JPH04339690A - 画像形成用マスク材作成方法 - Google Patents
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、熱転写システムを用
いて画像形成用マスク材を作成する画像形成用マスク材
作成方法に関するものである。
いて画像形成用マスク材を作成する画像形成用マスク材
作成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】写真プリントには、例えば印画紙にネガ
フィルムから画像を焼付けると共に、画像形成用マスク
材でイラスト画像等を焼付けるものがある。このような
写真プリントにおいて画像に混在させるためには、予め
画像形成用マスク材を作成する必要があり、この画像形
成用マスク材は通常電算写植等によって作成される。
フィルムから画像を焼付けると共に、画像形成用マスク
材でイラスト画像等を焼付けるものがある。このような
写真プリントにおいて画像に混在させるためには、予め
画像形成用マスク材を作成する必要があり、この画像形
成用マスク材は通常電算写植等によって作成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このように、予め電算
写植法等で、画像形成用マスク材を作成するものでは、
写真プロセスを利用しているため、作成に特別な装置が
必要であり、手間もかかる。また、画像形成用マスク材
の作成法としては、例えば一般的なプリンタでの印字も
考えられるが、一般的なプリンタとして電子写真方式の
プリンタではトナーを使うために、トナー飛散による文
字のボケが生じ、良好な印字が得られない不具合がある
。また、インパクトプリンタはポジ画像は作成できるが
、ネガ画像が作れないし、さらにインクジェットプリン
タのインクは、印字濃度が薄いため、マスキング手段と
して有効でない。
写植法等で、画像形成用マスク材を作成するものでは、
写真プロセスを利用しているため、作成に特別な装置が
必要であり、手間もかかる。また、画像形成用マスク材
の作成法としては、例えば一般的なプリンタでの印字も
考えられるが、一般的なプリンタとして電子写真方式の
プリンタではトナーを使うために、トナー飛散による文
字のボケが生じ、良好な印字が得られない不具合がある
。また、インパクトプリンタはポジ画像は作成できるが
、ネガ画像が作れないし、さらにインクジェットプリン
タのインクは、印字濃度が薄いため、マスキング手段と
して有効でない。
【0004】このため、画像形成用マスク材を手数のか
かる写真プロセスを利用せずに、熱転写システムを用い
ることで、画像形成用マスク材を簡単に作成することが
でき、しかも高画質化、高コントラストで印字性が向上
するが、マスク原版または作成後の画像形成用マスク材
にパンチ孔等を設けても、印字開始位置がずれていれば
、焼付け時にパンチ孔を利用して位置ぎめをしても焼付
け文字等の位置が所望の位置よりずれてしまう等の問題
がある。
かる写真プロセスを利用せずに、熱転写システムを用い
ることで、画像形成用マスク材を簡単に作成することが
でき、しかも高画質化、高コントラストで印字性が向上
するが、マスク原版または作成後の画像形成用マスク材
にパンチ孔等を設けても、印字開始位置がずれていれば
、焼付け時にパンチ孔を利用して位置ぎめをしても焼付
け文字等の位置が所望の位置よりずれてしまう等の問題
がある。
【0005】この発明はかかる点に鑑みなされたもので
、マスク原版のマスク原版除去部の位置を基準にして印
字開始位置を決めして印字し、この印字して作成した画
像形成用マスク材を、さらに画像形成用除去部を利用し
て露光時の位置決めを行うため、簡単に位置ずれなく、
位置合せ可能となる画像形成用マスク材作成方法を提供
することを目的としている。
、マスク原版のマスク原版除去部の位置を基準にして印
字開始位置を決めして印字し、この印字して作成した画
像形成用マスク材を、さらに画像形成用除去部を利用し
て露光時の位置決めを行うため、簡単に位置ずれなく、
位置合せ可能となる画像形成用マスク材作成方法を提供
することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
、請求項1記載の発明の画像形成用マスク材作成方法は
、光透過性支持体からなるマスク原版の非画像領域に予
めマスク原版除去部を設けておき、このマスク原版と、
光不透過性層を少くとも有する熱転写シートとを重ね、
前記マスク原版除去部位置を基準にして加熱印字開始位
置を決定して加熱印字し、マスク原版側へ光不透過性層
を熱転写させてネガまたはポジ様の画像形成用マスク材
を作成することを特徴としている。
、請求項1記載の発明の画像形成用マスク材作成方法は
、光透過性支持体からなるマスク原版の非画像領域に予
めマスク原版除去部を設けておき、このマスク原版と、
光不透過性層を少くとも有する熱転写シートとを重ね、
前記マスク原版除去部位置を基準にして加熱印字開始位
置を決定して加熱印字し、マスク原版側へ光不透過性層
を熱転写させてネガまたはポジ様の画像形成用マスク材
を作成することを特徴としている。
【0007】また、請求項2記載の発明の画像形成用マ
スク材作成方法は、光透過性支持体に光不透過性層を少
なくとも有するマスク原版の非画像領域に予めマスク原
版除去部を設けておき、このマスク原版と、受容シート
を重ね、前記マスク原版除去部位置を基準にして加熱印
字開始位置を決定して加熱印字し、マスク原版側から受
容シート側ヘ光不透過性層を熱転写させてネガまたはポ
ジ様の画像形成用マスク材を作成することを特徴として
いる。
スク材作成方法は、光透過性支持体に光不透過性層を少
なくとも有するマスク原版の非画像領域に予めマスク原
版除去部を設けておき、このマスク原版と、受容シート
を重ね、前記マスク原版除去部位置を基準にして加熱印
字開始位置を決定して加熱印字し、マスク原版側から受
容シート側ヘ光不透過性層を熱転写させてネガまたはポ
ジ様の画像形成用マスク材を作成することを特徴として
いる。
【0008】この発明では図1に示すように、シート状
のマスク原版1には、その非画像領域2に予めマスク原
版除去部3を孔状に4隅部に設けておき、このマスク原
版除去部3の位置を基準にして加熱印字開始位置を決定
して、画像領域4に加熱印字して文字5等の画像を形成
する。この印字して作成した画像形成用マスク材10を
、さらにスク原版除去部3を利用して露光時の位置決め
を行ない、露光するため、簡単に位置ずれなく、位置合
せ可能となる。
のマスク原版1には、その非画像領域2に予めマスク原
版除去部3を孔状に4隅部に設けておき、このマスク原
版除去部3の位置を基準にして加熱印字開始位置を決定
して、画像領域4に加熱印字して文字5等の画像を形成
する。この印字して作成した画像形成用マスク材10を
、さらにスク原版除去部3を利用して露光時の位置決め
を行ない、露光するため、簡単に位置ずれなく、位置合
せ可能となる。
【0009】シート状のマスク原版1のマスク原版除去
部3の位置は非画像領域2であれば特に限定されず、ま
たその形態も特に限定されず、例えば図2に示すように
4隅部に半円状に設けることができ、また図3に示すよ
うに角状に設けてもよい。また、シート状のマスク原版
1のマスク原版除去部3の形成方法も特に限定されず、
パンチング、打ち抜き、切り欠き等の方法を用いること
ができる。
部3の位置は非画像領域2であれば特に限定されず、ま
たその形態も特に限定されず、例えば図2に示すように
4隅部に半円状に設けることができ、また図3に示すよ
うに角状に設けてもよい。また、シート状のマスク原版
1のマスク原版除去部3の形成方法も特に限定されず、
パンチング、打ち抜き、切り欠き等の方法を用いること
ができる。
【0010】この発明のマスク原版1のマスク原版除去
部3の位置を基準にし、加熱印字開始位置を決定し加熱
印字する具体的方法として、図4乃至図8に示すものが
ある。
部3の位置を基準にし、加熱印字開始位置を決定し加熱
印字する具体的方法として、図4乃至図8に示すものが
ある。
【0011】図4はシート状のマスク原版1を用い、図
5はロール状のマスク原版1を用いたものであり、熱転
写プリンタに予めマスク原版1のマスク原版除去部と対
応した位置決め用凸部90aを有する原版固定手段90
を設けておき、この位置決め用凸部90aにマスク原版
1のマスク原版除去部を位置決めしてセットし、加熱印
字手段30で加熱印字する。なお、図4のシート状のマ
スク原版1を用いる場合には板状の版固定手段90を用
い、図5はロール状のマスク原版1を用いる場合にはド
ラム状の版固定手段90を用いる。
5はロール状のマスク原版1を用いたものであり、熱転
写プリンタに予めマスク原版1のマスク原版除去部と対
応した位置決め用凸部90aを有する原版固定手段90
を設けておき、この位置決め用凸部90aにマスク原版
1のマスク原版除去部を位置決めしてセットし、加熱印
字手段30で加熱印字する。なお、図4のシート状のマ
スク原版1を用いる場合には板状の版固定手段90を用
い、図5はロール状のマスク原版1を用いる場合にはド
ラム状の版固定手段90を用いる。
【0012】このようにして、熱転写プリンタのマスク
原版固定手段90上にマスク原版1が固定され、図6及
び図7に示すように原版除去部検出手段91を用いマス
ク原版1のマスク原版除去部3を検出する。この原版除
去部検出手段91は図7に示すように、例えばLEDア
レイ等の投光機91a及びフォトトランジスタアレイ等
の受光機91bを用い、この原版除去部検出手段91の
出力でマスク原版1のマスク原版除去部3を検出する。
原版固定手段90上にマスク原版1が固定され、図6及
び図7に示すように原版除去部検出手段91を用いマス
ク原版1のマスク原版除去部3を検出する。この原版除
去部検出手段91は図7に示すように、例えばLEDア
レイ等の投光機91a及びフォトトランジスタアレイ等
の受光機91bを用い、この原版除去部検出手段91の
出力でマスク原版1のマスク原版除去部3を検出する。
【0013】以上のようにして検出されたマスク原版1
のマスク原版除去部3の座標を基にマスク原版固定手段
90または加熱印字手段30を移動または回転させる。
のマスク原版除去部3の座標を基にマスク原版固定手段
90または加熱印字手段30を移動または回転させる。
【0014】この請求項1記載の発明では図8(a),
(b)に示すように、光透過性支持体11からなるマス
ク材原版1と、光透過性支持体21に少なくとも光不透
過性層22を有する熱転写シート20とを重ね合わせ、
この熱転写シート20から加熱印字手段30で加熱印字
する。この加熱印字した後、熱転写シート20を剥離す
ると、加熱されない部分22aの光不透過性層22が熱
転写シート20に転写されないで残り、マスク材原版1
からネガ画像の画像形成用マスク材10が作成される。
(b)に示すように、光透過性支持体11からなるマス
ク材原版1と、光透過性支持体21に少なくとも光不透
過性層22を有する熱転写シート20とを重ね合わせ、
この熱転写シート20から加熱印字手段30で加熱印字
する。この加熱印字した後、熱転写シート20を剥離す
ると、加熱されない部分22aの光不透過性層22が熱
転写シート20に転写されないで残り、マスク材原版1
からネガ画像の画像形成用マスク材10が作成される。
【0015】また、この請求項2記載の発明では図9(
a),(b)に示すように、光透過性支持体41に光不
透過性層42を少なくとも有するマスク原版1と、受容
シート50とを重ね合せ、加熱印字手段30で加熱印字
した後、受容シート50を剥離すると、加熱した部分4
2aの光不透過性層42が受容シート50に転写され、
マスク材原版1からネガ画像の画像形成用マスク材10
が作成される。
a),(b)に示すように、光透過性支持体41に光不
透過性層42を少なくとも有するマスク原版1と、受容
シート50とを重ね合せ、加熱印字手段30で加熱印字
した後、受容シート50を剥離すると、加熱した部分4
2aの光不透過性層42が受容シート50に転写され、
マスク材原版1からネガ画像の画像形成用マスク材10
が作成される。
【0016】また、請求項1記載のマスク材原版1及び
熱転写シート20は、必要に応じて図10(a),(b
)に示すように構成することができる。熱転写シート2
0は、支持体26の一方の面に融着防止層23を設け、
他方の面に中間層24、光不透過性層22、接着層また
は粘着層25を設ける。また、マスク材原版1は光透過
性支持体11上に接着層または粘着層12が積層される
。光不透過性層22は光反射層で構成することができる
。熱転写シート20は前記のように、加熱印字により光
不透過性層22をマスク材原版1に像様に転写させた後
廃棄する。
熱転写シート20は、必要に応じて図10(a),(b
)に示すように構成することができる。熱転写シート2
0は、支持体26の一方の面に融着防止層23を設け、
他方の面に中間層24、光不透過性層22、接着層また
は粘着層25を設ける。また、マスク材原版1は光透過
性支持体11上に接着層または粘着層12が積層される
。光不透過性層22は光反射層で構成することができる
。熱転写シート20は前記のように、加熱印字により光
不透過性層22をマスク材原版1に像様に転写させた後
廃棄する。
【0017】また、請求項1記載のマスク材原版1及び
熱転写シート20は、図11(a),(b)に示すよう
に、相対する層を同一物質を主成分とすることができる
。例えば、マスク材原版1の接着層または粘着層12を
設け、熱転写シート20に同様に構成された接着層また
は粘着層25を設ける。
熱転写シート20は、図11(a),(b)に示すよう
に、相対する層を同一物質を主成分とすることができる
。例えば、マスク材原版1の接着層または粘着層12を
設け、熱転写シート20に同様に構成された接着層また
は粘着層25を設ける。
【0018】また、請求項2記載のマスク材原版1及び
受容シート50は、必要に応じて図12(a),(b)
に示すように構成することができる。受容シート50は
、支持体51の一方の面に融着防止層51を設け、他方
の面に接着層または粘着層52を設ける。また、マスク
材原版1は光透過性支持体41上に中間層43、光不透
過性層42、接着層または粘着層44が順に積層されて
いる。光不透過性層42は光反射層で構成することがで
きる。受容シート50は前記のように、加熱印字により
光不透過性層42をマスク材原版1より像様に転写させ
た後廃棄する。
受容シート50は、必要に応じて図12(a),(b)
に示すように構成することができる。受容シート50は
、支持体51の一方の面に融着防止層51を設け、他方
の面に接着層または粘着層52を設ける。また、マスク
材原版1は光透過性支持体41上に中間層43、光不透
過性層42、接着層または粘着層44が順に積層されて
いる。光不透過性層42は光反射層で構成することがで
きる。受容シート50は前記のように、加熱印字により
光不透過性層42をマスク材原版1より像様に転写させ
た後廃棄する。
【0019】また、請求項2記載のマスク材原版1及び
前記受容シート50は、図13(a),(b)に示すよ
うに、相対する層を同一物質を主成分とすることができ
る。例えば、マスク材原版1の光不透過層42上に接着
層60を設け、受容シート50に同様に構成された接着
層70を設ける。
前記受容シート50は、図13(a),(b)に示すよ
うに、相対する層を同一物質を主成分とすることができ
る。例えば、マスク材原版1の光不透過層42上に接着
層60を設け、受容シート50に同様に構成された接着
層70を設ける。
【0020】この発明において、マスク材原版及び受容
シートの支持体としては、良好な耐熱強度を有するとと
もに寸法安定性の高いことが望ましい。その材料として
は、例えば普通紙、コンデンサー紙、ラミネート紙及び
コート紙等の紙類;ポリエチレン、ポリプロピレン及び
ポリイミド等の樹脂フィルム類;紙と樹脂フィルムとの
複合体ならびにアルミ箔等の金属シートなどを挙げるこ
とができる。支持体の厚みは、通常30μm以下、好ま
しくは2〜30μmの範囲内である。支持体の厚みが3
0μmを超えると、熱伝導性が劣化して印字品質の低下
を招くことがある。
シートの支持体としては、良好な耐熱強度を有するとと
もに寸法安定性の高いことが望ましい。その材料として
は、例えば普通紙、コンデンサー紙、ラミネート紙及び
コート紙等の紙類;ポリエチレン、ポリプロピレン及び
ポリイミド等の樹脂フィルム類;紙と樹脂フィルムとの
複合体ならびにアルミ箔等の金属シートなどを挙げるこ
とができる。支持体の厚みは、通常30μm以下、好ま
しくは2〜30μmの範囲内である。支持体の厚みが3
0μmを超えると、熱伝導性が劣化して印字品質の低下
を招くことがある。
【0021】また、マスク材原版及び受容シートには粘
着層、接着層が設けられ、この粘着層としては、例えば
鯨ロウ、ミツロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャ
ンデリラワックス、モンタンワックスなどの天然ワック
ス、パラフィンワックス、マイクロクリンワックス、酸
化ワックス、エステルワックス、低分子量ポリエチレン
などの合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸など
の高級脂肪酸、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコ
ールなどの高級アルコール、ソルビタンの脂肪酸エステ
ルなどのエステル類、ステアリンアミド、オレインアミ
ドなどのアミド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビ
ニル系樹脂、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、天然ゴム
、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプ
レンゴムなどのエラストマー類、ロジン及びその誘導体
、テルペン樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイヤー
充填剤、可塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合された
ものが用いられる。従来の感熱転写シールの場合と同様
に加熱手段がサーマルヘッドによる短時間の加熱である
ため、融点の低いもの(通常70〜100℃程度)が要
求される。粘着層の厚さは被転写体の表面状態などによ
り適宜選択決定されるものであるが、通常は0.1〜1
0μm程度の範囲から選ばれる。
着層、接着層が設けられ、この粘着層としては、例えば
鯨ロウ、ミツロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャ
ンデリラワックス、モンタンワックスなどの天然ワック
ス、パラフィンワックス、マイクロクリンワックス、酸
化ワックス、エステルワックス、低分子量ポリエチレン
などの合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸など
の高級脂肪酸、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコ
ールなどの高級アルコール、ソルビタンの脂肪酸エステ
ルなどのエステル類、ステアリンアミド、オレインアミ
ドなどのアミド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビ
ニル系樹脂、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、天然ゴム
、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプ
レンゴムなどのエラストマー類、ロジン及びその誘導体
、テルペン樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイヤー
充填剤、可塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合された
ものが用いられる。従来の感熱転写シールの場合と同様
に加熱手段がサーマルヘッドによる短時間の加熱である
ため、融点の低いもの(通常70〜100℃程度)が要
求される。粘着層の厚さは被転写体の表面状態などによ
り適宜選択決定されるものであるが、通常は0.1〜1
0μm程度の範囲から選ばれる。
【0022】また、接着層としては、前記粘着層組成に
、さらに熱軟化性樹脂、或いは熱溶融性物質を組みあわ
せて構成される。接着層の厚さは、通常は0.1〜10
μm程度の範囲から選ばれる。
、さらに熱軟化性樹脂、或いは熱溶融性物質を組みあわ
せて構成される。接着層の厚さは、通常は0.1〜10
μm程度の範囲から選ばれる。
【0023】また、この発明では受容シートには溶融防
止層を設けることができ、融着防止層を設けておくと、
例えばサーマルヘッドにより熱を印加する場合サーマル
ヘッドに熱硬化性物質の付着を防止することができる。 融着防止層はブロッキング現象あるいはスティッキング
現象を防止する層である。
止層を設けることができ、融着防止層を設けておくと、
例えばサーマルヘッドにより熱を印加する場合サーマル
ヘッドに熱硬化性物質の付着を防止することができる。 融着防止層はブロッキング現象あるいはスティッキング
現象を防止する層である。
【0024】この融着防止層としては前記スティッキン
グ現象を防止することのできるそれ自体公知の組成物で
形成することができ、例えば(A) シリコン樹脂系樹
脂と(B)ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロ
ース系樹脂、アクリル樹脂及びフッ素樹脂よりなる群か
ら選択させる少なくとも一種の樹脂とさらに要すれば(
C) ポリイソシアネート化合物とを含む樹脂組成物に
より形成することが望ましい。
グ現象を防止することのできるそれ自体公知の組成物で
形成することができ、例えば(A) シリコン樹脂系樹
脂と(B)ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロ
ース系樹脂、アクリル樹脂及びフッ素樹脂よりなる群か
ら選択させる少なくとも一種の樹脂とさらに要すれば(
C) ポリイソシアネート化合物とを含む樹脂組成物に
より形成することが望ましい。
【0025】融着防止層におけるシリコン系樹脂の含有
率は、通常1〜100重量%の範囲内であり、好ましく
は10〜80重量%の範囲内である。
率は、通常1〜100重量%の範囲内であり、好ましく
は10〜80重量%の範囲内である。
【0026】シリコン系樹脂は樹脂の状態で添加して剥
離層の硬化体中に均一に含有させることもできるし、さ
らに微粉末の形態で剥離層に含有させることもできる。
離層の硬化体中に均一に含有させることもできるし、さ
らに微粉末の形態で剥離層に含有させることもできる。
【0027】ポリエステル樹脂としては、一般に熱可塑
性ポリエステルと称されているものであれば特に制限が
ない。ポリアミド樹脂としては、特に制限がなく、例え
ばナイロン6、ナイロン8、ナイロン11、ナイロン6
6及びナイロン610などが挙げられる。その他に、共
重合体も使用することができる。
性ポリエステルと称されているものであれば特に制限が
ない。ポリアミド樹脂としては、特に制限がなく、例え
ばナイロン6、ナイロン8、ナイロン11、ナイロン6
6及びナイロン610などが挙げられる。その他に、共
重合体も使用することができる。
【0028】前記セルロース系樹脂としては、例えばア
セチルセルロース、ニトロセルロース、アセリルブリル
セルロースなどのセルロースエステル、エチルセルロー
ス、メチルセルロース、ベンジルセルロース及びアルボ
キシメチルセルロースなどのセルロースエーテルが挙げ
られる。
セチルセルロース、ニトロセルロース、アセリルブリル
セルロースなどのセルロースエステル、エチルセルロー
ス、メチルセルロース、ベンジルセルロース及びアルボ
キシメチルセルロースなどのセルロースエーテルが挙げ
られる。
【0029】アクリル樹脂としては、例えばアクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メ
タアクリル酸エチル、アクリロニトリル、アクリルアミ
ド及びこれらの誘導体の単独重合体ならびに前記各種ア
クリル系モノマーと酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン
もしくは無水マレイン酸などとの共重合体が挙げられる
。
メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メ
タアクリル酸エチル、アクリロニトリル、アクリルアミ
ド及びこれらの誘導体の単独重合体ならびに前記各種ア
クリル系モノマーと酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン
もしくは無水マレイン酸などとの共重合体が挙げられる
。
【0030】フッ素樹脂としては、例えば四フッ化エチ
レン樹脂、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレンン共
重合樹脂、四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシ
エチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フ
ッ化エチレン・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン樹
脂及びフッ化ビニル樹脂などが挙げられる。
レン樹脂、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレンン共
重合樹脂、四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシ
エチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フ
ッ化エチレン・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン樹
脂及びフッ化ビニル樹脂などが挙げられる。
【0031】これらのフッ素樹脂は一種単独で使用して
もよいし、二種類以上を組み合わせて使用しても良い。 前記各種の樹脂は、樹脂の状態で添加してアンチスティ
ッキング層の硬化体中に均一に含有させることもできる
し、さらに微粉末の形態で融着防止層に含有させること
もできる。
もよいし、二種類以上を組み合わせて使用しても良い。 前記各種の樹脂は、樹脂の状態で添加してアンチスティ
ッキング層の硬化体中に均一に含有させることもできる
し、さらに微粉末の形態で融着防止層に含有させること
もできる。
【0032】また、融着防止層は、さらに例えばフッ素
樹脂粒子、金属粉、シリカゲルなどの無機あるいは有機
微粒子、界面活性材、滑剤等を含有していても良い。
樹脂粒子、金属粉、シリカゲルなどの無機あるいは有機
微粒子、界面活性材、滑剤等を含有していても良い。
【0033】融着防止層には、前記の成分の他にワック
ス類、界面活性剤、高級脂肪酸誘導体、高級脂肪族アル
コール、高級脂肪族エーテル及びリン酸エステルなどの
添加物を含んでいてもよい。融着防止層を形成するため
の前記各成分の配合割合は、適宜に決定することができ
る。融着防止層は例えば溶媒を用いた塗布法を採用して
熱転写シートにおける最外層の表面に形成される。
ス類、界面活性剤、高級脂肪酸誘導体、高級脂肪族アル
コール、高級脂肪族エーテル及びリン酸エステルなどの
添加物を含んでいてもよい。融着防止層を形成するため
の前記各成分の配合割合は、適宜に決定することができ
る。融着防止層は例えば溶媒を用いた塗布法を採用して
熱転写シートにおける最外層の表面に形成される。
【0034】また、マスク材原版及び熱転写シートの光
不透過性層としては、色材、熱軟化性樹脂、熱溶融物質
を適宜組みあわせて構成することができ、また光反射層
としても良い。また、この光反射層として、Alなどの
金属蒸着膜 Al,Niなどの金属粉を熱硬化性樹脂
、熱溶融性物質中へ分散させたものなどで形成される。 金属蒸着層としては、公知の真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレイティング法などの通常の金属(合金
も含む以下同様)の薄膜形成方法により、例えば亜鉛、
アルミニウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル、
銀、金、銅、珪素、クロム、チタン、白金、パラジウム
のどの蒸着が可能な単体または混合物あるいは合金など
が厚さ10〜200nm程度に蒸着形成される。厚さが
10nm以下の場合には、紫外線遮断性が十分でなく、
金属蒸着層を設けた価値が無く、また200nm程度以
上に形成しても、紫外線遮断性に変化がなく経済的でな
い。なお、金属蒸着層は一層とせず複数層としても良く
、その場合には層毎に金属の種類をかえてもよい。
不透過性層としては、色材、熱軟化性樹脂、熱溶融物質
を適宜組みあわせて構成することができ、また光反射層
としても良い。また、この光反射層として、Alなどの
金属蒸着膜 Al,Niなどの金属粉を熱硬化性樹脂
、熱溶融性物質中へ分散させたものなどで形成される。 金属蒸着層としては、公知の真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレイティング法などの通常の金属(合金
も含む以下同様)の薄膜形成方法により、例えば亜鉛、
アルミニウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル、
銀、金、銅、珪素、クロム、チタン、白金、パラジウム
のどの蒸着が可能な単体または混合物あるいは合金など
が厚さ10〜200nm程度に蒸着形成される。厚さが
10nm以下の場合には、紫外線遮断性が十分でなく、
金属蒸着層を設けた価値が無く、また200nm程度以
上に形成しても、紫外線遮断性に変化がなく経済的でな
い。なお、金属蒸着層は一層とせず複数層としても良く
、その場合には層毎に金属の種類をかえてもよい。
【0035】また、色材含有光不透過性層としての色材
としては、無機及び有機の顔料ならびに染料を挙げるこ
とができる。無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩などが挙げられる。 上記有機顔料と
しては、アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、
アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料
、バット染料顔料、フタロシアニン顔料、例えば銅フタ
ロシアニン及びその誘導体ならびにキナクリドン顔料な
どが挙げられる。前記染料としては、酸性染料、直接染
料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料などが挙
げられる。
としては、無機及び有機の顔料ならびに染料を挙げるこ
とができる。無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩などが挙げられる。 上記有機顔料と
しては、アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、
アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料
、バット染料顔料、フタロシアニン顔料、例えば銅フタ
ロシアニン及びその誘導体ならびにキナクリドン顔料な
どが挙げられる。前記染料としては、酸性染料、直接染
料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料などが挙
げられる。
【0036】加熱印字手段30としては、サーマルヘッ
ド、通常ヘッド、光等があるが、特にサーマルヘッドが
装置が簡単であり好ましい。
ド、通常ヘッド、光等があるが、特にサーマルヘッドが
装置が簡単であり好ましい。
【0037】
【作用】この請求項1記載の発明では、マスク原版と、
光不透過性層を少くとも有する熱転写シートとを重ね、
マスク原版除去部位置を基準にして加熱印字開始位置を
決定して加熱印字し、マスク原版側へ光不透過性層を熱
転写させてネガまたはポジ様の画像形成用マスク材を作
成する。この請求項2記載の発明では、マスク原版と、
受容シートを重ね、マスク原版除去部位置を基準にして
加熱印字開始位置を決定して加熱印字し、マスク原版側
から受容シート側ヘ光不透過性層を熱転写させてネガま
たはポジ様の画像形成用マスク材を作成する。
光不透過性層を少くとも有する熱転写シートとを重ね、
マスク原版除去部位置を基準にして加熱印字開始位置を
決定して加熱印字し、マスク原版側へ光不透過性層を熱
転写させてネガまたはポジ様の画像形成用マスク材を作
成する。この請求項2記載の発明では、マスク原版と、
受容シートを重ね、マスク原版除去部位置を基準にして
加熱印字開始位置を決定して加熱印字し、マスク原版側
から受容シート側ヘ光不透過性層を熱転写させてネガま
たはポジ様の画像形成用マスク材を作成する。
【0038】このように、マスク原版のマスク原版除去
部位置を基準にして加熱印字開始位置を決定して加熱印
字し、ネガまたはポジ様の画像形成用マスク材を作成し
、さらに画像形成用除去部を利用して露光時の位置決め
を行うため、簡単に位置ずれなく、位置合せ可能となる
画像形成用マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用
せずに、熱転写システムを用いて簡単に画像形成用マス
ク材を作成することができる。
部位置を基準にして加熱印字開始位置を決定して加熱印
字し、ネガまたはポジ様の画像形成用マスク材を作成し
、さらに画像形成用除去部を利用して露光時の位置決め
を行うため、簡単に位置ずれなく、位置合せ可能となる
画像形成用マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用
せずに、熱転写システムを用いて簡単に画像形成用マス
ク材を作成することができる。
【0039】
【実施例】以下、この発明の画像形成用マスク材作成方
法を実施例に基づいて、この発明を説明するが、この実
施例に限定されないことは勿論である。
法を実施例に基づいて、この発明を説明するが、この実
施例に限定されないことは勿論である。
【0040】実施例1
光透過性支持体として100μmのPET支持体ベース
を用い、このPET支持体ベースの非画像部に打ち抜き
材を利用して、4角に位置決め用孔を設ける。この位置
決め用孔を利用して、加熱印字の際の位置決めを行う。 次に、下記領域の中間層、光不透過性層を6μmのPE
T支持体ベース上にこの順に積層した。そして、熱転写
シートを重ね、下記の印字条件で反転印字をし、ネガ様
の画像形成用マスク材を得た。次に、この画像形成用マ
スク材を4箇所に固定用凸部を有した焼き付け台上に固
定し、印字紙上に焼付けを行った。 (中間層組成) 厚さ1μm ラノリンワックス 100重量部 (光不透過性層組成) 厚さ2μm カーボンブラック 40重量部 低分子量ポリエステル 40重量部 EVA 20重量部 (印字条件)印字は、64ドット、シリアルヘッドワー
プロ改造機にて通常印字を行なった。加熱は25mJ/
mm2に設定した。
を用い、このPET支持体ベースの非画像部に打ち抜き
材を利用して、4角に位置決め用孔を設ける。この位置
決め用孔を利用して、加熱印字の際の位置決めを行う。 次に、下記領域の中間層、光不透過性層を6μmのPE
T支持体ベース上にこの順に積層した。そして、熱転写
シートを重ね、下記の印字条件で反転印字をし、ネガ様
の画像形成用マスク材を得た。次に、この画像形成用マ
スク材を4箇所に固定用凸部を有した焼き付け台上に固
定し、印字紙上に焼付けを行った。 (中間層組成) 厚さ1μm ラノリンワックス 100重量部 (光不透過性層組成) 厚さ2μm カーボンブラック 40重量部 低分子量ポリエステル 40重量部 EVA 20重量部 (印字条件)印字は、64ドット、シリアルヘッドワー
プロ改造機にて通常印字を行なった。加熱は25mJ/
mm2に設定した。
【0041】実験例2
光透過性支持体として100μmのPET支持体ベース
を用い、さらにこの上に下記組成の中間層、光不透過性
層からなるマスク原版の非画像部の4角に、打抜き機を
利用して位置決め用孔を設ける。さらに、6μmのPE
T支持体ベース上に下記組成の接着層を設けた受容シー
トを重ね、後は実施例1と同様にして画像形成用マスク
材を作成後、印画紙上への焼付けを行なった。 (中間層組成) 厚さ1μm マイクロワリスタリンワックス 100重量部(光不
透過性層組成) カーボンブラック 40重量部 パラフィンワックス 20重量部
を用い、さらにこの上に下記組成の中間層、光不透過性
層からなるマスク原版の非画像部の4角に、打抜き機を
利用して位置決め用孔を設ける。さらに、6μmのPE
T支持体ベース上に下記組成の接着層を設けた受容シー
トを重ね、後は実施例1と同様にして画像形成用マスク
材を作成後、印画紙上への焼付けを行なった。 (中間層組成) 厚さ1μm マイクロワリスタリンワックス 100重量部(光不
透過性層組成) カーボンブラック 40重量部 パラフィンワックス 20重量部
【0042】
【発明の効果】前記したように、この請求項1及び2記
載の発明は、マスク原版のマスク原版除去部位置を基準
にして加熱印字開始位置を決定して加熱印字し、ネガま
たはポジ様の画像形成用マスク材を作成し、さらに画像
形成用除去部を利用して露光時の位置決めを行うため、
簡単に位置ずれなく、位置合せ可能となる画像形成用マ
スク材を手数のかかる写真プロセスを利用せずに、熱転
写システムを用いて簡単に画像形成用マスク材を作成す
ることができる。
載の発明は、マスク原版のマスク原版除去部位置を基準
にして加熱印字開始位置を決定して加熱印字し、ネガま
たはポジ様の画像形成用マスク材を作成し、さらに画像
形成用除去部を利用して露光時の位置決めを行うため、
簡単に位置ずれなく、位置合せ可能となる画像形成用マ
スク材を手数のかかる写真プロセスを利用せずに、熱転
写システムを用いて簡単に画像形成用マスク材を作成す
ることができる。
【図1】画像形成用マスク材作成方法を示す図である。
【図2】マスク原版のマスク原版除去部の位置及び形態
を示す図である。
を示す図である。
【図3】マスク原版のマスク原版除去部の位置及び形態
を示す図である。
を示す図である。
【図4】シート状のマスク原版のマスク原版除去部を基
準にして加熱印字を示す図である。
準にして加熱印字を示す図である。
【図5】ロール状のマスク原版のマスク原版除去部を基
準にして加熱印字を示す図である。
準にして加熱印字を示す図である。
【図6】シート状のマスク原版のマスク原版除去部を検
出する斜視図である。
出する斜視図である。
【図7】シート状のマスク原版のマスク原版除去部の検
出を示す図である。
出を示す図である。
【図8】画像形成用マスク材を作成する一例を示す概略
図である。
図である。
【図9】画像形成用マスク材を作成する他の一例を示す
概略図である。
概略図である。
【図10】画像形成用マスク材を作成するさらに他の一
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
【図11】画像形成用マスク材を作成するさらに他の一
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
【図12】画像形成用マスク材を作成するさらに他の一
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
【図13】画像形成用マスク材を作成するさらに他の一
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
1 マスク材原版
2 非画像領域
3 マスク原版除去部
4 画像領域
5 文字
Claims (2)
- 【請求項1】 光透過性支持体からなるマスク原版の
非画像領域に予めマスク原版除去部を設けておき、この
マスク原版と、光不透過性層を少くとも有する熱転写シ
ートとを重ね、前記マスク原版除去部位置を基準にして
加熱印字開始位置を決定して加熱印字し、マスク原版側
へ光不透過性層を熱転写させてネガまたはポジ様の画像
形成用マスク材を作成することを特徴とする画像形成用
マスク材作成方法。 - 【請求項2】 光透過性支持体に光不透過性層を少な
くとも有するマスク原版の非画像領域に予めマスク原版
除去部を設けておき、このマスク原版と、受容シートを
重ね、前記マスク原版除去部位置を基準にして加熱印字
開始位置を決定して加熱印字し、マスク原版側から受容
シート側ヘ光不透過性層を熱転写させてネガまたはポジ
様の画像形成用マスク材を作成することを特徴とする画
像形成用マスク材作成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3023990A JPH04339690A (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 画像形成用マスク材作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3023990A JPH04339690A (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 画像形成用マスク材作成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04339690A true JPH04339690A (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=12126020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3023990A Pending JPH04339690A (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 画像形成用マスク材作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04339690A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017126095A (ja) * | 2012-01-12 | 2017-07-20 | 株式会社ニコン | 円筒状マスク |
KR102193070B1 (ko) * | 2020-07-10 | 2020-12-18 | 풍원정밀(주) | 모서리 부분의 위치 정확도를 향상시킨 oled용 메탈 마스크 |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP3023990A patent/JPH04339690A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017126095A (ja) * | 2012-01-12 | 2017-07-20 | 株式会社ニコン | 円筒状マスク |
KR102193070B1 (ko) * | 2020-07-10 | 2020-12-18 | 풍원정밀(주) | 모서리 부분의 위치 정확도를 향상시킨 oled용 메탈 마스크 |
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