JPH04339826A - 架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）及びその製造方法 - Google Patents
架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH04339826A JPH04339826A JP3337259A JP33725991A JPH04339826A JP H04339826 A JPH04339826 A JP H04339826A JP 3337259 A JP3337259 A JP 3337259A JP 33725991 A JP33725991 A JP 33725991A JP H04339826 A JPH04339826 A JP H04339826A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- atoms
- patterns
- poly
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims abstract description 5
- -1 poly(organosilyl hydrazine Chemical compound 0.000 claims abstract description 4
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKDIBALFMZCURP-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1$l^{3}-silinane Chemical compound C[Si]1CCCCC1 QKDIBALFMZCURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012700 ceramic precursor Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/589—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/388—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G79/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule
- C08G79/10—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule a linkage containing aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】本発明は、セラミック前駆体、より特定的
には架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）の分野に関
する。
には架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）の分野に関
する。
【０００２】本明細書中のポリ（オルガノシリルヒドラ
ジン）という用語は、下記の式
ジン）という用語は、下記の式
【０００３】
【化２】
【０００４】で示されるパターンを複数含む化合物を意
味する。
味する。
【０００５】米国特許第４７３００２６号では、下記の
反復パターン
反復パターン
【０００６】
【化３】
【０００７】を含み、これらのパターンが式−ＭＲ’ｎ
−［式中Ｍは周期表の第ＩＩＩＡ族、第ＩＩＢ族、第Ｉ
ＶＢ族及び第ＩＩＡ族から選択した金属を表す］で示さ
れる少なくとも１つの橋によって結合されており、この
橋が前記反復パターンの窒素原子に結合しているポリマ
ーが提案されている。架橋ポリマーの製造に使用される
ポリマーはオルガノシラザン類に属しており、前記米国
特許にはその具体例として、ポリ（１，１−ジメチルシ
ラザン）又は環式メチルシラザンから誘導した重合シラ
ザンが挙げられている。これら種々のポリマーは通常、
ハロゲノシランとアンモニアもしくはアミンとを用いて
製造される。
−［式中Ｍは周期表の第ＩＩＩＡ族、第ＩＩＢ族、第Ｉ
ＶＢ族及び第ＩＩＡ族から選択した金属を表す］で示さ
れる少なくとも１つの橋によって結合されており、この
橋が前記反復パターンの窒素原子に結合しているポリマ
ーが提案されている。架橋ポリマーの製造に使用される
ポリマーはオルガノシラザン類に属しており、前記米国
特許にはその具体例として、ポリ（１，１−ジメチルシ
ラザン）又は環式メチルシラザンから誘導した重合シラ
ザンが挙げられている。これら種々のポリマーは通常、
ハロゲノシランとアンモニアもしくはアミンとを用いて
製造される。
【０００８】本発明は、下記の式
【０００９】
【化４】
【００１０】で示される複数のパターンを含み、これら
のパターンが式−ＭＲｎ− （ＩＩ）［式中、Ｍは周
期表の第ＩＩＩＡ族、第ＩＩＢ族、第ＩＶＢ族及び第Ｉ
ＩＡ族から選択した元素を表し、ｎはＭの原子価−２と
同じかそれより小さい数を表し、Ｒはｎが１より大きい
時には互いに異なり得、水素原子もしくはハロゲン原子
特に塩素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、アミノ
基、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、又は炭素
原子数１８以下のアリール基、アルキルアリール基もし
くはアラルキル基を表す］で示される少なくとも１つの
橋で結合されており、ケイ素原子及び窒素原子の空いて
いる原子価のうち少なくとも２つが同一鎖の反復パター
ンの間のリンクを構築するのに使用されており、残りの
原子価が水素原子を担持するか又は炭素原子を２４個以
下含み得るアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基もしくはアリール基を担持し、或るパターンの窒素原
子の空いている原子価のうち少なくとも１つが橋−ＭＲ
ｎ−を介して別のパターンの窒素原子と架橋するのに使
用されていることを特徴とする新規の架橋ポリマーに関
する。
のパターンが式−ＭＲｎ− （ＩＩ）［式中、Ｍは周
期表の第ＩＩＩＡ族、第ＩＩＢ族、第ＩＶＢ族及び第Ｉ
ＩＡ族から選択した元素を表し、ｎはＭの原子価−２と
同じかそれより小さい数を表し、Ｒはｎが１より大きい
時には互いに異なり得、水素原子もしくはハロゲン原子
特に塩素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、アミノ
基、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、又は炭素
原子数１８以下のアリール基、アルキルアリール基もし
くはアラルキル基を表す］で示される少なくとも１つの
橋で結合されており、ケイ素原子及び窒素原子の空いて
いる原子価のうち少なくとも２つが同一鎖の反復パター
ンの間のリンクを構築するのに使用されており、残りの
原子価が水素原子を担持するか又は炭素原子を２４個以
下含み得るアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基もしくはアリール基を担持し、或るパターンの窒素原
子の空いている原子価のうち少なくとも１つが橋−ＭＲ
ｎ−を介して別のパターンの窒素原子と架橋するのに使
用されていることを特徴とする新規の架橋ポリマーに関
する。
【００１１】本発明は、前述の架橋ポリマーの製造方法
にも関する。この方法は、式Ｉで示される複数のパター
ンを含むポリマーを、式ＭＲｘ［式中Ｍ及びＲは前記意
味を表し、ｘはＭの原子価である］の化合物と反応させ
ることからなる。但し、前記化合物は、式Ｉのパターン
の窒素原子と結合するか、又はこれら原子のプロトンを
除去し（ｄｅｐｒｏｔｏｎｅｒ）且つこれら原子と結合
することができるものでなければならない。
にも関する。この方法は、式Ｉで示される複数のパター
ンを含むポリマーを、式ＭＲｘ［式中Ｍ及びＲは前記意
味を表し、ｘはＭの原子価である］の化合物と反応させ
ることからなる。但し、前記化合物は、式Ｉのパターン
の窒素原子と結合するか、又はこれら原子のプロトンを
除去し（ｄｅｐｒｏｔｏｎｅｒ）且つこれら原子と結合
することができるものでなければならない。
【００１２】本発明は、式Ｉで示される複数のパターン
を含む１種類以上のポリマーと化合物ＭＲｘとの反応前
の混合物からなる架橋可能な組成物にも関する。
を含む１種類以上のポリマーと化合物ＭＲｘとの反応前
の混合物からなる架橋可能な組成物にも関する。
【００１３】本発明は更に、前述の架橋ポリマーの熱分
解の結果得られるセラミック材料にも関する。
解の結果得られるセラミック材料にも関する。
【００１４】式Ｉのケイ素原子及び窒素原子によって担
持され得る置換基は、特にアルキル基、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル；アルケニル基、例えばビニ
ル及びアリル；アリール基、例えばフェニル、トリル、
キシリル、ナフチルから選択し得る。本発明で特に好ま
しいとする生成物は、窒素原子が水素原子を担持し及び
／又はケイ素原子が水素原子もしくはビニル置換基を担
持する式Ｉのパターンを含む生成物である。
持され得る置換基は、特にアルキル基、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル；アルケニル基、例えばビニ
ル及びアリル；アリール基、例えばフェニル、トリル、
キシリル、ナフチルから選択し得る。本発明で特に好ま
しいとする生成物は、窒素原子が水素原子を担持し及び
／又はケイ素原子が水素原子もしくはビニル置換基を担
持する式Ｉのパターンを含む生成物である。
【００１５】式Ｉのポリシリルヒドラジン自体は本発明
の範囲に含まれず、その製造方法は例えば欧州特許公開
番号第３５１２６２号に記載されている。本発明は、式
Ｉのパターンをパターン
の範囲に含まれず、その製造方法は例えば欧州特許公開
番号第３５１２６２号に記載されている。本発明は、式
Ｉのパターンをパターン
【００１６】
【化５】
【００１７】と組合わせたものを含むポリマーにも係わ
る。これらのパターンの製造方法は欧州特許公開番号第
３２７７７３号に記載されている。これら２つの特許出
願の内容は本明細書の一部分をなすとみなされる。
る。これらのパターンの製造方法は欧州特許公開番号第
３２７７７３号に記載されている。これら２つの特許出
願の内容は本明細書の一部分をなすとみなされる。
【００１８】式ＭＲｘの化合物は、式Ｉのパターンをこ
れらパターンの窒素原子を介して鎖から鎖へと結合させ
るリンクを形成することができる多くの生成物から選択
し得る。
れらパターンの窒素原子を介して鎖から鎖へと結合させ
るリンクを形成することができる多くの生成物から選択
し得る。
【００１９】第ＩＩＩＡ族、第ＩＩＢ族、第ＩＶＢ族及
び第ＩＩＡ族の元素としては、特にＢ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ及びＭｇが挙げられる。式ＭＲｘ
中、Ｒは特にＨ、Ｃｌ、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ６
Ｈ５、−Ｃ２Ｈ４ＮＨ２、−Ｃ４Ｈ８−Ｃ６Ｈ５、−Ｎ
Ｈ２、−ＮＨＲ’及び−ＮＲ’２［Ｒ’はＲの説明で挙
げたアルキル基又はアリール基を表し得る］を表し得る
。
び第ＩＩＡ族の元素としては、特にＢ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ及びＭｇが挙げられる。式ＭＲｘ
中、Ｒは特にＨ、Ｃｌ、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ６
Ｈ５、−Ｃ２Ｈ４ＮＨ２、−Ｃ４Ｈ８−Ｃ６Ｈ５、−Ｎ
Ｈ２、−ＮＨＲ’及び−ＮＲ’２［Ｒ’はＲの説明で挙
げたアルキル基又はアリール基を表し得る］を表し得る
。
【００２０】式ＭＲｘの化合物は、Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）３
、Ｂ（Ｃ２Ｈ５）３、ＢＨ３、Ａｌ（ＣＨ３）３、Ｚｎ
（Ｃ２Ｈ５）２、Ｍｇ（Ｃ４Ｈ９）２、ＡｌＣｌ３、Ｔ
ｉ［Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２］４、Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）２ＮＨ２
、ＺｒＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ５、（ＣＨ３）２Ａ
ｌＣｌ、ＣＨ３ＡｌＣｌ２から選択するのが好ましい。
、Ｂ（Ｃ２Ｈ５）３、ＢＨ３、Ａｌ（ＣＨ３）３、Ｚｎ
（Ｃ２Ｈ５）２、Ｍｇ（Ｃ４Ｈ９）２、ＡｌＣｌ３、Ｔ
ｉ［Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２］４、Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）２ＮＨ２
、ＺｒＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ５、（ＣＨ３）２Ａ
ｌＣｌ、ＣＨ３ＡｌＣｌ２から選択するのが好ましい。
【００２１】式Ｉの複数のパターンを含む化合物と化合
物ＭＲｘとの反応は、特に前記ポリマーＩが液状又は固
体状であり且つ前記化合物ＭＲｘが液状又は気体状の場
合には、溶媒を用いずに実施し得る。そうでなければ、
この反応はより一般的な方法として、溶媒中でも生起さ
せ得る。
物ＭＲｘとの反応は、特に前記ポリマーＩが液状又は固
体状であり且つ前記化合物ＭＲｘが液状又は気体状の場
合には、溶媒を用いずに実施し得る。そうでなければ、
この反応はより一般的な方法として、溶媒中でも生起さ
せ得る。
【００２２】使用し得る溶媒の具体例としては特に、塩
化メチレンのようなハロゲン化化合物；ジエチルエーテ
ルのようなジアルキルエーテル；テトラヒドロフラン、
テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサンのような環式
エーテル；ペンタンもしくはヘキサンのような脂肪族炭
化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素が挙げられる。
化メチレンのようなハロゲン化化合物；ジエチルエーテ
ルのようなジアルキルエーテル；テトラヒドロフラン、
テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサンのような環式
エーテル；ペンタンもしくはヘキサンのような脂肪族炭
化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素が挙げられる。
【００２３】前記反応は通常−４０°Ｃ〜２００°Ｃの
温度範囲で実施し得る。反応時間は、特に選択した反応
温度に応じて、数十分から数時間に達し得、更には数百
時間にも及び得る。
温度範囲で実施し得る。反応時間は、特に選択した反応
温度に応じて、数十分から数時間に達し得、更には数百
時間にも及び得る。
【００２４】本発明の架橋ポリマーの製造方法では、反
応体（式Ｉで示される複数のパターンを含む化合物及び
化合物ＭＲｘ）を、ケイ素／元素Ｍのモル比が１〜１０
０、好ましくは３〜４０となるような量で使用する。
応体（式Ｉで示される複数のパターンを含む化合物及び
化合物ＭＲｘ）を、ケイ素／元素Ｍのモル比が１〜１０
０、好ましくは３〜４０となるような量で使用する。
【００２５】本発明の架橋生成物は、粘稠液から固体に
至るまでの様々な物理的状態を有する。これを、通常８
５０°Ｃ〜１２００°Ｃの温度範囲で行われる熱分解に
かけると、式Ｉのパターンを含む化合物だけの場合より
明らかに高いセラミック収率（熱分解残留物の割合）が
得られる。
至るまでの様々な物理的状態を有する。これを、通常８
５０°Ｃ〜１２００°Ｃの温度範囲で行われる熱分解に
かけると、式Ｉのパターンを含む化合物だけの場合より
明らかに高いセラミック収率（熱分解残留物の割合）が
得られる。
【００２６】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明する。
【００２７】実施例１〜１１
これらの実施例では、下記の出発ポリ（オルガノシリル
ヒドラジン）を使用する：
ヒドラジン）を使用する：
【００２８】
【化６】
【００２９】これらのポリマーは、対応するクロロシラ
ン［（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２、（ＣＨ２＝ＣＨ）ＣＨ３
ＳｉＣｌ２及びＣＨ３ＳｉＨＣｌ２］とヒドラジンとを
下記の条件で反応させることによって製造する。
ン［（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２、（ＣＨ２＝ＣＨ）ＣＨ３
ＳｉＣｌ２及びＣＨ３ＳｉＨＣｌ２］とヒドラジンとを
下記の条件で反応させることによって製造する。
【００３０】生成物Ａ
前記反応を、温度計と撹拌システムとコンデンサー（１
５°Ｃ）と窒素導入管とを備えた二重壁反応器内で生起
させる。この反応器を窒素で掃気した後、１５°Ｃで６
００ｍｌのトルエンと、２．５モルのトリエチルアミン
と、１モルの（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２とを導入する。反
応器を撹拌し且つ１５°Ｃの水で冷却しながら、１．２
５モルのヒドラジンを一定の流量で９０分かけて加える
。 添加が終了したら、この反応媒質の温度を６時間７０°
Ｃにし、最後に軽く撹拌しながら１５時間１５°Ｃに維
持する。沈澱物を濾過し、窒素圧下で９００ｍｌのトル
エンで洗浄し、透明な溶液を回収する。溶媒と揮発性反
応体残分とを、回転蒸発器により６０°Ｃで、１５０水
銀柱ｍｍから蒸発の最後の０．５水銀柱ｍｍまで漸減す
る圧力下で除去する。最終的に６９ｇの粘稠液状生成物
が得られる。
５°Ｃ）と窒素導入管とを備えた二重壁反応器内で生起
させる。この反応器を窒素で掃気した後、１５°Ｃで６
００ｍｌのトルエンと、２．５モルのトリエチルアミン
と、１モルの（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２とを導入する。反
応器を撹拌し且つ１５°Ｃの水で冷却しながら、１．２
５モルのヒドラジンを一定の流量で９０分かけて加える
。 添加が終了したら、この反応媒質の温度を６時間７０°
Ｃにし、最後に軽く撹拌しながら１５時間１５°Ｃに維
持する。沈澱物を濾過し、窒素圧下で９００ｍｌのトル
エンで洗浄し、透明な溶液を回収する。溶媒と揮発性反
応体残分とを、回転蒸発器により６０°Ｃで、１５０水
銀柱ｍｍから蒸発の最後の０．５水銀柱ｍｍまで漸減す
る圧力下で除去する。最終的に６９ｇの粘稠液状生成物
が得られる。
【００３１】生成物Ｂ
前記反応を、温度計と撹拌システムとコンデンサー（１
５°Ｃ）と窒素導入管とを備えた二重壁反応器内で生起
させる。この反応器を窒素で掃気した後、１５°Ｃで６
００ｍｌのトルエンと、２．４モルのトリエチルアミン
と、１モルのＣＨ３ＳｉＣＨＣＨ２Ｃｌ２とを導入する
。 反応器を撹拌し且つ１５°Ｃの水で冷却しながら、１．
２モルのヒドラジンを一定の流量で６０分かけて加える
。添加が終了したら、この反応媒質の温度を６時間７０
°Ｃにし、最後に軽く撹拌しながら１５時間１５°Ｃに
維持する。沈澱物を濾過し、窒素圧下で９００ｍｌのト
ルエンで洗浄し、透明な溶液を回収する。溶媒と揮発性
反応体残分とを、回転蒸発器により６０°Ｃで、１５０
水銀柱ｍｍから蒸発の最後の０．５水銀柱ｍｍまで漸減
する圧力下で除去する。最終的に８８ｇの粘稠液状生成
物が得られる。
５°Ｃ）と窒素導入管とを備えた二重壁反応器内で生起
させる。この反応器を窒素で掃気した後、１５°Ｃで６
００ｍｌのトルエンと、２．４モルのトリエチルアミン
と、１モルのＣＨ３ＳｉＣＨＣＨ２Ｃｌ２とを導入する
。 反応器を撹拌し且つ１５°Ｃの水で冷却しながら、１．
２モルのヒドラジンを一定の流量で６０分かけて加える
。添加が終了したら、この反応媒質の温度を６時間７０
°Ｃにし、最後に軽く撹拌しながら１５時間１５°Ｃに
維持する。沈澱物を濾過し、窒素圧下で９００ｍｌのト
ルエンで洗浄し、透明な溶液を回収する。溶媒と揮発性
反応体残分とを、回転蒸発器により６０°Ｃで、１５０
水銀柱ｍｍから蒸発の最後の０．５水銀柱ｍｍまで漸減
する圧力下で除去する。最終的に８８ｇの粘稠液状生成
物が得られる。
【００３２】生成物Ｃ
前記反応を、温度計と撹拌システムとコンデンサー（１
５°Ｃ）と窒素導入管とを備えた二重壁反応器内で生起
させる。この反応器を窒素で掃気した後、１５°Ｃで６
００ｍｌのトルエンと、２．４モルのトリエチルアミン
と、１モルのＣＨ３ＳｉＨＣｌ２とを導入する。反応器
を撹拌し且つ１５°Ｃの水で冷却しながら、１．２モル
のヒドラジンを一定の流量で６０分かけて加える。添加
が終了したら、この反応媒質の温度を６時間７０°Ｃに
し、最後に軽く撹拌しながら１５時間１５°Ｃに維持す
る。沈澱物を濾過し、窒素圧下で９００ｍｌのトルエン
で洗浄し、透明な溶液を回収する。溶媒と揮発性反応体
残分とを、回転蒸発器により６０°Ｃで、１５０水銀柱
ｍｍから蒸発の最後の０．５水銀柱ｍｍまで漸減する圧
力下で除去する。最終的に５１ｇの固液状（ｌｉｑｕｉ
ｄｅｓｏｌｉｄｅ）生成物が得られる。
５°Ｃ）と窒素導入管とを備えた二重壁反応器内で生起
させる。この反応器を窒素で掃気した後、１５°Ｃで６
００ｍｌのトルエンと、２．４モルのトリエチルアミン
と、１モルのＣＨ３ＳｉＨＣｌ２とを導入する。反応器
を撹拌し且つ１５°Ｃの水で冷却しながら、１．２モル
のヒドラジンを一定の流量で６０分かけて加える。添加
が終了したら、この反応媒質の温度を６時間７０°Ｃに
し、最後に軽く撹拌しながら１５時間１５°Ｃに維持す
る。沈澱物を濾過し、窒素圧下で９００ｍｌのトルエン
で洗浄し、透明な溶液を回収する。溶媒と揮発性反応体
残分とを、回転蒸発器により６０°Ｃで、１５０水銀柱
ｍｍから蒸発の最後の０．５水銀柱ｍｍまで漸減する圧
力下で除去する。最終的に５１ｇの固液状（ｌｉｑｕｉ
ｄｅｓｏｌｉｄｅ）生成物が得られる。
【００３３】使用する反応体は下記の通りである：ａ−
Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）３ ｂ−ＮＨ２Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）２ ｃ−Ｔｉ［Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２］４ ｄ−（ＣＨ３）２ＡｌＣｌ これらの実施例では塩化メチレンを溶媒として使用し、
反応は室温で生起させる。
Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）３ ｂ−ＮＨ２Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）２ ｃ−Ｔｉ［Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２］４ ｄ−（ＣＨ３）２ＡｌＣｌ これらの実施例では塩化メチレンを溶媒として使用し、
反応は室温で生起させる。
【００３４】架橋生成物及び出発生成物（対照）の熱分
解をアルゴン下１０００°Ｃで行う。
解をアルゴン下１０００°Ｃで行う。
【００３５】下記の事項を次表にまとめた。
【００３６】− 出発ポリマー（Ａ、Ｂ又はＣ）。
【００３７】− 反応体（ａ、ｂ、ｃ又はｄ）。
【００３８】
− Ｓｉ／Ｍのモル比（Ｍは元素）
− 架橋生成物の物理的特性（様相、ヘキサン中での
溶解度）。
溶解度）。
【００３９】− 架橋生成物の残留物の割合（熱分解
率）。
率）。
【００４０】− 出発ポリマーの残留の割合。
【００４１】
【表１】
Claims (7)
- 【請求項１】下記の式 【化１】 で示されるパターンを複数含み、これらのパターンが式
−ＭＲｎ− （ＩＩ）［式中、Ｍは周期表の第ＩＩＩ
Ａ族、第ＩＩＢ族、第ＩＶＢ族及び第ＩＩＡ族から選択
した元素を表し、ｎはＭの原子価−２と同じかそれより
小さい数を表し、Ｒはｎが１より大きい時には互いに異
なり得、水素原子もしくはハロゲン原子特に塩素原子、
炭素原子数１〜６のアルキル基、アミノ基、モノアルキ
ルアミノ、ジアルキルアミノ、又は炭素原子数１８以下
のアリール基、アルキルアリール基もしくはアラルキル
基を表す］で示される少なくとも１つの橋で結合されて
おり、ケイ素原子及び窒素原子の空いている原子価のう
ち少なくとも２つが同一鎖の反復パターンの間のリンク
を構築するのに使用されており、残りの原子価が水素原
子を担持するか又は炭素原子を２４個以下含み得るアル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基もしくはアリ
ール基を担持し、或るパターンの窒素原子の空いている
原子価のうち少なくとも１つが橋−ＭＲｎ−を介して別
のパターンの窒素原子と架橋するのに使用されているこ
とを特徴とする架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）
。 - 【請求項２】式Ｉのパターンで、窒素原子が水素原子を
担持し及び／又はケイ素原子が水素原子もしくはビニル
置換基を担持することを特徴とする請求項１に記載のポ
リ（オルガノシリルヒドラジン）。 - 【請求項３】式−ＭＲｎ−で、ＭがＢ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ及びＭｇから選択した元素を表す
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のポリ（オルガ
ノシリルヒドラジン）。 - 【請求項４】請求項１から３のいずれか一項に記載のポ
リ（オルガノシリルヒドラジン）の製造方法であって、
式Ｉで示される複数のパターンを含むポリマーを、式Ｍ
Ｒｘ［式中Ｍ及びＲは前記意味を表し、ｘはＭの原子価
である］で示され、式Ｉのパターンの窒素原子と結合す
ることができるか、又はこれら原子のプロトンを除去し
且つこれら原子と結合することができる化合物と反応さ
せることからなることを特徴とする製造方法。 - 【請求項５】化合物ＭＲｘをＡｌ（Ｃ２Ｈ５）３、Ｂ（
Ｃ２Ｈ５）３、ＢＨ３、Ａｌ（ＣＨ３）３、Ｚｎ（Ｃ２
Ｈ５）２、Ｍｇ（Ｃ４Ｈ９）２、ＡｌＣｌ３、Ｔｉ［Ｎ
（Ｃ２Ｈ５）２］４、Ａｌ（Ｃ２Ｈ５）２ＮＨ２、Ｚｒ
ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ５、（ＣＨ３）２ＡｌＣｌ
から選択することを特徴とする請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】式Ｉで示されるパターンを複数含むポリマ
ーと式ＭＲｘで示される化合物［式Ｉ及び式ＭＲｘ中の
符号は前記意味を表す］とを含む架橋可能な組成物。 - 【請求項７】請求項１から３のいずれか一項に記載の架
橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）の熱分解の結果得
られるセラミック材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9015924A FR2670789A1 (fr) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | Poly(organosilylhydrazines) reticules et leur procede de preparation. |
| FR9015924 | 1990-12-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04339826A true JPH04339826A (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=9403408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3337259A Pending JPH04339826A (ja) | 1990-12-19 | 1991-12-19 | 架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）及びその製造方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0493995A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04339826A (ja) |
| KR (1) | KR920012194A (ja) |
| CN (1) | CN1063292A (ja) |
| AU (1) | AU8984791A (ja) |
| CA (1) | CA2058018A1 (ja) |
| FR (1) | FR2670789A1 (ja) |
| IE (1) | IE914415A1 (ja) |
| IL (1) | IL100395A0 (ja) |
| NO (1) | NO914980L (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2703040B1 (fr) * | 1993-03-23 | 1995-05-12 | Atochem Elf Sa | Procédé de préparation de poudre pour céramique en nitrure et/ou carbure métallique et/ou métalloïdique par pyrolyse-flash et la poudre ainsi obtenue. |
| US6228794B1 (en) | 1997-03-14 | 2001-05-08 | University Of Iowa Research Foundation | Cationic group 13 complexes incorporating bidentate ligands as polymerization catalysts |
| US5777120A (en) * | 1997-03-14 | 1998-07-07 | University Of Iowa Research Foundation | Cationic aluminum alkyl complexes incorporating amidinate ligands as polymerization catalysts |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4730026A (en) * | 1986-09-30 | 1988-03-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cross-linked organosilazane polymers |
| US5032551A (en) * | 1988-03-05 | 1991-07-16 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Silicon nitride based ceramic fibers, process of preparing same and composite material containing same |
| US4886860A (en) * | 1988-03-23 | 1989-12-12 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Polymetalosilazane and process for preparing same |
-
1990
- 1990-12-19 FR FR9015924A patent/FR2670789A1/fr active Granted
-
1991
- 1991-12-12 EP EP91403369A patent/EP0493995A1/fr not_active Withdrawn
- 1991-12-17 NO NO91914980A patent/NO914980L/no unknown
- 1991-12-17 IL IL100395A patent/IL100395A0/xx unknown
- 1991-12-18 IE IE441591A patent/IE914415A1/en not_active Application Discontinuation
- 1991-12-18 CA CA002058018A patent/CA2058018A1/fr not_active Abandoned
- 1991-12-18 AU AU89847/91A patent/AU8984791A/en not_active Abandoned
- 1991-12-19 CN CN91112777A patent/CN1063292A/zh active Pending
- 1991-12-19 KR KR1019910023469A patent/KR920012194A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-12-19 JP JP3337259A patent/JPH04339826A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU8984791A (en) | 1992-06-25 |
| CN1063292A (zh) | 1992-08-05 |
| FR2670789A1 (fr) | 1992-06-26 |
| CA2058018A1 (fr) | 1992-06-20 |
| NO914980D0 (no) | 1991-12-17 |
| IL100395A0 (en) | 1992-09-06 |
| NO914980L (no) | 1992-06-22 |
| FR2670789B1 (ja) | 1993-02-26 |
| IE914415A1 (en) | 1992-07-01 |
| KR920012194A (ko) | 1992-07-25 |
| EP0493995A1 (fr) | 1992-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1232162B1 (en) | Method for preparing silazane and/or polysilazane compounds | |
| EP0304239B1 (en) | Reformed polysilazane and method of producing same | |
| JPH037221B2 (ja) | ||
| JPS60145903A (ja) | 無機ポリシラザン及びその合成方法 | |
| JP2544928B2 (ja) | 新規ポリシラザン及びその製造方法 | |
| US5010158A (en) | Process for preparing polysiloxazane compositions and the products formed thereby | |
| JP2532453B2 (ja) | Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサンを新規で有用なプレセラミツクポリマ−及びセラミツク物質に転化させる方法 | |
| KR100909215B1 (ko) | 실리콘-수소 결합의 암모니아 치환을 감소시킨 폴리실라잔 및 폴리실라잔 용액의 제조방법 | |
| JPS63309526A (ja) | 新規ポリシラザン及びその製造方法 | |
| US4730026A (en) | Cross-linked organosilazane polymers | |
| JPH01129033A (ja) | 窒化ほう素を基にしたセラミック製品及び物品の製造に特に使用できるほう素と窒素を基にした重合体並びにその製造方法 | |
| JPH04339826A (ja) | 架橋ポリ（オルガノシリルヒドラジン）及びその製造方法 | |
| JPH04335033A (ja) | 架橋ポリシラザン及びその製造方法 | |
| US5319051A (en) | Terminally reactive polysilane and process for making | |
| US5066734A (en) | Polysilazane ceramic precursors and ceramic shaped articles produced by pyrolysis thereof | |
| US4778907A (en) | Method for making organosilazanes | |
| US5120686A (en) | Method of preparing a polysilazane | |
| US5286891A (en) | Hydroxy-terminated polysilane and process for making | |
| JPH0251530A (ja) | ポリシラザン、その製造方法、そのセラミック前駆体としての使用及び前記セラミックス | |
| JPH0559186A (ja) | 重合体シラザン、その製造方法およびその使用 | |
| JPH02194028A (ja) | ポリ置換された塩素含有―シラザンポリマー類、その製造方法該ポリマー類から製造することのできる窒化珪素セラミック材料およびその製造方法 | |
| US4983552A (en) | Method for making organosilazanes | |
| JP3974975B2 (ja) | 重合したシラボロカルボアザン、その製造法およびその利用 | |
| JPS62199623A (ja) | 環状ポリメチルシラザン構造を有する重合体の製造方法 | |
| JPH03170533A (ja) | ポリシラザン及びその製法 |