JPH04113356A - 熱転写シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、画像形成用マスク材を作成する方法におい
て用いられる熱転写シートに関するものである。

［従来の技術］ 写真プリントには、例えば印画紙にネガフィルムから画
像を焼付けると共に、画像形成用マスク材でイラスト画
像等を焼付けるものがある。

このような写真プリントにおいて画像に混在させるため
には、予め画像形成用マスク材を作成する必要があり、
この画像形成用マスク材は通常電算写植等によって作成
される。

［発明が解決しようとする課題］ このように、予め電算写植法等で、画像形成用マスク材
を作成するものでは、写真プロセスを利用しているため
、作成に特別な装置が必要てあリ、手間もかかる。

また、画像形成用マスク材の作成法としては、例えば一
般的なプリンタでの印字も考えられるか、−Ｓ的なプリ
ンタとして電子写真方式のプリンタてはトナーを使うた
めに、トナー飛散による文字のボケか生し、良好な印字
か得られない不具合がある。

また、インパクトプリンタはポジ画像は作成できるか、
ネガ画像か作れない。

さらに、インクシェツトプリンタのインクは、印字濃度
か薄いため、マスキング手段として有効でない。

このため、例えは少なくとも光不透過性層を有する熱転
写シートと、受容体とを重ね合わせ、熱転写シートの背
面より加熱印字した後に、この熱転写シートをｆ！ＩＪ
　１ｌｉｆｌして画像形成用マスク材を作成する方法を
用いると、手数のかかる写真プロセスを利用せずに、熱
転写システムを用いて簡単に作成することが可能になる
。

ところで、このような熱転写システムを用いて、画像形
成用マスク材を作成する場合には、画像形成用マスク材
の遮光効果をあげて印字性を得るために、例えば光吸収
層の色オΔ含有量をあげる或いは厚膜化を図るなどが考
えられるか、これらの方法では光吸収によって、或いは
工１」離性が損なわれて画質か低下する等の問題かある
。

この発明はかかる点に鑑みなされたもので、画像形成用
マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用せずに、熱
転写シ゛ステムを用いて簡単に作成することかでき、し
かも画質を損ねることなく効果的に光透過を阻止して印
字性が向上する画像形成用マスク材を作成する方法にお
いて用いられる熱転写シートを提供することを目的とし
ている。

［課題を解決するための手段］ 前記課題を解決するため、請求項１記載の発明の熱転写
シートは、少なくとも光不透過性層を有する熱転写シー
トと、受容体とを重ね合わせ、前記熱転写シートの背面
より加熱印字した後に、この熱転写シートを剥離して画
像形成用マスク月を作成する方法において、前記光不透
過性層が光反射層であることを特徴としている。

また、請求項２記載の発明の熱転写シートは、前記光反
射層か金属蒸着層からなることを特徴としている。

また、請求項３項記載の発明の熱転写シートは、少なく
とも光不透過性層を有する熱転写シートと、受容体とを
重ね合わせ、前記熱転写シートの背面より加熱印字した
後に、この熱転写シートをｆ！ＩＪ　）ＩＩＩして画像
形成用マスク材を作成する方法において、前記光不透過
性層が光反射層及び不透含有光不透過性層からなること
を特徴としている。

また、請求項４記載の発明の熱転写シートは、前記熱転
写シートが少なくとも支持体上に、光反射層、不透含有
光不透過性層の順に積層されていることを特徴としてい
る。

この光不透過性の定義は、マスクフィルムを利用するシ
ステムにおける光源光に対して透過率か低いことを意味
している。光透過濃度では光源光量との関係もあり、い
ちがいに限定されないか、通常１．０好ましくは２．０
以上が良い。

また、画像形成用マスク材原版には光透過性支持体か設
りられており、光透過性についても同様に光源光に対す
る透過率が高いことを意味する。

光透過率ではやはり光源光量とも関係かあり、いちがい
に限定されないが、通常８０％好ましくは９０％以上の
透過率か好ましい。

この発明ては第１図（ａ）に示すように、少なくとも光
不透過性層を有する熱転写シー）・１ど、受容体２とを
重ね合わせ、熱転写シート１の背面より加熱印字手段３
により加熱印字する。この熱転写シート１と受容体２と
の重ね合わせは、常に重ねあわされた状態て加熱印字す
る場合、或いは加熱印字される際に一時的に重ね合わさ
れる状態も含む。

この熱転写シート１の層構成は、支持体１ｏ、光不透過
性層１１である光反射層からなっており、この熱転写シ
ー［−１を加熱印字手段３て加熱印字した後に、この熱
転写シー１−１をｑｕｌ！ＩＩ（シて第１図（ｂ）に示
すように光反射層が受容体２に転写され、この光反射層
が転写された受容体２側を画像形成用マスク材として使
用する。

また、第１図（Ｃ）に示すように、光反射層が受容体２
に転写し、この光反射層が抜けた熱転写シート１側を画
像形成用マスク材として使用する。

光反射層が転写された受容体２側を画像形成用マスク材
として使用する場合には、受容体２が光透過性を有する
。また、光反射層が抜けた熱転写シート１側を画像形成
用マスク材として使用する場合には、熱転写シート１の
支持体１０が光透過性を有することが必要であり、受容
体２は光透過性を有しなくてもよい。

このようにして作成された画像形成用マスク材は、光反
射層によって光が反射され遮光性に優れ、しかも光吸収
によって画質が低下することかなく、また薄膜に形成す
ることができ印字品質が向上する。

また、請求項２記載の熱転写シート１では、光反射層が
金属蒸着層からなっており、金属蒸着層で構成すること
で、簡単で良好な光反射層が得られる。

また、請求項３乃至４記載の熱転写シート１では、熱転
写シート１の層構成は、第２図（ａ）〜（Ｃ）に示すよ
うに、光不透過性層１１が光反射層１１ａ及び不透含有
光不透過性層１１ｂからなっており、支持体１０上に、
光反射層１１ａ、不透含有光不透過性層ｊｉｂの順に積
層されている。

このように熱転写シート１が積層され、或いは支持体１
０と光反射層１１ａとの間に中間層を設けて積層され、
この発明のマスク作成方法としては第２図（ｄ）に示す
ように、■熱転写シート１をマスクとして用いる、■透
明支持体の受容体２上に印字したものを用いるとの２通
りあるが、■タイプは薄膜にならざるを得ないためハン
ドリング性に劣り、好ましくは■タイプである。

上記層構成の熱転写シート１を用いた場合、マスク原版
は第２図（ｅ）のような層構成になる。

露光時の回折によるボケを少なくするため、印画紙Ｐを
光反射層１１ａ、不透含有光不透過性層１１ｂ側に配置
し、反対側より露光を行なうことが好ましい。この際不
透含有光不透過性層１１ｂを介して光反射層１１ａがあ
るため、露光した光の光源側への戻り光が少なく、多重
反射の影響によるエツジボケなどが少ない。

一方、第２図（ｆ）に示されるように、熱転写シートを
用いて同様にマスク版を作成した場合には、露光は光反
射層１１ａて反射され、エツジボケが生しやすい。

また、熱転写シートの層構成は、第３図（ａ）〜（Ｃ）
に示すように、融着防止層１２、支持体１０、中間層１
３、光不透含有光不透過性層１１ｂ、光反射層１１ａ、
接着層１４で構成することができる。光不透含有光不透
過性層１１ｂ及び光反射層１１ａは、積層の順序を入れ
換えても良いが、支持体１０側に光反射層１１ａが存在
する方がより好ましい。

また、光反射層１１８−として金属蒸着層を用いる場合
、蒸着膜には加熱接着性がないので、第３図に示すよう
に受容体２は支持体２ａに接着層２ｂを積層して形成さ
れ、この受容体２の接着層２ｂに重ねて加熱印字する必
要がある。

この発明において、熱転写シート１の支持体としては、
良好な耐熱強度を有するとともに寸法安定性の高いこと
が望ましい。

その材料としては、例えば普通紙、コンデンサー紙、ラ
ミネート紙及びコート紙等の紙類；ポリエチレン、ポリ
プロピレン及びポリイミド等の樹脂フィルム類１紙と樹
脂フィルムとの複合体ならびにアルミ箔等の金属シート
などを挙げることができる。

支持体の厚みは、通常３０μｍ以下、好ましくは２〜３
０μｍの範囲内である。支持体の厚みが３０μｍを超え
ると、熱伝導性が劣化して印字品質の低下を招くことが
ある。

なお、この発明では支持体の裏面側の構成については任
意であり、例えばスティッキング防止層等のバッキング
層を設けても良い。

さらに、受容体２の支持体にも前記と同様な材料で構成
され、良好な耐熱強度を有するとともに寸法安定性の高
いことか望ましい。

また、この発明の光反射層として、Ａ１などの金属蒸着
膜　Ａｎ、Ｎｉなとの金属粉を熱硬化性樹脂、熱溶融性
物質中へ分散させたものなどて形成される。

金属蒸着層としては、公知の真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレイティング法などの通常の金属（合金
も含む以下同様）の薄膜形成方法により、例えは亜鉛、
アルミニウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル、
銀、金、銅、珪素、クロム、チタン、白金、パラジウム
などの蒸着が可能な単体または混合物あるいは合金など
が厚さ１０〜２００ｎｍ程度に蒸着形成される。厚さが
１０ｎｍ以下の場合には、光遮光性か十分てなく、金属
蒸着層を設けた価値が無く、また２００ｎｍ程度以上に
形成しても、光遮光性に変化かなく経済的でない。なお
、金属蒸着層は一層とせず複数層としても良く、その場
合には層毎に金属の種類をかえてもよい。

また、この発明の不透含有光不透過性層としての色材と
しては、無機及び有機の顔料ならびに染料を挙げること
ができる。

上記無機顔料としては、二酸化チタン、カーボンブラッ
ク、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化力１−ミウム、
酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのク
ロム酸塩などが挙げられる。

上記有機顔料としては、アゾ系、チオインジゴ系、アン
トラキノン系、アントアンスロン系、トリフエンジオキ
サジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料
、例えば銅フタロシアニン及びその誘導体ならびにキナ
クリドン顔料などが挙げられる。

前記染料としては、酸性染料、直接染料、分散染料、油
溶性染料、含金属油溶性染料などが挙げられる。

この発明では融着防止層を設けても良く、融着防止層を
設りておくと、例えはサーマルヘッドにより熱を印加す
る場合サーマルヘッドに熱硬化性物質の付着を防止する
ことができる。

融着防止層はブロッキング現象あるいはスティッキング
現象を防止する層である。

この融着防止層としては前記スティッキング現象を防止
することのできるそれ自体公知の組成物て形成すること
かでき、例えば（Ａ）シリコン樹脂系樹脂と（Ｂ）ポリ
エステル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース系樹脂、ア
クリル樹脂及びフッ素樹脂よりなる群から選択させる少
なくとも一種の樹脂とさらに要すれは（Ｃ）ポリインシ
アネート化合物とを含む樹脂組成物により形成すること
か望ましい。

前記シリコン系樹脂としては例えは次式Ｒ−一÷−−Ｓ
　　ｉ　　−Ｏ−一層Ｔ−Ｒ［たたし式中Ｒは有機基を
示しｋは１以上の整数を示す。］ て表ねされるオルガノポリシロキサン、変性ポリシロキ
サン樹脂、シリコン変性アクリル樹脂、シリコン変性ウ
レタン樹脂、シリコン変性ウレア樹脂、シリコン変性エ
ポキシ樹脂などのシリコン変性樹脂を好適に使用するこ
とがてきる。これらのシリコン変性樹脂は、例えばアク
リル樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、エポキシ樹脂な
どをポリシロキサンにより変性したものである。

前記各種のシリコン変性樹脂において、シリコン部分の
含有率は、通常１〜９０重景％重量囲内であり好ましく
は、５〜５０重量％の範囲内であるのが好ましい。

これらのシリコン系樹脂は一種単独で用いても良いし二
種以上を組合わせて用いても良い。

前記各種のシリコン系樹脂の中ても好ましいのは、前記
の各種シリコン変性樹脂である。

前記シリコン系樹脂は、架橋剤により硬化させるのか好
ましい。

なお、架橋剤としては特に制限がなく、例えはイソシア
ナート類、アジリジン類、エポキシ類などが挙げられる
。

融着防止層におけるシリコン系樹脂の含有率は、通常１
〜１００重量％の範囲内であり、好ましくは１０〜８０
重量％の範囲内である。

シリコン系樹脂は樹脂の状態で添加して剥離層の硬化体
中に均一に含有させることもできるし、さらに微粉末の
形態で剥離層に含有させることもてきる。

ポリエステル樹脂としては、一般に熱可塑性ポリエステ
ルと称されているものであれば特に制限がない。

ポリアミド樹脂としては、特に制限がなく、例えばナイ
ロン６、ナイロン８、ナイロン１１、ナイロン６６及び
ナイロン６１０などが挙げられる。その他に、共重合体
も使用することがてきる。

前記セルロース系樹脂としては、例えばアセチルセルロ
ース、ニトロセルロース、アセリルブリルセルロースな
どのセルロースエステル、エチルセルロース、メチルセ
ルロース、ベンジルセルロース及びアルボキシメチルセ
ルロースなどのセルロースエーテルか挙げられる。

アクリル樹脂としては、例えばアクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸
エチル、アクリロニトリル、アクリルアミド及びこれら
の誘導体の単独重合体ならびに前記各種アクリル糸上ツ
マ−と酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレンもしくは無水
マレイン酸などとの共重合体が挙げられる。

フッ素樹脂としては、例えば四フッ化エチレン樹脂、四
フッ化エチレン・六フッ化プロピレンン共ｆｆｉ　合１
４　Ｉｌｌ　、四フッ化エチレン・パーフルオロアルコ
キシエチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、
四フッ化エチレン・エチレン共重合体、フッ化ビニリデ
ン樹脂及びフッ化ビニル樹脂などが挙げられる。

これらのフッ素樹脂は一種単独で使用してもよいし、二
種類以上を組み合わせて使用しても良い。

前記各種の樹脂は、樹脂の状態で添加してアンヂスティ
ッキング層の硬化体中に均一に含有させることもできる
し、さらに微粉末の形態で融着防止層に含有させること
もできる。

また、融着防止層は、さらに例えばフッ素樹脂粒子、金
属粉、シリカゲルなどの無機あるいは有機微粒子、界面
活性材、滑剤等を含有していても良い。

融着防止層には、前記の成分の他にワックス頚、界面活
性剤、高級脂肪酸誘導体、高級脂肪族アルコール、高級
脂肪族エーテル及びリン酸エステルなどの添加物を含ん
でいてもよい。

融着防止層を形成するための前記各成分の配合割合は、
適宜に決定することができる。

融着防止層は例えば溶媒を用いた塗布法を採用して熱転
写シートにおける最外層の表面に形成される。

融着防止層の膜厚は０．０１μｍ以上であれは良いので
あるが、実用上は０．０１３〜３０μｍである。

また、この発明では接着層を設けてもよく、この接着層
としては、例えは鯨ロウ、ミツロウ、ラノリン、アルナ
ハワックス、キャンデリラワックス・、モンタンワック
スなどの天然ワックス、パラフィンワックス、マイクロ
タリンワックス、酸化ワックス、エステルワックス、低
分子量ポリエチレンなどの合成ワックス、ラウリン酸、
ミリスチン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、フロメン
酸、ベヘニン酸などの高級脂肪酸、ステアリルアクコー
ル、ベヘニルアルコールなどの高級アルコール、ソルビ
タンの脂肪酸エステルなどのエステル類、ステアリンア
ミド、オレインアミドなどのアミド類、ポリアミド系樹
脂、・ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、セル
ロース系樹脂、ポリビニール系樹脂、石油系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体樹脂、フェノール系樹脂、ス
チレン系樹脂、天然ゴム、スチレンブタジェンゴム、イ
ンブレンゴム、クロロプレンゴムなどのエラストマー類
、ロジン及びその誘導体、テルペン樹脂、水添石油樹脂
などのタッキファイヤ−充填剤、可塑剤、酸化防止剤な
どの単独又は混合されたものか用いられる。従来の感熱
転写シールの場合と同様に加熱手段がサーマルヘッドに
よる短時間の加熱であるため、融点の低いもの（通常７
０〜１００℃程度）か要求される。接着層の厚さは被転
写体の表面状態などにより適宜選択決定されるものであ
るか、通常は１〜１０μｍ程度の範囲から選はれる。

［作用］ この請求項１乃至４記載の発明では、熱転写システムを
用いて、簡単に画像形成用マスク材を作成することがて
きる。しかも、この画像形成用マスク材の作成において
、熱転写シートの光不透過性層に光反射層を有すること
て、画質を損ねることなく効果的に光透過を阻止てき、
画像形成用マスク材の印字性か向上する。

［実施例コ 以下、実施例をあげてこの発明を説明する。

実施例１ 光透過性支持体として、１００μｍ厚の市販ＰＥＴヘー
スを用い、これを受容体であるマスク材原版とした。

また、６μｍＰＥＴヘースを用い、これを支持体として
、その片面に下記組成の融着防止層を０２μｍの厚さに
塗布し、さらにもう一方の面に下記組成の中間層を０５
μｍの厚さにホットメルトによりコーティングする。

（融着防止層組成） シリコン変性−アクリル樹脂　１００部（中間層組成） パラフィンワックス　９７部 エヂレンー酢ビ共重合体　３部 さらに、この中間層上に下記組成の光反射層を１μｍの
厚さに設りた。

（光反射層組成） Ａｎ粉　３０部 ロジン樹脂系タッキファイア−３５部 エチレン−酢ビ共重合体　５部 パラフィンワックス　３０部 以上のようにして作成したマスク材原版と、熱転写シー
トとを重ね融着防止層側より加熱印字するようにした。

この時の印字条件は下記のとおりである。

（印字条件） ２６０ｍｍ巾のラインサーマルヘッド搭載サーマルプリ
ンターを用い、印字エネルギー２５ｍＪ／　ｍ　ｍ’、
ヘット押圧７Ｋｇ／ヘットである。

印字後、熱転写シートとマスク材原版を！？１ＪＩＩ！
（ｌすると、各々にネガ画像、ポジ画像のマスク材が形
成された。

実施例２ 実施例１におりる光反射層のかわりに、真空蒸着により
１００ＯＡのＡｎ蒸着層を設け、光反射層とし、最後に
、下記組成の接着層を設けたり外は全く同様にしてサン
プルを作成評価を行なった。

（接着層組成） フェノール樹脂系タッキファイア　８０部エヂレンー酢
ビ共重合体　１０部 パラフィンワックス　１０部　厚さ０５μｍ実施例３ 光透過性支持体として、１０．０μｍ市販ＰＵＴへ一ス
を用い、これをマスク材原版とした。

また、６μｍＰＥＴヘースの片面に下記組成の融着防止
層を０．２μｍ厚さに塗布し、さらにもう一方の面に下
記組成の中間層を０．５μｍの厚さにホットメルトによ
りコーティングする。

（融着防止層組成） シリコン−アクリル樹脂　１００部 （中間層組成） パラフィンワックス　９７部 エチレン−酢ビ共重合体　３部 さらに、この中間層上に真空蒸着により１０００ＡのＡ
ｎの蒸着層を設け、光反射層とする。最後に、１μｍの
厚さに下記組成の不透含有光不透過性層を塗工し、これ
を熱転写シートとした。

（不透含有光不透過性層） カーボンブラック　５０部 フェノール系タッキファイア　４５部 エチレン−酢ビ共重合体　５部 以上のようにして作成したマスク材原版と、熱転写シー
トとを重ね融着防止層側より加熱印字するようにした。

この時の印字条件は前記のとおりである。その後、熱転
写シートとマスク材原版を剥離すると、各々ネガ画像、
ポジ画像が作成された。

実施例４ 実施例３において、熱転写シートの不透含有光不透過性
層と、光反射層の積層順序を入れ換え、さらに光反射層
上へ下記組成の接着層を設けた以外は全く同様にしてサ
ンプルを作成評価を行なった。

（接着層組成） フェノール系タッキファイア　９５部 エチレン−酢ビ共重合体　５部 厚さ０５μｍ 比較例１ 実施例４より、光反射層を除いた以外は全く同様にして
サンプルを作成評価を行なった。

比較例２ 実施例１〜４で得られたマスク材の光不透過性層の光透
過濃度にあわせるよう色材含有光不透過付層の厚さを２
．５μｍにした以外は全く同様にしてサンプルを作成評
価した。

実施例５．６ 実施例３．４において、光透過性支持体を７５μｍ厚さ
の市販ポリカポネートフィルムに換え、光反射層をＮｉ
、蒸着層厚さ１００ＯＡにした以外は全く同様にしてマ
スク材を得た。

前記各実施例及び比較例について、その印字品質と光不
透過性層の光透過濃度を表−１に示す。

表−１ なお、マスクの印字品質の評価は目視によって行ない、
光不透過性層の光透過濃度はコニカ株式会社製ＰＡ−６
５濃度計を用いて測定した。

印画紙上の印字品質は、作成したマスクを用い、市販カ
ラー印画紙に文字を焼きつけ、現像処理を行なったもの
を、目視で評価した。

［発明の効果コ 前記したように、請求項１乃至４記載の発明では、熱転
写システムを用いて、簡単に画像形成用マスク材を作成
することができ、しかもこの画像形成用マスク材の作成
において、熱転写シードの光不透過性層に光反射層を有
することで、画質を損ねることなく効果的に光透過を阻
止でき、画像形成用マスク材の印字性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（Ｃ）は画像形成用マスク材を作成する
一例を示す概略図、第２図（ａ）〜（Ｃ）は画像形成用
マスク材を作成する他の例を示す概略図、第２図（ｄ）
〜（ｆ）はマスクを用いた露光を説明する図、第３図（
ａ）〜＜ｃ＞は画像形成用マスク材を作成するさらに他
の例を示す概略図である。 図中符号１は熱転写シート、２は受容体、３は加熱印字
手段、１１は光不透過性層、ｌｌａは光反射層、１１ｂ
は不透含有光不透過性層である。 第 （Ｃ） 役客任２ 図 ［ （Ｃ） 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも光不透過性層を有する熱転写シートと、
   受容体とを重ね合わせ、前記熱転写シートの背面より加
   熱印字した後に、この熱転写シートを剥離して画像形成
   用マスク材を作成する方法において、前記光不透過性層
   が光反射層であることを特徴とする熱転写シート。 ２、前記光反射層が金属蒸着層からなることを特徴とす
   る請求項１項記載の熱転写シート。 ３、少なくとも光不透過性層を有する熱転写シートと、
   受容体とを重ね合わせ、前記熱転写シートの背面より加
   熱印字した後に、この熱転写シートを剥離して画像形成
   用マスク材を作成する方法において、前記光不透過性層
   が光反射層及び色材含有光不透過性層からなることを特
   徴とする熱転写シート。 ４、前記熱転写シートが少なくとも支持体上に、光反射
   層、色材含有光不透過性層の順に積層されていることを
   特徴とする請求項３記載の熱転写シート。