JPH04113357A - 画像形成用マスク材作成方法 - Google Patents
画像形成用マスク材作成方法Info
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、熱転写システムを用いて画像形成用マスク
材を作成する画像形成用マスク材作成方法に関するもの
である。
材を作成する画像形成用マスク材作成方法に関するもの
である。
[従来の技術]
写真プリントには、例えば印画紙にネガフィルムから画
像を焼付けると共に、画像形成用マスク材でイラスト画
像等を焼付りるものがある。
像を焼付けると共に、画像形成用マスク材でイラスト画
像等を焼付りるものがある。
このような写真プリントにおいて画像に混在させるため
には、予め画像形成用マスク材を作成する必要があり、
この画像形成用マスク材は通常電算写植等によって作成
される。
には、予め画像形成用マスク材を作成する必要があり、
この画像形成用マスク材は通常電算写植等によって作成
される。
[発明が解決しようとする課題]
このように、予め電算写植法等で、画像形成用マスク材
を作成するものでは、写真プロセスを利用しているため
、作成に特別な装置が必要であり、手間もかかる。
を作成するものでは、写真プロセスを利用しているため
、作成に特別な装置が必要であり、手間もかかる。
また、画像形成用マスク材の作成法としては、例えは一
般的なプリンタでの印字も考えられるが、一般的なプリ
ンタとして電子写真方式のプリンタではトナーを使うた
めに、トナー飛散による文字のボケか生し、良好な印字
が得られない不具合かある。
般的なプリンタでの印字も考えられるが、一般的なプリ
ンタとして電子写真方式のプリンタではトナーを使うた
めに、トナー飛散による文字のボケか生し、良好な印字
が得られない不具合かある。
また、インパクトプリンタはポジ画像は作成できるか、
ネガ画像が作れない。
ネガ画像が作れない。
さらに、インクジェットプリンタのインクは、印字濃度
か薄いため、マスキング手段として有効てない。
か薄いため、マスキング手段として有効てない。
この発明はかかる点に鑑みなされたもので、画像形成用
マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用せずに、熱
転写システムを用いて簡単に作成することができ、しか
も高画質化 高コントラストで印字性が向上する画像形
成用マスク材を作成する画像形成用マスク材作成方法を
提(j4することを目的としている。
マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用せずに、熱
転写システムを用いて簡単に作成することができ、しか
も高画質化 高コントラストで印字性が向上する画像形
成用マスク材を作成する画像形成用マスク材作成方法を
提(j4することを目的としている。
[課題を解決するだめの手段コ
前記課題を解決するため、請求項1記載の発明の画像形
成用マスク材作成方法は、光透過性支持体上に少なくと
も光不透過性層を有する画像形成用マスク材原版の光不
透過性層側と、受容シートとを重ね合わせ、この受容シ
ート背面より加熱印字した後、この受容シートを剥離す
ることを特徴としている。
成用マスク材作成方法は、光透過性支持体上に少なくと
も光不透過性層を有する画像形成用マスク材原版の光不
透過性層側と、受容シートとを重ね合わせ、この受容シ
ート背面より加熱印字した後、この受容シートを剥離す
ることを特徴としている。
また、請求項2記載の発明は、前記画像形成用マスク材
原版か、光透過性支持体最近接に中間層を有することを
特徴としている。
原版か、光透過性支持体最近接に中間層を有することを
特徴としている。
また、請求項3記載の発明は、前記画像形成用マスク材
原版が、少なくとも光反射層を有することを特徴として
いる。
原版が、少なくとも光反射層を有することを特徴として
いる。
また、請求項4記載の発明は、前記画像形成用マスク材
原版が、光透過性支持体最遠隔に接着層を有することを
特徴としている。
原版が、光透過性支持体最遠隔に接着層を有することを
特徴としている。
また、請求項5記載の発明は、前記画像形成用マスク材
原版が、光透過性支持体最遠隔に粘着層を有することを
特徴としている。
原版が、光透過性支持体最遠隔に粘着層を有することを
特徴としている。
また、請求項6記載の発明は、前記受容シートか、少な
くとも接着層を有することを特徴としている。
くとも接着層を有することを特徴としている。
また、請求項7記載の発明は、前記受容シートか、少な
くとも粘着層を有することを特徴としている。
くとも粘着層を有することを特徴としている。
また、請求項8記載の発明は、前記画像形成用マスク材
原版及び前記受容シートの相対する層か、同一物質を主
成分とすることを特徴としている。
原版及び前記受容シートの相対する層か、同一物質を主
成分とすることを特徴としている。
この発明では第1図(a)、(b)に示すように、画イ
ヤ形成用マスク材原版1は、光透過性支持体2上に少な
くとも光不透過性層3を有するものからなる。−この画
像形成用マスク材原版1の光不透過性層3側と、受容シ
ート4とを重ね合わせ、この受容シート4背面より加熱
印字手段5て加熱印字する。この加熱印字した後、受容
シート4を剥離すると、加熱されない部分3aの光不透
過性層3が受容シート4に転写され、画像形成用マスク
材原版1からネガ画像の画像形成用マスク材か作成され
る。
ヤ形成用マスク材原版1は、光透過性支持体2上に少な
くとも光不透過性層3を有するものからなる。−この画
像形成用マスク材原版1の光不透過性層3側と、受容シ
ート4とを重ね合わせ、この受容シート4背面より加熱
印字手段5て加熱印字する。この加熱印字した後、受容
シート4を剥離すると、加熱されない部分3aの光不透
過性層3が受容シート4に転写され、画像形成用マスク
材原版1からネガ画像の画像形成用マスク材か作成され
る。
第2図(a)、(b)では、画像形成用マスク材原版1
及び受容シー1−4が第1図(a)(b)のものと同様
に構成されているか、加熱印字手段5て加熱印字した後
、受容シート4を7]」離すると、加熱した部分3bの
光不透過性層3か受容シート4に転写され、画像形成用
マスク材原版1からネガ画像の画像形成用マスク材が作
成される。また、画像形成用マスク材原版1及び受容シ
ート4は、必要に応して第3図(a)、(+))に示す
ように構成することかてぎる。
及び受容シー1−4が第1図(a)(b)のものと同様
に構成されているか、加熱印字手段5て加熱印字した後
、受容シート4を7]」離すると、加熱した部分3bの
光不透過性層3か受容シート4に転写され、画像形成用
マスク材原版1からネガ画像の画像形成用マスク材が作
成される。また、画像形成用マスク材原版1及び受容シ
ート4は、必要に応して第3図(a)、(+))に示す
ように構成することかてぎる。
受容シート4は、支持体40の一方の面に融着防止層4
1を設4−1、他方の面に接着層または粘着層42を設
ける。
1を設4−1、他方の面に接着層または粘着層42を設
ける。
また、画像形成用マスク材原版1は、光透過性支持体2
上に中間層20、光不透過性層3、接着層または粘着層
21が順に積層されている。光不透過性層3は光反射層
で構成することができる。
上に中間層20、光不透過性層3、接着層または粘着層
21が順に積層されている。光不透過性層3は光反射層
で構成することができる。
受容シート4は前記のように、加熱印字により光不透過
性層3を画像形成用マスク材原版1より像様に転写させ
た後廃棄する。
性層3を画像形成用マスク材原版1より像様に転写させ
た後廃棄する。
また、画像形成用マスク材原版及び前記受容シートは、
第4図(a)、(b)に示すように、相対する層を同一
物質を主成分とすることができる。例えば、画像形成用
マスク材原版1の光不透過層3上に接着層50を設け、
受容シート4に同様に構成された接着層60を設ける。
第4図(a)、(b)に示すように、相対する層を同一
物質を主成分とすることができる。例えば、画像形成用
マスク材原版1の光不透過層3上に接着層50を設け、
受容シート4に同様に構成された接着層60を設ける。
また、画像形成用マスク材原版1及び受容シト4は、必
要に応じて第5図(a)、(b)に示すように構成する
ことができる。
要に応じて第5図(a)、(b)に示すように構成する
ことができる。
受容シート4は、支持体4oの一方の面に融着防止層4
1を設け、他方の面に接着層5oを設けまた、画像形成
用マスク材原版1は、光透過性支持体2上に中間層20
、光不透過性層3、接着層60が順に積層され、この光
不透過性層3は光反射層で構成することかできる。また
、画像形成用マスク材原版1の接着層60に変えて粘着
層を設けることかでき、この場合には受容シート4の接
着層50に変えて粘着層を設ける。
1を設け、他方の面に接着層5oを設けまた、画像形成
用マスク材原版1は、光透過性支持体2上に中間層20
、光不透過性層3、接着層60が順に積層され、この光
不透過性層3は光反射層で構成することかできる。また
、画像形成用マスク材原版1の接着層60に変えて粘着
層を設けることかでき、この場合には受容シート4の接
着層50に変えて粘着層を設ける。
このように、画像形成用マスク材原版1及び受容シート
4の相対する層が、同一物質を主成分とすることで、加
熱印字により光不透過性層3を画像形成用マスク材原版
1より像様に転写させるとぎ、画像形成用マスク材原版
1及び受容シート4の相対する層同士の接着力が向上し
、光不透過性層3の転写が確実になる。
4の相対する層が、同一物質を主成分とすることで、加
熱印字により光不透過性層3を画像形成用マスク材原版
1より像様に転写させるとぎ、画像形成用マスク材原版
1及び受容シート4の相対する層同士の接着力が向上し
、光不透過性層3の転写が確実になる。
この画像形成用マスク材作成方法において、熱転写シー
トと受容体との重ね合わせは、常に重ねあわされた状態
で加熱印字する場合、或いは加熱印字される際に一時的
に重ね合わされる状態も含む。
トと受容体との重ね合わせは、常に重ねあわされた状態
で加熱印字する場合、或いは加熱印字される際に一時的
に重ね合わされる状態も含む。
また、画像形成用マスク材原版には光不透過性層が設け
られており、この光不透過性の定義は、マスクフィルム
を利用するシステムにおける光源光に対して透過率が低
いことを意味している。光透過濃度では光源光量との関
係もあり、いちがいに限定されないが、通常1.5好ま
しくは2.0以上が良い。
られており、この光不透過性の定義は、マスクフィルム
を利用するシステムにおける光源光に対して透過率が低
いことを意味している。光透過濃度では光源光量との関
係もあり、いちがいに限定されないが、通常1.5好ま
しくは2.0以上が良い。
また、画像形成用マスク材原版には光透過性支持体が設
けられており、光透過性についても同様に光源光に対す
る透過率が高いことを意味する。
けられており、光透過性についても同様に光源光に対す
る透過率が高いことを意味する。
光透過率ではやはり光源光量とも関係があり、いちがい
に限定されないが、通常80%好ましくは90%以上の
透過率が好ましい。
に限定されないが、通常80%好ましくは90%以上の
透過率が好ましい。
さらに、画像形成用マスク材原版及び受容シートの相対
する層は、同一物質を主成分とするが、この主成分の定
義は、層組成において、色材を除いた部分重量比率で2
0%以上、好ましくは40%以上を占めるものを主成分
とする。
する層は、同一物質を主成分とするが、この主成分の定
義は、層組成において、色材を除いた部分重量比率で2
0%以上、好ましくは40%以上を占めるものを主成分
とする。
また、この画像形成用マスク材作成方法においては、通
常の熱転写方式と異なり、加熱印字時の接着力が求めら
れている。
常の熱転写方式と異なり、加熱印字時の接着力が求めら
れている。
この理由は、通常の感熱転写システムでは、第6図に示
すように、熱転写シート1′00の支持体101側に歪
みが生じ、光不透過性層102の揃断が容易で、記録体
200に光不透過性層102の加熱部102aが転写さ
れる。
すように、熱転写シート1′00の支持体101側に歪
みが生じ、光不透過性層102の揃断が容易で、記録体
200に光不透過性層102の加熱部102aが転写さ
れる。
これに対して、この発明では第7図に示すように、受容
シート4の歪みが光不透過性層3にはおよばず光不透過
性層3の揃断は加熱による受容シート4と光不透過性層
3の接着力にのみ依存する。従って、接着力が十分でな
いと、第7図のように光不透過性層3が切れず、従って
受容シート4側へ転写しないカケ部分が生しる。
シート4の歪みが光不透過性層3にはおよばず光不透過
性層3の揃断は加熱による受容シート4と光不透過性層
3の接着力にのみ依存する。従って、接着力が十分でな
いと、第7図のように光不透過性層3が切れず、従って
受容シート4側へ転写しないカケ部分が生しる。
この発明において、画像形成用マスク材原版及び受容シ
ートの支持体としては、良好な耐熱強度を有するととも
に寸法安定性の高いことか望ましい。
ートの支持体としては、良好な耐熱強度を有するととも
に寸法安定性の高いことか望ましい。
その材料としては、例えは普通紙、コンデンサー紙、ラ
ミネート紙及びコート紙等の紙類、ポリエチレン、ポリ
プロピレン及びポリイミド等のオΔj脂フィルム類2紙
と樹脂フィルムとの複合体ならびにアルミ箔等の金属シ
ートなどを挙げることができる。
ミネート紙及びコート紙等の紙類、ポリエチレン、ポリ
プロピレン及びポリイミド等のオΔj脂フィルム類2紙
と樹脂フィルムとの複合体ならびにアルミ箔等の金属シ
ートなどを挙げることができる。
支持体の厚みは、通常30μm以下、好ましくは2〜3
0μmの範囲内である。支持体の厚みが30μmを超え
ると、熱伝導性か劣化して印字品質の低下を招くことが
ある。
0μmの範囲内である。支持体の厚みが30μmを超え
ると、熱伝導性か劣化して印字品質の低下を招くことが
ある。
また、画像形成用マスク材原版及び受容シートには粘着
層、接着層が設けられ、この粘着層としては、例えば鯨
ロウ、ミツロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャン
デリラワックス、モンタンワックスなどの天然ワックス
、パラフィンワックス、マイクロクリンワックス、酸化
ワックス、エステルワックス、低分子量ポリエチレンな
どの合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミ
チン酸、ステアリン酸、フロメン酸、へヘニン酸などの
高級脂肪酸、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコー
ルなどの高級アルコール、ソルビタンのI]i 肪酸エ
ステルなとのエステル類、ステアリンアミド、オレイン
アミドなとのアミド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステ
ル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アク
リル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポ
リビニル系樹脂、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体樹脂、フェノール系樹脂、スヂレン系樹脂、天然
コム、スチレンブタジェンゴム、イソプレンゴム、クロ
ロブレンゴムなどのエラストマー類、ロジン及びその誂
導体、テルペン樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイ
ヤ−充填剤、可塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合さ
れたものか用いられる。従来の感熱転写シールの場合と
同様に加熱手段かサーマルヘッドによる短時間の加熱で
あるため、融点の低いもの(通常70〜100を程度)
が要求される。粘着層の厚さは被転写体の表面状態など
により適宜選択決定されるものであるが、通常は01〜
10μm程度の範囲から選ばれる。
層、接着層が設けられ、この粘着層としては、例えば鯨
ロウ、ミツロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャン
デリラワックス、モンタンワックスなどの天然ワックス
、パラフィンワックス、マイクロクリンワックス、酸化
ワックス、エステルワックス、低分子量ポリエチレンな
どの合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミ
チン酸、ステアリン酸、フロメン酸、へヘニン酸などの
高級脂肪酸、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコー
ルなどの高級アルコール、ソルビタンのI]i 肪酸エ
ステルなとのエステル類、ステアリンアミド、オレイン
アミドなとのアミド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステ
ル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アク
リル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポ
リビニル系樹脂、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体樹脂、フェノール系樹脂、スヂレン系樹脂、天然
コム、スチレンブタジェンゴム、イソプレンゴム、クロ
ロブレンゴムなどのエラストマー類、ロジン及びその誂
導体、テルペン樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイ
ヤ−充填剤、可塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合さ
れたものか用いられる。従来の感熱転写シールの場合と
同様に加熱手段かサーマルヘッドによる短時間の加熱で
あるため、融点の低いもの(通常70〜100を程度)
が要求される。粘着層の厚さは被転写体の表面状態など
により適宜選択決定されるものであるが、通常は01〜
10μm程度の範囲から選ばれる。
また、接着層としては、前記粘着層組成に、さらに熱軟
化性樹脂、或いは熱溶融性物質を組みあわせて47ζ成
される。接着層の厚さは、通常は01〜10μm程度の
範囲から選ばれる。
化性樹脂、或いは熱溶融性物質を組みあわせて47ζ成
される。接着層の厚さは、通常は01〜10μm程度の
範囲から選ばれる。
また、この発明ては受容シートには溶融防止層を設りる
ことかてぎ、融着防止層を設けておくと、例えばサーマ
ルヘッドにより熱を印加する場合サーマルヘッドに熱硬
化性物質の付着を防止することかてぎる。
ことかてぎ、融着防止層を設けておくと、例えばサーマ
ルヘッドにより熱を印加する場合サーマルヘッドに熱硬
化性物質の付着を防止することかてぎる。
融着防止層はブロッキング現象あるいはスティッキング
現象を防止する層である。
現象を防止する層である。
この融着防止層としては前記スティッキング現象を防止
することのできるそれ自体公知の組成物て形成すること
かでき、例えは(A)シリコン樹脂系オδ」脂と(B)
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース系樹脂
、アクリル樹脂及びフッ素樹脂よりなる群から選択させ
る少なくとも一種の樹脂とさらに要ずれは(C)ポリイ
ソシアネート化合物とを含む樹脂組成物により形成する
ことが望ましい。
することのできるそれ自体公知の組成物て形成すること
かでき、例えは(A)シリコン樹脂系オδ」脂と(B)
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース系樹脂
、アクリル樹脂及びフッ素樹脂よりなる群から選択させ
る少なくとも一種の樹脂とさらに要ずれは(C)ポリイ
ソシアネート化合物とを含む樹脂組成物により形成する
ことが望ましい。
前記シリコン系樹脂としては例えは次式%式%
[たたし式中Rは有機基を示しkは1以上の整数を示す
。] て表ねされるオルガノポリシロキサン、変性ポリシロキ
サン樹脂、シリコン変性アクリル樹脂、シリコン変性ウ
レタン樹脂、シリコン変性ウレア樹脂、シリコン変性エ
ポキシ樹脂などのシリコン変性樹脂を好適に使用するこ
とがてきる。これらのシリコン変性樹脂は、例えはアク
リル樹脂、ウレタンオΔ]脂、ウレア樹脂、エポキシ樹
脂などをポリシロキサンにより変性したものである。
。] て表ねされるオルガノポリシロキサン、変性ポリシロキ
サン樹脂、シリコン変性アクリル樹脂、シリコン変性ウ
レタン樹脂、シリコン変性ウレア樹脂、シリコン変性エ
ポキシ樹脂などのシリコン変性樹脂を好適に使用するこ
とがてきる。これらのシリコン変性樹脂は、例えはアク
リル樹脂、ウレタンオΔ]脂、ウレア樹脂、エポキシ樹
脂などをポリシロキサンにより変性したものである。
前記各種のシリコン変性樹脂において、シリコン部分の
含有率は、通常1〜90重量%の範囲内であり好ましく
は、5〜50重量%の範囲内であるのが好ましい。
含有率は、通常1〜90重量%の範囲内であり好ましく
は、5〜50重量%の範囲内であるのが好ましい。
これらのシリコン系樹脂は一種単独で用いても良いし二
種以上を組合わせて用いても良い。
種以上を組合わせて用いても良い。
前記各種のシリコン系樹脂の中ても好ましいのは、前記
の各種シリコン変性樹脂である。
の各種シリコン変性樹脂である。
前記シリコン系樹脂は、架橋剤により硬化させるのが好
ましい。
ましい。
なお、架橋剤としては特に制限がなく、例えはイソシア
ナート類、アジリジン類、エポキシ類などが挙げられる
。
ナート類、アジリジン類、エポキシ類などが挙げられる
。
融着防止層におけるシリコン系樹脂の含有率は、通常1
〜100重量%の範囲内であり、好ましくは10〜80
重量%の範囲内である。
〜100重量%の範囲内であり、好ましくは10〜80
重量%の範囲内である。
シリコン系樹脂は樹脂の状態で添加して剥離層の硬化体
中に均一に含有させることもできるし、さらに微粉末の
形態で剥離層に含有させることもできる。
中に均一に含有させることもできるし、さらに微粉末の
形態で剥離層に含有させることもできる。
ポリエステル樹脂としては、一般に熱可塑性ポリエステ
ルと称されているものであれば特に制限かない。
ルと称されているものであれば特に制限かない。
ポリアミド樹脂としては、特に制限がなく、例えばナイ
ロン6、ナイロン8、ナイロン11、ナイロン66及び
ナイロン610などが挙げられる。その他に、共重合体
も使用することができ前記セルロース系樹脂としては、
例えばアセチルセルロース、ニトロセルロース、アセリ
ルブリルセルロースなどのセルロースエステル、エチル
セルロース、メチルセルロース、ベンジルセルロース及
びアルボキシメチルセルロースなどのセルロースエーテ
ルが挙げられる。
ロン6、ナイロン8、ナイロン11、ナイロン66及び
ナイロン610などが挙げられる。その他に、共重合体
も使用することができ前記セルロース系樹脂としては、
例えばアセチルセルロース、ニトロセルロース、アセリ
ルブリルセルロースなどのセルロースエステル、エチル
セルロース、メチルセルロース、ベンジルセルロース及
びアルボキシメチルセルロースなどのセルロースエーテ
ルが挙げられる。
アクリル樹脂としては、例えばアクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸
エチル、アクリロニトリル、アクリルアミド及びこれら
の誘導体の単独重合体ならびに前記各種アクリル系モノ
マーと酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレンもしくは無水
マレイン酸などとの共重合体が挙げられる。
リル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸
エチル、アクリロニトリル、アクリルアミド及びこれら
の誘導体の単独重合体ならびに前記各種アクリル系モノ
マーと酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレンもしくは無水
マレイン酸などとの共重合体が挙げられる。
フッ素樹脂としては、例えば四フッ化エチレン樹脂、四
フッ化エチレン・六フッ化プロピレンン共重合樹脂、四
フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重
合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン
・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン樹脂及びフッ化
ビニル樹脂などが挙げられる。
フッ化エチレン・六フッ化プロピレンン共重合樹脂、四
フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重
合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン
・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン樹脂及びフッ化
ビニル樹脂などが挙げられる。
これらのフッ素樹脂は一種単独で使用してもよいし、二
種類以上を組み合わせて使用しても良い。
種類以上を組み合わせて使用しても良い。
前記各種の樹脂は、樹脂の状態で添加してアンチスティ
ッキング層の硬化体中に均一に含有させることもできる
し、さらに微粉末の形態で融着防止層に含有させること
もできる。
ッキング層の硬化体中に均一に含有させることもできる
し、さらに微粉末の形態で融着防止層に含有させること
もできる。
また、融着防止層は、さらに例えばフッ素樹脂粒子、金
属粉、シリカゲルなどの無機あるいは有機微粒子、界面
活性材、滑剤等を含有していても良い。
属粉、シリカゲルなどの無機あるいは有機微粒子、界面
活性材、滑剤等を含有していても良い。
融着防止層には、前記の成分の他にワックス類、界面活
性剤、高級脂肪酸誘導体、高級脂肪族アルコール、高級
脂肪族エーテル及びリン酸エステルなどの添加物を含ん
でいてもよい。
性剤、高級脂肪酸誘導体、高級脂肪族アルコール、高級
脂肪族エーテル及びリン酸エステルなどの添加物を含ん
でいてもよい。
融着防止層を形成するための前記各成分の配合割合は、
適宜に決定することができる。
適宜に決定することができる。
融着防止層は例えば溶媒を用いた塗布法を採用して熱転
写シートにおける最外層の表面に形成される。
写シートにおける最外層の表面に形成される。
融着防止層の膜厚は0.01μm以上であれば良いので
あるが、実用上は0,03〜30μmである。
あるが、実用上は0,03〜30μmである。
また、画像形成用マスク材原版の光不透過性層としては
、色材、熱軟化性樹脂、熱溶融物質を適宜組みあわせて
構成することができ、また光反射層としても良い。
、色材、熱軟化性樹脂、熱溶融物質を適宜組みあわせて
構成することができ、また光反射層としても良い。
また、この光反射層として、A1などの金属蒸着B’A
Af1.Niなどの金属粉を熱硬化性樹脂、熱溶融性物
質中へ分散させたものなどで形成される。
Af1.Niなどの金属粉を熱硬化性樹脂、熱溶融性物
質中へ分散させたものなどで形成される。
金属蒸着層としては、公知の真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレイティング法などの通常の金属(合金
も含む以下同様)の薄膜形成方法により、例えは亜鉛、
アルミニウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル、
銀、金、銅、珪素、クロム、チタン、白金、パラジウム
σどの蒸着が可能な単体または混合物あるいは合金など
が厚さ10〜200nm程度に蒸着形成される。厚さが
10部m以下の場合には、紫外線遮断性が十分てなく、
金属蒸着層を設けた価値が無く、また200部m程度以
上に形成しても、紫外線遮断性に変化がなく経済的でな
い。なお、金属蒸着層は一層とせず複数層としても良く
、その場合には層毎に金属の種類をかえてもよい。
グ法、イオンプレイティング法などの通常の金属(合金
も含む以下同様)の薄膜形成方法により、例えは亜鉛、
アルミニウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル、
銀、金、銅、珪素、クロム、チタン、白金、パラジウム
σどの蒸着が可能な単体または混合物あるいは合金など
が厚さ10〜200nm程度に蒸着形成される。厚さが
10部m以下の場合には、紫外線遮断性が十分てなく、
金属蒸着層を設けた価値が無く、また200部m程度以
上に形成しても、紫外線遮断性に変化がなく経済的でな
い。なお、金属蒸着層は一層とせず複数層としても良く
、その場合には層毎に金属の種類をかえてもよい。
また、色材含有光不透過性層としての色材としては、無
機及び有機の顔料ならびに染料を挙げることかできる。
機及び有機の顔料ならびに染料を挙げることかできる。
上記無機顔料としては、二酸化チタン、カーボンブラ・
ツタ、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、
酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのク
ロム酸塩などが挙げられる。
ツタ、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、
酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのク
ロム酸塩などが挙げられる。
上記有機顔料としては、アゾ系、チオインジゴ系、アン
トラキノン系、アントアンスロン系、トリフエンジオキ
サジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料
、例えは銅フタロシアニン及びその話導体ならびにキナ
クリドン顔料などが挙げられる。
トラキノン系、アントアンスロン系、トリフエンジオキ
サジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料
、例えは銅フタロシアニン及びその話導体ならびにキナ
クリドン顔料などが挙げられる。
前記染料としては、酸性染着、直接染料、分散染料、油
溶性染着、含金属油溶性染料などか挙げられる。
溶性染着、含金属油溶性染料などか挙げられる。
また、画像形成用マスク材原版の中間層としては、光透
過性支持体と光不透過性層間の接着強度を調整する目的
で設けられ、11部離時に光透過性支持体界面ではがれ
ても良いし、光透過性が損なわれないならば支持体側に
残っても良い。
過性支持体と光不透過性層間の接着強度を調整する目的
で設けられ、11部離時に光透過性支持体界面ではがれ
ても良いし、光透過性が損なわれないならば支持体側に
残っても良い。
[作用]
この請求項1乃至8記載の発明では、画像形成用マスク
材を手数のかかる写真ブーロセスを利用せずに、熱転写
システムを用いて簡A1に画像形成用マスク材を作成す
ることがてきる。しかも、この画像形成用マスク材の作
成において、画像形成用マスク材原版の光不透過性層が
受容シート側へ確実に剥離転写される。
材を手数のかかる写真ブーロセスを利用せずに、熱転写
システムを用いて簡A1に画像形成用マスク材を作成す
ることがてきる。しかも、この画像形成用マスク材の作
成において、画像形成用マスク材原版の光不透過性層が
受容シート側へ確実に剥離転写される。
[実施例]
却下、実施例をあげてこの発明を説明する。
実施例1
(画像形成用マスク材原版)
光透過性支持体として、100μmPETへスを用い、
下記組成の光不透過性層を2μm厚さにワイアーバーに
より塗工する。
下記組成の光不透過性層を2μm厚さにワイアーバーに
より塗工する。
(光不透過性層組成
カーボンブラック(水系) 450部
エチレン−アクリル酸共重合体 40部パラフィンワッ
クス 10部 (受容シート) 一方、15μm厚市販ポリエチレンフィルム上に、融着
防止層を下記の組成で設ける。厚さは、02μmとした
。
クス 10部 (受容シート) 一方、15μm厚市販ポリエチレンフィルム上に、融着
防止層を下記の組成で設ける。厚さは、02μmとした
。
(融着防止層組成)
シリコン−アクリル樹脂 100部
以上のようにして作成した受容シートと、画像形成用マ
スク材原版を重ねあわせ、16dot/mmのサーマル
ヘッドを搭載したワープロ改造機にて通常印字を行なフ
た。
スク材原版を重ねあわせ、16dot/mmのサーマル
ヘッドを搭載したワープロ改造機にて通常印字を行なフ
た。
印字条件は、下記のとおりとした。
(印字案件)
印加エネルギー 30 m J / m m’ヘット押
圧 7Kg/ヘッド 印字後、受容シートをもって剥離したところ、画像形成
用マスク原版側へ、ネガ様の画像形成用マスク材か得ら
れた。
圧 7Kg/ヘッド 印字後、受容シートをもって剥離したところ、画像形成
用マスク原版側へ、ネガ様の画像形成用マスク材か得ら
れた。
実施例2
光透過性支持体として、市販100μmPETヘースを
用い、その上に下記組成の中間層を2μm厚にワイアー
バーにて塗工する。
用い、その上に下記組成の中間層を2μm厚にワイアー
バーにて塗工する。
(中間層組成)
ポリエステル樹脂 100部
さらに、光不透過性層として、下記組成のものを2μm
厚にワイアーバーにて塗工する。
厚にワイアーバーにて塗工する。
(光不透過性層組成)
イエロー色素 50部
ポリビニルブチラール 50部
こうして得られた画像形成用マスク原版上へ、受容シー
トとして、下記組成のものを10μmJgに塗工する。
トとして、下記組成のものを10μmJgに塗工する。
(受容シート組成)
ポリビニルアルコール 100部
最後に、融着防止層として、実施例1と同様の組成物を
02μm厚にワイアーバーにて塗工した。
02μm厚にワイアーバーにて塗工した。
実施例1と同じ印字条件で反転印字したところ、加熱部
分は中間層と光不透過性層間で熱融着が生し、受容シー
トとしてポリビニルアルコール層をもって剥離したとこ
ろ、ネガ様の画像形成用マスク材が得られた。
分は中間層と光不透過性層間で熱融着が生し、受容シー
トとしてポリビニルアルコール層をもって剥離したとこ
ろ、ネガ様の画像形成用マスク材が得られた。
実施例3
実施例2において、中間層組成、光不透過性層組成、受
容シート組成を以上のように変えた以外は全く同様にし
て画像形成用マスク材を得た。
容シート組成を以上のように変えた以外は全く同様にし
て画像形成用マスク材を得た。
(中間層組成)
エチレン−酢ビ共重合体 100部
(光不透過性層組成)
カーボンブラック 30部
ポリアクリル酸樹脂 70部
(受容シート組成)
ポリビニルアセタール樹脂 100部
実施例4
(画像形成用マスク材原版)
光透過性支持体として、市販100μmPETベースを
用い、下記の組成の中間層、光不透過性層を各々2μm
厚さに設け、画像形成用マスク材原版とした。
用い、下記の組成の中間層、光不透過性層を各々2μm
厚さに設け、画像形成用マスク材原版とした。
(中間層組成)
パラフィンワックス 97部
エチレン−酢ビ共重合体 3部
(光不透過性層組成)
カーボンブラック 50部
フェノール樹脂系タッキファイア−45部エチレン−酢
ビ共重合体 5部 (受容シート) 一方、市販4.5μmPETベースを支持体とし、一方
の面に実施例1と同じ組成厚さの融着防止層を設け、も
う一方の面に下記の組成の接着層を設けた厚さ2μmに
設ける。
ビ共重合体 5部 (受容シート) 一方、市販4.5μmPETベースを支持体とし、一方
の面に実施例1と同じ組成厚さの融着防止層を設け、も
う一方の面に下記の組成の接着層を設けた厚さ2μmに
設ける。
(接着層組成)
パラフィンワックス 50部
エチレン−酢ビ共重合体 50部
以上のようにして得られた画像形成用マスク材原版と、
受容シートを重ねて融着防止層側より実施例1と同様通
常印字を行なった。
受容シートを重ねて融着防止層側より実施例1と同様通
常印字を行なった。
印字後、受容シートを剥離すると、ネガ様の画像形成用
マスク材が得られた。
マスク材が得られた。
実施例5
画像形成用マスク材原版として、実施例4と、中間層組
成、光不透過性層組成を以下のように変えた以外は全く
同様にして用いた。
成、光不透過性層組成を以下のように変えた以外は全く
同様にして用いた。
(中間層組成)
アクリル樹脂 100部
(光不透過性層組成)
カーボンブラック 50部
エチレン−アクリル酸共重合体 50部実施例4におけ
る受容シートを用い、実施例1と同様通常印字を行なっ
た後、受容シートを剥離すると、ネガ様の画像形成用マ
スク材が得られた。
る受容シートを用い、実施例1と同様通常印字を行なっ
た後、受容シートを剥離すると、ネガ様の画像形成用マ
スク材が得られた。
実施例6
(マスク材原版)
実施例3と全く同様にして、画像形成用マスク材原版を
作成する。
作成する。
(受容シート)
市販ラベル紙用!U離紙上に、厚さ10μmに下記組成
支持体を塗工する。
支持体を塗工する。
(受容シート支持体組成)
ポリビニルアセタール樹脂 100部
さらに、その上に下記組成の粘着層を厚さ1μmに設け
る。
る。
(粘着層組成)
アクリルエマルジョン系弱粘着剤 100部以上のよう
にして得たものを、画像形成用マスク材原版と重ね剥離
紙を除去する。さらに、支持体外面へ実施例1と同様に
して融着防止層を設けると、画像形成用マスク材原版と
受容シートが一体化できる。
にして得たものを、画像形成用マスク材原版と重ね剥離
紙を除去する。さらに、支持体外面へ実施例1と同様に
して融着防止層を設けると、画像形成用マスク材原版と
受容シートが一体化できる。
このようにして得たものに対して、実施例2と同様に反
転印字を行なったところ、剥離後ネガ様の画像形成用マ
スク材が得られた。
転印字を行なったところ、剥離後ネガ様の画像形成用マ
スク材が得られた。
実施例7
(画像形成用マスク材原版)
光透過性支持体として、市販100μmPETヘースを
用い、下記組成の中間層、光透過性層、接着層を各々2
μm、1μm、1μmの厚さにワイアーバーにて塗工し
た。
用い、下記組成の中間層、光透過性層、接着層を各々2
μm、1μm、1μmの厚さにワイアーバーにて塗工し
た。
(中間層組成)
パラフィンワックス 97部
エヂレンー酢ビ共重合体 3部
(光不透過性層組成)
カーボンブラック 50部
エチレン−酢ビ共重合体 50部
(接着層組成)
フェノール樹脂タッキファイア 95部エチレン−酢ビ
共重合体 5部 (受容シート) 支持体として、市販6μmPETベーPE用い、一方の
面に実施例1と同様にして、融着防止層を、さらにもう
一方の面へ下記組成の接着層を設りた。
共重合体 5部 (受容シート) 支持体として、市販6μmPETベーPE用い、一方の
面に実施例1と同様にして、融着防止層を、さらにもう
一方の面へ下記組成の接着層を設りた。
(接着層組成)
エヂレンー酢ヒ共重合体 100部
このようにして得た画像形成用マスク原版と、受容シー
トを重ねあわせ、実施例1と同様に通常印字を行なった
後、受容シートを隔離したところネガ様の画像形成用マ
スク材が得られた。
トを重ねあわせ、実施例1と同様に通常印字を行なった
後、受容シートを隔離したところネガ様の画像形成用マ
スク材が得られた。
実施例8
実施例7において、光不透過性層と、中間層の間に、や
はり光不透過性層として、01μmのアルミニウム蒸着
層を設りた以外は全く同様にして、画像形成用マスク材
原版を作成した。この画像形成用マスク原版と、やはり
実施例7と同様にして得た受容シートを重ね、通常印字
を行なったところ、剥離後、ネガ様の画像形成用マスク
材か得られた。
はり光不透過性層として、01μmのアルミニウム蒸着
層を設りた以外は全く同様にして、画像形成用マスク材
原版を作成した。この画像形成用マスク原版と、やはり
実施例7と同様にして得た受容シートを重ね、通常印字
を行なったところ、剥離後、ネガ様の画像形成用マスク
材か得られた。
実施例9
(画像形成用マスク材原版)
光透過性支持体として、100μmPETヘスを用い、
下記の組成の中間層、光不透過性層を各々2μm厚さに
ワイアーバーにて塗工する。
下記の組成の中間層、光不透過性層を各々2μm厚さに
ワイアーバーにて塗工する。
(中間層組成)
パラフィンワックス 97部
エチレン−酢ビ共重合体 3部
(光不透過性層組成)
カーボンブラック 40部
低分子量ポリエステル 30部
フェノール系タッキファイア 25部
エヂレンー酢ビ共重合体 5部
受容シートとして、6μmPETヘースを用い、一方の
面に下記組成の融着防止層を厚さ062μmに設りる。
面に下記組成の融着防止層を厚さ062μmに設りる。
(融着防止層組成)
シリコン−アクリル樹脂 100部
以上のようにして作成した受容シートと、画像形成用マ
スク材原版を重ねあわせ、ワープロ改造機にて通常印字
を行なった。
スク材原版を重ねあわせ、ワープロ改造機にて通常印字
を行なった。
(印字条件)
印字後、受容シートをもって剥離したところ、ネガ様の
画像形成用マスク材か得られた。
画像形成用マスク材か得られた。
実施例10
実施例9と同様にして、画像形成用マスク材原版を作成
する。受容シートとして、6μmPETヘースを用・い
、一方の面に実施例1と同様にして融着防止層を設け、
もう一方の面に下記組成の接着層を10μmの厚さに塗
工して設けたものを用いた。
する。受容シートとして、6μmPETヘースを用・い
、一方の面に実施例1と同様にして融着防止層を設け、
もう一方の面に下記組成の接着層を10μmの厚さに塗
工して設けたものを用いた。
(接着層組成)
低分子量ポリエステル 100部
このようにして得た画像形成用マスク材原版と、受容シ
ートを重ねあわせ、ワープロ改造機にて受容シートの融
着防止層側より加熱し通常の印字を行なった。
ートを重ねあわせ、ワープロ改造機にて受容シートの融
着防止層側より加熱し通常の印字を行なった。
さらに、受容シートを剥離したところ、カスレ、カケの
ないネガ様の画像形成用マスク材が得られた。
ないネガ様の画像形成用マスク材が得られた。
実施例11
(画像形成用マスク材原版)
光透過性支持体として、100μmPETベスを用い、
下記組成の中間層、光不透過性層を各々2μm、1μm
の厚さにワイアーバーにて塗工する。
下記組成の中間層、光不透過性層を各々2μm、1μm
の厚さにワイアーバーにて塗工する。
(中間層組成)
パラフィンワックス 97部
エチレン−酢ビ共重合体 3部
(光不透過性層組成)
カーボンブラック 50部
エチレン−酢ビ共重合体 50部
その上下に記組成の接着層を0.5μmの厚さに設ける
。
。
(接着層組成)
フェノール系タッキファイア 90部
エチレン−酢ビ共重合体 10部
(受容シート)
受容シートとしては、実施例9と同様にして融着防止層
を設けた6μmPETベースのもう一方の面に、下記組
成の接着層を2μmの厚さに塗工した。
を設けた6μmPETベースのもう一方の面に、下記組
成の接着層を2μmの厚さに塗工した。
(接着層組成)
フェノール系タッキファイア 90部
エチレン−酢ビ共重合体 10部
以上のようにして得た画像形成用マスク材原版と、受容
シートを重ねあわせ、ワープロ改造機にて、受容シート
の融着防止層側より加熱印字を行なった。受容シートを
剥離したところ、カケの少ない高品質なネガ様の画像形
成用マスク材が得られた。
シートを重ねあわせ、ワープロ改造機にて、受容シート
の融着防止層側より加熱印字を行なった。受容シートを
剥離したところ、カケの少ない高品質なネガ様の画像形
成用マスク材が得られた。
実施例12
(受容シート)
離型処理を行なった鏡面仕上げのステンレスベルト上に
、厚さ10μmに下記組成液を塗工後、乾燥し、これを
受容シートの支持体とする。
、厚さ10μmに下記組成液を塗工後、乾燥し、これを
受容シートの支持体とする。
(受容シート支持体組成)
ポリビニルアセタール樹脂 100部
この受容シート支持体の片方の面に、下記組成の融着防
止層を05μmの厚さに設ける。
止層を05μmの厚さに設ける。
(融着防止層組成)
シリコン変性アクリル樹脂 100部
(画像形成用マスク材原版)
実施例3と同様にして得た画像形成用マスク材原版の最
上層に、下記組成の粘着層を0.5μm設けた。さらに
、この受容シートと画像形成用マスク材原版を、粘着力
を利用して貼りあわせ一体化した。
上層に、下記組成の粘着層を0.5μm設けた。さらに
、この受容シートと画像形成用マスク材原版を、粘着力
を利用して貼りあわせ一体化した。
(粘着層)
アクリルエマルジョン系弱粘着層 100部このように
して得られたサンプルに対して、実施例2と同様反転印
字を行なったところ、画像形成用マスク材原版側にネガ
様の画像形成用マスク材が得られた。
して得られたサンプルに対して、実施例2と同様反転印
字を行なったところ、画像形成用マスク材原版側にネガ
様の画像形成用マスク材が得られた。
比較例
下記組成からなる熱溶融インク等を有する熱転写リボン
と、画像形成用マスク材原版として1゜0μm厚さのP
ETベースを用い、この2つを重ねあわせ、熱転写リボ
ン側より実施例と同様の印字条件で反転印字を行なって
画像形成用マスク材を得た。
と、画像形成用マスク材原版として1゜0μm厚さのP
ETベースを用い、この2つを重ねあわせ、熱転写リボ
ン側より実施例と同様の印字条件で反転印字を行なって
画像形成用マスク材を得た。
(熱溶融インク層組成)
カーボンブラック 30部
パラフィンワックス 20部
カルナバワックス 20部
ロジン樹脂系タッキファイア 20部
エチレン−酢ビ共重合体 10部
なお、印字品質の評価は目視て行ない、光不透過部の光
透過濃度の測定は、コニカ株式会社のPDA−65部M
度計を用いて測定した。
透過濃度の測定は、コニカ株式会社のPDA−65部M
度計を用いて測定した。
[発明の効果]
前記したように、この請求項1乃至8記載の発明は、画
像形成用マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用せ
ずに、熱転写システムを用いて簡単に画像形成用マスク
材を作成することかできる。しかも、この画像形成用マ
スク材の作成において、画像形成用マスク材原版の光不
透過性層が受容シート側へ確実に剥離転写され、高画質
化、高コントラストで、画像形成用マスク材の印字性か
向」二する。
像形成用マスク材を手数のかかる写真プロセスを利用せ
ずに、熱転写システムを用いて簡単に画像形成用マスク
材を作成することかできる。しかも、この画像形成用マ
スク材の作成において、画像形成用マスク材原版の光不
透過性層が受容シート側へ確実に剥離転写され、高画質
化、高コントラストで、画像形成用マスク材の印字性か
向」二する。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、(b)は画像形成用マスク材を作成する
一例を示す概略図、第2図(a)(b)は画像形成用マ
スク材を作成する他の例を示す概略図、第3図(a)、
(b)乃至第5図(a)、(b)は画像形成用マスク材
を作成するさらに他の例を示す概略図、第6図は通常の
感熱転写システムの説明図、第7図はこの発明の感熱転
写システム固有の問題点の説明図である。 図中符号1は画像形成用マスク材原版、2は光透過性支
持体、3は光不透過性層、4は受容シート、5は加熱印
字手段である。 (a) 第 第2 (b) (b)
一例を示す概略図、第2図(a)(b)は画像形成用マ
スク材を作成する他の例を示す概略図、第3図(a)、
(b)乃至第5図(a)、(b)は画像形成用マスク材
を作成するさらに他の例を示す概略図、第6図は通常の
感熱転写システムの説明図、第7図はこの発明の感熱転
写システム固有の問題点の説明図である。 図中符号1は画像形成用マスク材原版、2は光透過性支
持体、3は光不透過性層、4は受容シート、5は加熱印
字手段である。 (a) 第 第2 (b) (b)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光透過性支持体上に少なくとも光不透過性層を有す
る画像形成用マスク材原版の光不透過性層側と、受容シ
ートとを重ね合わせ、この受容シート背面より加熱印字
した後、この受容シートを剥離することを特徴とする画
像形成用マスク材作成方法。 2、前記画像形成用マスク材原版が、光透過性支持体最
近接に中間層を有することを特徴とする請求項1記載の
画像形成用マスク材作成方法。 3、前記画像形成用マスク材原版が、少なくとも光反射
層を有することを特徴とする請求項1記載の画像形成用
マスク材作成方法。 4、前記画像形成用マスク材原版が、光透過性支持体最
遠隔に接着層を有することを特徴とする請求項1記載の
画像形成用マスク材作成方法。 5、前記画像形成用マスク材原版が、光透過性支持体最
遠隔に粘着層を有することを特徴とする請求項1記載の
画像形成用マスク材作成方法。 6、前記受容シートが、少なくとも接着層を有すること
を特徴とする請求項1記載の画像形成用マスク材作成方
法。 7、前記受容シートが、少なくとも粘着層を有すること
を特徴とする請求項1記載の画像形成用マスク材作成方
法。 8、前記画像形成用マスク材原版及び前記受容シートの
相対する層が、同一物質を主成分とすることを特徴とす
る請求項1記載の画像形成用マスク材作成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2232744A JPH04113357A (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 画像形成用マスク材作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2232744A JPH04113357A (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 画像形成用マスク材作成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04113357A true JPH04113357A (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=16944085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2232744A Pending JPH04113357A (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 画像形成用マスク材作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04113357A (ja) |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP2232744A patent/JPH04113357A/ja active Pending
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