摺動自在に保持している。
【0020】ところで、蓋体38を閉じてインナーカッ
プ22,ガラス基板W及び整流板41を回転せしめ、ガ
ラス基板W上に滴下した塗布液を遠心力で拡散する場合
には、図3に示すようにガラス基板Wと整流板41とが
完全に同一位相で重なるか、或いは回転速度を見込んで
所定角ずらせてガラス基板W上に整流板41を臨ませる
必要がある。
【0021】このため、蓋体38の外周には切欠54を
形成し、また蓋体38からは上方に向けてピン55を突
出し、このピン55が係合する受け部材56を蓋体39
に取付けている。即ち、蓋体39は前記したガイドポス
ト53により回転が阻止されガラス基板Wに対する相対
位置が確定しているので、蓋体38を上昇させた図2及
び図6の状態では受け部材56に蓋体38のピン55が
係合することで蓋体38及び整流板41のガラス基板W
に対する相対位置も定まる。
【0022】この後、アーム30を下降させると図7に
示すように、蓋体39の外周端がアウターカップ23の
側板23c上端に載置される。そしてこの状態でビス4
3の直上に切欠54が位置している。したがって、この
状態で蓋体38を下降せしめれば図4に示すように蓋体
38の切欠54がビス43の頭部に係合し、ガラス基板
Wと整流板41との位置関係は図3に示すようになる。
【0023】以上において、ガラス基板W表面にレジス
ト液を均一に塗布するには、インナーカップ22及びア
ウターカップ23の上面を開放して真空チャック24上
に固着されているガラス基板Wの表面にアーム29に取
り付けられているノズルからレジスト液を滴下し、次い
でアーム29を後退せしめて図2に示すようにインナー
カップ22及びアウターカップ23上にアーム30を回
動させて蓋体38、39を臨ませる。
【0024】そして図4に示すように、アーム30を下
降することで蓋体38によりインナーカップ22の上面
を閉塞し、蓋体39によりアウターカップ23の上面開
口を閉塞したならば、スピンナーによって真空チャック
24とインナーカップ22を一体的に回転せしめ、遠心
力によりレジスト液をガラス基板Wの表面に均一に拡散
塗布する。
【0025】そして、以上の処理においてインナーカッ
プ22内は減圧状態になっているので、このまま蓋をあ
けてガラス基板Wを取り出すと、インナーカップ内の空
気が乱れてレジスト液がスポット的にガラス基板W表面
に付着するおそれがある。そこでレジスト液が均一に塗
布されたガラス基板Wを取り出すには、先ず窒素ガス供
給源につながるパイプ33及びノズル孔32を介して蓋
体38と整流板41の間の空間に窒素ガス等を導入し減
圧状態を解除して行う。このときノズル孔32からのガ
スは整流板41があるため、ガラス基板W表面のレジス
ト液に直接吹き付けられることがない。
【0026】このようにして、所定枚数のガラス基板W
にレジスト液を均一に塗布した後には余分な塗布液の一
部がインナーカップ22内周面等に付着している。これ
を放置しておくと乾燥固化して雰囲気中に飛散し、ガラ
ス基板W表面に付着するため、洗浄を行う。
【0027】洗浄はガラス基板Wを除いた状態でインナ
ーカップ22とアウターカップ23を蓋体38,39で
閉じて行う。即ち、洗浄液供給源につながるパイプ34
及びノズル孔32を介して蓋体38と整流板41の間の
空間に洗浄液を供給する。
【0028】すると図5に示すように、洗浄液は遠心力
によって整流板41の表面を流れ、その一部はインナー
カップ22の内周面に到達し、この内周面に付着した塗
布液を洗い流し、ドレインパイプ25を介して回収通路
27内に排出され、他の一部は蓋体38外周とインナー
カップ22上端との間の連通部P1、インナーカップ2
2外側面とアウターカップ23内側面との間には隙間P
2を介して前記回収通路27に排出され、この間に回収
通路27の幅狭部28内周面等に付着した塗布液を洗い
流す。
【0029】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
塗布装置のカップ上面を閉じる蓋体の下面に被処理物と
相似形で大寸法の整流板を取付け、この整流板と前記蓋
体との間の空間に洗浄液供給ノズル及び/又はガス導入
ノズルを臨ませ、更にカップ内周には被処理物と相似形
で大寸法の開口を形成した飛散防止リングを設けたので
、カップを回転させた場合にカップ内に乱流が生じにく
く、また塗布完了後にカップ内にガスを導入する際に導
入ガスが被処理物表面に直接当らないので膜厚を均一に
保つことができ、更に洗浄液をカップ内に供給する際に
も整流板及び飛散防止リングがガイドとなってカップ内
周壁に洗浄液を導くことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図
【図2】同塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図
【図3
】図2のA−A方向矢視図
【図4】同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図
【図5
】図4の要部拡大図
【図6】蓋体を上げた状態の要部断面図
【図7】蓋体を
途中まで下げた状態の要部断面図
【符号の説明】
2…塗布装置、22…インナーカップ、23…アウター
カップ、38,39…蓋体、41…整流板、45…飛散
防止リング、46…開口、52…軸受け、53…ガイド
ポスト、55…ピン、56…受け部材。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  板状被処理物をスピンナーによって回
    転せしめられるカップ内にセットし、この板状被処理物
    の表面に塗布液を滴下し、次いでカップ上面を蓋体で閉
    塞してカップを回転させることで滴下した塗布液を板状
    被処理物の表面に均一に拡散せしめるようにした塗布装
    置において、前記板状被処理物は矩形状をなし、また前
    記蓋体の下面には板状被処理物より大寸法で相似形の整
    流板を板状被処理物との間に一定の間隔を保持するよう
    に取り付け、この整流板と前記蓋体との間の空間に洗浄
    液供給ノズル及び/又はガス導入ノズルを臨ませ、更に
    前記カップ内周には板状被処理物より大寸法で相似形の
    開口を形成した飛散防止リングを設けたことを特徴とす
    る塗布装置。
  2. 【請求項2】  前記スピンナーによって回転せしめら
    れるカップはインナーカップであり、このインナーカッ
    プの外側に回転しないアウターカップが配置され、また
    これらインナーカップ及びアウターカップの上面を閉塞
    するそれぞれの蓋体は上昇した位置で互いに凹凸係合す
    ることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04130430U (ja) * 1991-05-17 1992-11-30 ヤマハ株式会社 回転塗布装置
KR100254291B1 (ko) * 1995-10-30 2000-05-01 나카네 히사시 회전컵식 액체공급장치
JP2000189883A (ja) * 1994-08-08 2000-07-11 Tokyo Electron Ltd 塗布膜形成方法及びその装置
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JP2014179642A (ja) * 2010-03-24 2014-09-25 Tokyo Electron Ltd 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体

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